一種高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于觸摸面板材料領(lǐng)域，尤其是一種高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具。
【背景技術(shù)】
[0002]未來移動(dòng)終端、可穿戴設(shè)備、智能家電等產(chǎn)品，對(duì)觸摸面板有著強(qiáng)勁需求，同時(shí)隨著觸控面板大尺寸化、低價(jià)化，以及傳統(tǒng)ITO薄膜不能用于可彎曲應(yīng)用，導(dǎo)電性及透光率等本質(zhì)問題不易克服等因素，眾面板廠商紛紛開始研宄ITO的替代品，包括納米銀線、金屬網(wǎng)格、納米碳管以及石墨烯等材料。其中，金屬網(wǎng)格因具有成本最低、導(dǎo)電性能良好的特性，在市場(chǎng)中的應(yīng)用也最為廣泛。
[0003]現(xiàn)有的用于制備金屬網(wǎng)格的金屬網(wǎng)格模具，包括透明基材，透明基材上涂布塑膠薄膜，塑膠薄膜上壓印有金屬網(wǎng)格凹槽，金屬網(wǎng)格凹槽的橫截面為矩形，其上下寬度一致。在使用過程中，只要向金屬網(wǎng)格凹槽內(nèi)鍍滿金、銀、銅、鋁等低電阻值金屬材料，再采用光阻剝離液將光阻層溶出，就可制得金屬網(wǎng)格。采用現(xiàn)有的金屬網(wǎng)格模具制得的金屬網(wǎng)格的與透明基材接觸位置、遠(yuǎn)離透明基材位置的寬度相等，而與透明基材接觸的金屬網(wǎng)格位置寬度越寬，對(duì)光的反射率越強(qiáng)，越容易出現(xiàn)莫瑞干涉波紋，其分辨率越差；遠(yuǎn)離透明基材的金屬網(wǎng)格位置的寬度越寬，其導(dǎo)電率越好，因此，采用現(xiàn)有的金屬網(wǎng)格模具無法制得兼具低發(fā)射率和高導(dǎo)電率雙重優(yōu)良特性的金屬網(wǎng)格。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型旨在提供一種高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具，該模具適用于金、銀、銅、鋁等所有低電阻金屬的金屬網(wǎng)格制備，并且，制備的金屬網(wǎng)格上寬下窄，兼具高導(dǎo)電率低反射率的雙重優(yōu)良特性。
[0005]一種高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具，包括透明基材，透明基材上鋪設(shè)光阻層，光阻層為兩層蝕刻速率不同的光阻層疊加而成；且，上層光阻層為高電漿蝕刻速率電阻層，下層光阻層為低電漿蝕刻速率電阻層，電阻層上開設(shè)有電路網(wǎng)格凹槽，電路網(wǎng)格凹槽的底部延伸至透明基材的上表面，電路網(wǎng)格凹槽上寬下窄。這樣的金屬網(wǎng)格模具適用于金、銀、銅、鋁等所有低電阻金屬的金屬網(wǎng)格制備；并且，所制得的金屬網(wǎng)格，其與透明基材接觸的位置，線寬窄，可盡量降低其反射率，避免出現(xiàn)莫瑞干涉波紋；同時(shí)，在遠(yuǎn)離透明基材的區(qū)域，線寬較大，又可盡量維持較高的導(dǎo)電率，尤其適合應(yīng)用于大尺寸觸控面板，另外，本實(shí)用新型的光阻層為兩層蝕刻速率不同的光阻層疊加而成，且，上層光阻層為高電漿蝕刻速率電阻層，下層光阻層為低電漿蝕刻速率電阻層的結(jié)構(gòu)，為在電阻層上開設(shè)上寬下窄的電路網(wǎng)格凹槽提供了必要條件。
[0006]本實(shí)用新型的高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具，可進(jìn)一步改進(jìn):金屬網(wǎng)格凹槽橫截面的兩側(cè)邊線均為非直線。此種模具所制得的金屬網(wǎng)格的與透明基材接觸的位置，線寬更窄，反射率更低，確保不會(huì)出現(xiàn)莫瑞干涉波紋；同時(shí)，在遠(yuǎn)離透明基材的區(qū)域，線寬更大，可維持更高的導(dǎo)電率。
【附圖說明】
[0007]圖1為本實(shí)用新型的透明基板涂布光阻層后的結(jié)構(gòu)圖；
[0008]圖2為本實(shí)用新型的透明基板上進(jìn)行光阻層壓印的工作結(jié)構(gòu)圖，其中，箭頭方向?yàn)楫?dāng)時(shí)壓印模板的移動(dòng)方向；
[0009]圖3為采用本實(shí)用新型的金屬網(wǎng)格模具的截面圖；
[0010]圖4為采用本實(shí)用新型的金屬網(wǎng)格模具制得的金屬網(wǎng)格的截面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]現(xiàn)結(jié)合附圖具體說明本實(shí)用新型的實(shí)施方式:
