專利名稱：一種氨基酸西佛堿過渡金屬配合物及應(yīng)用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種氨基酸西佛堿過渡金屬配合物及其在抗菌和電致發(fā)光上的應(yīng)用。
背景技術(shù)：
西佛堿及其金屬配合物，在抗菌、催化、磁性、光學(xué)、電化學(xué)、非線性光學(xué)、化學(xué)傳感器等領(lǐng)域，有廣泛的用途，因此成為當(dāng)前研究的熱點。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種氨基酸西佛堿過渡金屬配合物及應(yīng)用。氨基酸西佛堿過渡金屬配合物配體的結(jié)構(gòu)式為:
權(quán)利要求
1.一種氨基酸西佛堿過渡金屬配合物，其特征在于氨基酸西佛堿過渡金屬配合物分子結(jié)構(gòu)式為:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氨基酸西佛堿過渡金屬配合物的應(yīng)用，其特征在于所述氨基酸西佛堿過渡金屬配合物應(yīng)用于抗菌和電致發(fā)光領(lǐng)域。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種氨基酸西佛堿過渡金屬配合物及應(yīng)用。氨基酸西佛堿過渡金屬配合物的結(jié)構(gòu)式為；式中，M為Cu、Zn、Ni和Co中的一種；所述配合物應(yīng)用在抗菌和電致發(fā)光領(lǐng)域；本發(fā)明氨基酸西佛堿過渡金屬配合物對歐文氏草生桿菌，大腸桿菌及金黃色葡萄球菌都有不同程度的抗菌效果，且應(yīng)用于電致發(fā)光器件中，具有電子傳輸性優(yōu)越、環(huán)境穩(wěn)定性好、發(fā)光效率高、操作壽命長和制造成本低等優(yōu)點。
文檔編號C09K11/06GK103113393SQ20131007289
公開日2013年5月22日 申請日期2013年3月7日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月7日
發(fā)明者丁國華, 江道勇, 高蕊 申請人:桂林理工大學(xué)