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用于氨氧化的催化劑的制作方法

文檔序號:10517161閱讀:689來源:國知局
用于氨氧化的催化劑的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于氨氧化的雙金屬催化劑,一種用于制備用于氨氧化的雙金屬催化劑的方法和一種用于調(diào)節(jié)過渡金屬的催化活性的方法。通過在更高催化活性金屬上沉積更低催化活性金屬的覆蓋層,增強(qiáng)了總催化活性。
【專利說明】
用于氨氧化的催化劑
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及一種用于氨氧化的雙金屬催化劑。
[0002] 本發(fā)明還涉及一種用于制備用于氨氧化的雙金屬催化劑的方法,并涉及一種用于 調(diào)節(jié)金屬的催化反應(yīng)性的方法。
【背景技術(shù)】
[0003] 氨氧化反應(yīng)具有許多重要應(yīng)用。
[0004] -個重要應(yīng)用是在氨裂解系統(tǒng)中氨的燃燒被用于提供用于氨裂解反應(yīng)的熱,以從 氨生成氫,例如在W0 2011/107279中所示的。
[0005] 具有比第一個大得多的需求的另一個應(yīng)用是用于汽車柴油機(jī)尾氣的氨輔助的選 擇性催化還原(SCR)后逸出氨的去除。柴油機(jī)產(chǎn)生氮氧化物(NOx),其對人類健康是嚴(yán)重有 害的,為了遵循法規(guī),柴油機(jī)的尾氣進(jìn)行NOx去除處理。一個廣泛使用的處理就是SCR,其中 氨被添加到尾氣。為了使NOx濃度水平達(dá)到預(yù)期的水平,添加的氨通常比反應(yīng)需要的更多。 這導(dǎo)致需要由燃燒去除的氨逸出。
[0006] 第三個重要應(yīng)用是從沼氣發(fā)電廠去除氨,其如果不去除,則燃燒后會產(chǎn)生NOx。
[0007] 對于所有這些應(yīng)用,氨氧化的低溫點(diǎn)火是必需的。目前在這些氨氧化過程中使用 的催化劑是基于稀缺和昂貴的金屬,如?七和?(1,例如在1^ 5,587,134和1^ 7,722,845中描 述的。
[0008] 因此,改進(jìn)的催化劑將是有利的,尤其是更有效的,具有更高的催化活性和/或比 較廉價(jià)的催化劑將是有利的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 發(fā)明目的
[0010] 本發(fā)明的一個目的是提供用于氨氧化的具有增強(qiáng)的催化活性的催化劑。
[0011] 可以被看作為本發(fā)明的一個目的是提供用于調(diào)節(jié)金屬層的催化活性的方法。
[0012] 本發(fā)明的進(jìn)一步的目的是提供現(xiàn)有技術(shù)的替代方案。
[0013] 特別地,可以被看作為本發(fā)明的一個目的是提供一種催化劑,其用基于更廉價(jià)和 更豐富的金屬的用于氨氧化的新型催化材料解決了現(xiàn)有技術(shù)的上述問題。
[0014] 發(fā)明簡述
[0015] 因此,上述目的和其他幾個目的旨在通過提供用于氨氧化的雙金屬催化劑在本發(fā) 明的第一方面獲得,該雙金屬催化劑包括:第一金屬層;第二金屬層;和基底;其中所述第一 金屬層位于所述第二金屬層上,且其中所述第二金屬層位于所述基底上。
[0016] 雙金屬的(metal lie)被定義為包括至少兩種金屬(metal)或金屬(metal lie)層。 金屬(metal)或金屬(metallie)層包括或由在其純金屬形式的金屬元素,即,在其零氧化 態(tài),即,作為自由未化合的元素組成。
[0017] 金屬(metal)元素或金屬(metal lie)元素可為堿金屬、堿土金屬、過渡金屬、后過 渡金屬、鑭系或錒系。
[0018] 根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的金屬元素為過渡金屬。
[0019] 在一些實(shí)施方案中,第一金屬層包括或由非貴金屬元素組成且第二金屬層包括或 由貴金屬元素組成。
[0020] 在一些其他實(shí)施方案中,第一和第二金屬層包括或由貴金屬元素組成。
[0021] 在一些其他實(shí)施方案中,第一和第二金屬層包括或由非鉑類金屬元素組成。
[0022] 第一金屬層位于第二金屬層上,從而第一金屬層為將在操作下與氨流接觸的催化 劑的外表面。
[0023] 操作下的催化劑將與氨和氧氣的流接觸。
[0024] 在一些實(shí)施方案中,第一金屬層是比第二金屬層的金屬對氨氧化有更低催化活性 的金屬層。