[0012]一種高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具，包括透明基材3，透明基材3上鋪設(shè)光阻層(1、2)，光阻層(1、2)為兩層蝕刻速率不同的光阻層疊加而成；且，上層光阻層I為高電漿蝕刻速率電阻層，下層光阻層2為低電漿蝕刻速率電阻層，電阻層(1、2)上開設(shè)有電路網(wǎng)格凹槽6，電路網(wǎng)格凹槽6的底部延伸至透明基材I的上表面，電路網(wǎng)格凹槽6上寬下窄(如圖3所示)。
[0013]本實(shí)用新型的金屬網(wǎng)格模具適用于金、銀、銅、鋁等所有低電阻金屬的金屬網(wǎng)格制備；并且，所制得的金屬網(wǎng)格7，其與透明基材3接觸的位置，線寬窄，可盡量降低其反射率，避免出現(xiàn)莫瑞干涉波紋；同時(shí)，在遠(yuǎn)離透明基材3的區(qū)域，線寬較大，又可盡量維持較高的導(dǎo)電率，尤其適合應(yīng)用于大尺寸觸控面板。
[0014]本實(shí)用新型的高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具，可進(jìn)一步改進(jìn):金屬網(wǎng)格凹槽6橫截面的兩側(cè)邊線60均為非直線。此種模具所制得的金屬網(wǎng)格的與透明基材3接觸的位置，線寬更窄，反射率更低，確保不會(huì)出現(xiàn)莫瑞干涉波紋；同時(shí)，在遠(yuǎn)離透明基材3的區(qū)域，線寬更大，可維持更高的導(dǎo)電率。
[0015]本實(shí)用新型的高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具的制備方法，包括以下步驟:
[0016](I)在透明基材3上涂布光阻層(1、2)，光阻層厚度為20~60微米，光阻層為兩層蝕刻速率不同的光阻層疊加而成(如圖1~3所示);且，上層光阻層I所選用的光阻材料的電漿蝕刻速率大于下層光阻層2所選用的光阻材料的電漿蝕刻速率；
[0017](2)采用底部帶有電路圖案凸起的壓印模板4對(duì)光阻層(1、2)進(jìn)行壓印，拔出壓印模板4后，在光阻層(1、2)內(nèi)形成電路圖案溝槽5 (如圖2所示)；
[0018](3)對(duì)壓印后的光阻層(1、2)進(jìn)行電漿蝕刻，露出透明基材3，其中，電漿蝕刻條件為:電漿功率為2000~3000瓦，蝕刻時(shí)間為2~30分鐘，在透明基材3上形成上寬下窄的金屬網(wǎng)格溝槽6，制得金屬網(wǎng)格模具(如圖3所示)。
[0019]在使用過程中，只要向金屬網(wǎng)格凹槽6內(nèi)鍍滿金、銀、銅、鋁等低電阻值金屬材料，再采用光阻剝離液將光阻層(1、2)溶出，就可制得金屬網(wǎng)格7 (如圖4所示)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具，包括透明基材，其特征在于:透明基材上鋪設(shè)光阻層，光阻層為兩層蝕刻速率不同的光阻層疊加而成；且，上層光阻層為高電漿蝕刻速率電阻層，下層光阻層為低電漿蝕刻速率電阻層，電阻層上開設(shè)有電路網(wǎng)格凹槽，電路網(wǎng)格凹槽的底部延伸至透明基材的上表面，電路網(wǎng)格凹槽上寬下窄。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具，其特征在于:金屬網(wǎng)格凹槽橫截面的兩側(cè)邊線均為非直線。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種高導(dǎo)電率低反射率金屬網(wǎng)格模具，其包括透明基材，透明基材上鋪設(shè)光阻層，光阻層為兩層蝕刻速率不同的光阻層疊加而成；且，上層光阻層為高電漿蝕刻速率電阻層，下層光阻層為低電漿蝕刻速率電阻層，電阻層上開設(shè)有電路網(wǎng)格凹槽，電路網(wǎng)格凹槽的底部延伸至透明基材的上表面，電路網(wǎng)格凹槽上寬下窄。本實(shí)用新型的金屬網(wǎng)格模具適用于金、銀、銅、鋁等所有低電阻金屬的金屬網(wǎng)格制備；并且，所制得的金屬網(wǎng)格兼具高導(dǎo)電率低反射率的雙重優(yōu)良特性。
【IPC分類】G06F3-041
【公開號(hào)】CN204537090
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520085215
【發(fā)明人】林杰, 侯則良, 王維綱
【申請(qǐng)人】福建省諾?？萍紙@發(fā)展有限公司
【公開日】2015年8月5日
【申請(qǐng)日】2015年2月6日