技術(shù)特征：

1.一種西瓜幼苗耐低溫葉面積性狀的kasp分子標(biāo)記，其特征在于，位于西瓜基因組11號染色體的16128196bp處，前后50bp的序列如seq?id?no.1或seq?id?no.2所示。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的kasp分子標(biāo)記，其特征在于，所述kasp分子標(biāo)記基因型為c或t；c基因型前后50bp的序列如seq?id?no.1所示，對應(yīng)的表型為非耐低溫型；t基因型前后50bp的序列如seq?id?no.2所示，對應(yīng)的表型為耐低溫型。

3.一種權(quán)利要求1或2所述的kasp分子標(biāo)記在鑒定西瓜幼苗低溫條件下葉面積大小基因方面的用途。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用途，其特征在于，分子標(biāo)記引物選自如下引物對，其中，核苷酸序列為5’-3’：

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用途，其特征在于，包括以下步驟：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用途，其特征在于，步驟（2）中，所述pcr擴增使用的pcr反應(yīng)體系為：20~50?ng/μl西瓜基因組dna?5.0?μl，kasp?master?mix5.0?μl，kasp?assay?mix0.14μl?；所述kasp?assay?mix?包含正向引物f-hex、正向引物f-fam和反向引物r，f-hex：f-fam：r的摩爾濃度比為?2：2：5，共10.14μl；pcr程序為：94℃?預(yù)變性，15?分鐘；94℃，變性20?秒；61?℃，-0.6℃/循環(huán)，退火60?s，共10個循環(huán)；再94?℃變性20?s，55?℃退火60?s，29個循環(huán)。

7.一種權(quán)利要求1或2所述kasp分子標(biāo)記在西瓜低溫條件下葉面積大小的分子輔助育種方面的用途。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種西瓜幼苗耐低溫葉面積性狀的KASP分子標(biāo)記及用途。本發(fā)明獲得的分子標(biāo)記LAC為西瓜耐低溫響應(yīng)控制葉面積變化基因的KASP標(biāo)記，能用于鑒定西瓜低溫條件下葉面積大小基因以及耐低溫西瓜的輔助育種，將低溫條件下葉面積減少的基因供體W?X西瓜與低溫條件下葉面積增加的基因供體W?Y西瓜進行雜交，然后通過結(jié)合標(biāo)記輔助選擇。本發(fā)明可以替代大規(guī)模低溫逆境處理的表型篩選，減少田間工作量以及因逆境處理導(dǎo)致的植株損失，極大提高了篩選的準(zhǔn)確性與效率。

技術(shù)研發(fā)人員：胡仲遠,周志勤,張明方,楊景華,呂小龍
受保護的技術(shù)使用者：浙江大學(xué)海南研究院
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/9/26