[0025] 本發(fā)明源于令人驚訝的觀察,即包括兩個金屬層的催化劑(其中頂層比底層的催 化活性更低)對氨氧化的催化活性高于那種具有單金屬層的催化劑。
[0026] 令人驚訝的是,相比于單層催化劑,沉積在更高催化活性的金屬層上的更低催化 活性的金屬層增加了催化劑的總催化活性。
[0027]因此,在一些實(shí)施方案中,第二金屬層是比第一金屬層的金屬對氨氧化有更高催 化活性的金屬層。
[0028]通常,具有貴金屬,諸如Ru的金屬層的催化劑比具有次貴金屬,諸如Cu的單層的催 化劑對氨氧化顯示更高的催化活性。
[0029]然而出人意料的是,具有負(fù)載在基底上的Ru層上的Cu層的催化劑比具有負(fù)載在同 一基底上的Cu的單層或Ru的單層的催化劑對氨氧化具有更高的催化活性。
[0030] 因此,在一些實(shí)施方案中,第一金屬層為Cu層。
[0031] 在一些實(shí)施方案中,Cu層僅由處于其零氧化態(tài)的金屬銅,即,作為自由未化合的元 素組成。
[0032]在一些其他實(shí)施方案中,第一金屬層或頂部金屬層可由Fe或Co或Ag組成。
[0033]在一些其他實(shí)施方案中,第二金屬層是Ru層。
[0034]在一些實(shí)施方案中,Ru層僅由處于其零氧化態(tài)的金屬Ru,即,作為自由未化合的元 素組成。
[0035]在一些其他實(shí)施方案中,第二或底部金屬層可由Rh、Pt或Pd組成。
[0036] 因此,雙金屬層的實(shí)例可以是Cu/Ru、Cu/Rh、Fe/Ru、Co/Ru、Ag/Pt或Ag/Pd。在一些 實(shí)施方案中,當(dāng)?shù)谝粚映练e在第二金屬層的頂部時,第一層在第二層的底部上分離且第一 層或頂層的d帶被改變,如相比費(fèi)米能級向上或向下移位。
[0037]特別地,具有在第二金屬層上第一金屬層的所需厚度的雙金屬催化劑已經(jīng)顯示增 強(qiáng)的催化活性。
[0038] 在一些實(shí)施方案中,第一金屬層具有0.1至10單層,例如0.5至5單層的厚度。
[0039] 在一些實(shí)施方案中,第一金屬層具有0.1至3單層的厚度。
[0040] 在一些實(shí)施方案中,第一金屬層具有0.8單層的厚度。
[0041 ]在一些其他實(shí)施方案中,第一金屬層具有1單層的厚度。
[0042]制備催化劑的試驗(yàn)表明,銅覆蓋層影響Ru層的催化劑活性,而且令人驚奇的是可 發(fā)現(xiàn)最佳厚度,例如ο. 8單層Ru上的Cu相比于單層催化劑可產(chǎn)生對氨具有雙倍的催化活性 的催化劑。
[0043] 在本文中厚度以單層報(bào)道。厚度也可以被稱為以埃,即報(bào)道,其中1單層對應(yīng) 于2.56 A的Cu層厚度。所報(bào)道的厚度假定第一金屬層到第二金屬層上的沉積是兩維(2D) 的形式,即作為連續(xù)的單層。然而,該沉積可以是不連續(xù)的,即可以形成島狀。因此,以單位 長度提及的厚度,即A或單層應(yīng)被視為平均厚度,假定沉積以二維形式發(fā)生。
[0044] 在一些實(shí)施方案中,第二金屬層和第一金屬層的重量比在1:0.05至1:0.5之間的 范圍。例如,已經(jīng)在具有1:0.3的Ru對Cu重量比的雙金屬催化劑中表明增加的活性。
[0045] 在一些實(shí)施方案中,第一金屬層的金屬被分離到第二金屬層上。
[0046] 第一金屬層分離到第二金屬層的表面上形成第二金屬層上第一金屬層穩(wěn)定的表 面覆蓋層。
[0047] 在一些其他實(shí)施方案中,第一金屬層的金屬與第二金屬層的金屬不形成合金。第 一金屬層的金屬與第二金屬層的金屬,也被稱為宿主不形成合金。
[0048]第一和第二金屬層是不可混溶的,因?yàn)闊崃W(xué)上這兩種金屬由于合金形成的正熱 是不能混溶的。這導(dǎo)致如下特征的明顯的結(jié)構(gòu),位于基底上的第二金屬的層和第二金屬層 上的覆蓋層或第一金屬。
[0049]令人驚奇的是,比墊層的金屬對氨氧化具有更低催化活性的分離的金屬的覆蓋層 相比于單金屬層催化劑產(chǎn)生增加的催化劑的總催化活性。
[0050]通常,基底具有支撐催化劑的功能。
[0051 ]在一些實(shí)施方案中,基底是金屬氧化物。
[0052]例如,基底的金屬氧化物可以是二氧化鈦、氧化鋁、二氧化硅或二氧化鈰。
[0053] 在其他實(shí)施方案中,基底是沸石或沸石材料的組合。
[0054] 例如,基底的沸石可以是β沸石或Y沸石。
[0055] 本發(fā)明特別,但并不排他地,有利于獲得具有更高催化活性的催化劑,其比現(xiàn)有的 催化劑更廉價(jià)。
