1.一種光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權利要求1所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于：所述陣列加工機構包括若干個間隔設置的打印單元，每個打印單元獨立供料和供氣。
3.根據(jù)權利要求1所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于：每個打印單元設有視覺觀測及調節(jié)單元（6），所述視覺觀測及調節(jié)單元用于實時觀測打印單元的加工狀態(tài)，并調整打印單元的位置。
4.根據(jù)權利要求2所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于：所述打印單元包括打印閥（51）、供料料筒（52）、供氣系統(tǒng)以及液位傳感器（53），所述液位傳感器用于實時檢測打印閥的出料狀態(tài)及供料料筒的液位。
5.根據(jù)權利要求3所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于：所述視覺觀測及調節(jié)單元包括視覺觀測模組（61）、自動移動模組（62）和第一輔助光源（63），所述視覺觀測模組用于實時觀測打印單元的加工狀態(tài)，所述自動移動模組用于調整打印單元的位置，所述第一輔助光源用于為視覺觀測模組提供補償光。
6.根據(jù)權利要求1所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于：所述視覺標定系統(tǒng)包括第一視覺標定單元（11）和第二視覺標定單元（12），所述第一視覺標定單元的視野范圍大于所述第二視覺標定單元的視野范圍；所述第一視覺標定單元用于粗標定；所述第二視覺標定單元用于精密標定。
7.根據(jù)權利要求6所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于：所述第一視覺標定單元包括第一視覺相機（111）和第二輔助光源（112），所述第二輔助光源用于為第一視覺相機提供補償光。
8.根據(jù)權利要求6所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于：所述第二視覺標定單元包括第二視覺相機（121）和第三輔助光源（122），所述第三輔助光源用于為第二視覺相機提供補償光。
9.根據(jù)權利要求1所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于：所述高度位移系統(tǒng)設有輔助固定夾具（21），所述高度位移系統(tǒng)通過輔助固定夾具固定于視覺標定系統(tǒng)的側下方。
10.根據(jù)權利要求1所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于：所述自動調節(jié)機構包括x軸移動模組（41）、y軸移動模組（42）、z軸移動模組（43），所述x軸移動模組用于調節(jié)陣列加工機構與基板在x軸方向的相對位置；所述y軸移動模組用于調節(jié)陣列加工機構與基板在y軸方向的相對位置；所述z軸移動模組用于調節(jié)陣列加工機構與基板在z軸方向的相對位置。
11.根據(jù)權利要求10所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，其特征在于：所述自動調節(jié)機構還包括位移傳感器，所述位移傳感器用于實時檢測陣列加工機構與基板在x軸方向、y軸方向和z軸方向的相對位置。
12.一種光場微透鏡陣列多軸加工方法，其特征在于：采用如權利要求1~11任意一項所述的光場微透鏡陣列多軸加工裝置，包括以下步驟：
13.根據(jù)權利要求12所述的光場微透鏡陣列多軸加工方法，其特征在于：所述視覺標定系統(tǒng)包括第一視覺標定單元和第二視覺標定單元，所述第一視覺標定單元的視野范圍大于所述第二視覺標定單元的視野范圍；步驟s1中，先采用第一視覺標定單元進行粗標定，然后通過第二視覺標定單元進行精密標定。
14.根據(jù)權利要求12所述的光場微透鏡陣列多軸加工方法，其特征在于：所述陣列加工機構包括若干個間隔設置的打印單元，每個打印單元設有視覺觀測及調節(jié)單元；步驟s3中，采用視覺觀測及調節(jié)單元實時觀測打印單元的加工狀態(tài)，并調整打印單元的位置。