[0056] 在本發(fā)明的第二個方面,提供了一種用于制備根據(jù)本發(fā)明的第一方面的雙金屬催 化劑的方法;該方法包括:向所述基底上沉積第二金屬層;并隨后向第二金屬層上沉積第一 金屬層。
[0057]本發(fā)明還涉及制備所述催化劑的方法,通過制備負(fù)載有第二金屬層,例如釕的載 體,例如氧化鋁(Α12〇3)載體并隨后沉積第一金屬層,例如銅。
[0058] 所述方法可包括每次沉積后的氫氣還原。
[0059] 沉積步驟進(jìn)行的順序決定催化劑的活性。
[0060] 事實(shí)上,由第一和第二金屬層的共蒸發(fā)制備的催化劑不如通過首先沉積第二金屬 層并隨后沉積第一金屬層制備的覆蓋層結(jié)構(gòu)有活性。
[0061] 第一和第二金屬層的共蒸發(fā)是同時的。
[0062] 然而,通過共蒸發(fā)制備的催化劑仍比具有更低活性金屬,例如銅的單層的催化劑 表現(xiàn)更好,但不如具有具有高活性的純金屬,例如釕的單層催化劑。
[0063] 此外,向本體加入更低活性的金屬,相比于根據(jù)第二方面;即,通過連續(xù)沉積制備 的催化劑沒有提高總催化性能。
[0064] 在本發(fā)明的第三方面提供了一種通過改變金屬的d帶中心的位置調(diào)節(jié)金屬層的催 化活性的方法。
[0065] 本發(fā)明的這個方面特別地,但不排他地,有利的在于根據(jù)本發(fā)明的一個方面的方 法,可通過使用更廉價(jià)的金屬層作為覆蓋層來調(diào)節(jié)其催化活性,從而提高催化活性和降低 由于所用材料的價(jià)格的最終成本。
[0066] 在根據(jù)本發(fā)明的第三方面的方法的一些實(shí)施方案中,所述方法包括將金屬層作為 覆蓋層沉積到過渡金屬層上。
[0067] 在一些實(shí)施方案中,沉積包括沉積覆蓋層的所需厚度。例如所需厚度可為0.1至3 單層。在一些其他實(shí)施方案中,所需厚度為1單層。在一些其他實(shí)施方案中,所需厚度為0.8 單層。
[0068]在根據(jù)第三方面的一些實(shí)施方案中,過渡金屬層和金屬覆蓋層的重量比為1:0.1 至1:0.5的范圍。
[0069] 在本發(fā)明的另一個方面,提供了用于根據(jù)本發(fā)明的第一方面調(diào)節(jié)雙金屬催化作用 的催化活性的方法,其包括在第二金屬層上沉積第一金屬層,從而改變第一金屬層的金屬 的d-帶中心的位置。
[0070] 本發(fā)明的第一,第二和第三和其他方面和/或?qū)嵤┓桨缚梢愿髯耘c任何其他方面 和/或?qū)嵤┓桨高M(jìn)行組合。本發(fā)明的這些和其他方面和/或?qū)嵤┓桨笍南挛牡拿枋鰧⑹敲黠@ 的,并且參考下文描述的實(shí)施方案進(jìn)行說明。
【附圖說明】
[0071] 現(xiàn)在將參考附圖更加詳細(xì)地描述根據(jù)本發(fā)明的催化劑和方法。附圖示出實(shí)施本發(fā) 明的一種方式,并且不被解釋為限制落入所附權(quán)利要求組的范圍內(nèi)的其他可能的實(shí)施方 案。
[0072] 圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方案對于改變5〇 A層的釕上銅的厚度Cu/Ru覆 蓋層結(jié)構(gòu)的活性。
[0073] 圖2示出了由兩種金屬的共蒸發(fā)制備的共蒸發(fā)薄膜的活性。
[0074] 圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方案,兩種金屬重量%比例相對于標(biāo)準(zhǔn)化的催 化轉(zhuǎn)化率。
[0075] 圖4是根據(jù)本發(fā)明一些實(shí)施方案的方法的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0076]已經(jīng)制備并測試了一些Cu/Ru催化體系。
[0077]在一些實(shí)施例中,材料,即Cu/Ru,已經(jīng)在具有受控氣氛的表面科學(xué)實(shí)驗(yàn)裝置中合 成。在超高真空(UHV)中進(jìn)行實(shí)驗(yàn)的裝置具有基準(zhǔn)壓力lxl(T1()托。它結(jié)合了電子束蒸發(fā)器和 表面科學(xué)方法如X射線光電子能譜(XPS)和離子散射能譜(ISS),用于使用使催化測試高達(dá)1 巴的反應(yīng)氣體的高壓細(xì)胞(HPC)表征。
[0078] -些Cu/Ru體系在Ti02基底上蒸發(fā)用于改變5〇ARu薄膜上銅的覆蓋層厚度。沉積 催化劑后,Cu/Ru斑點(diǎn)通過XPS表征并轉(zhuǎn)移到HPC,在此斑點(diǎn)暴露于反應(yīng)氣體的且溫度逐步傾 斜上升和下降。
[0079] 為了測試催化活性,將Ti02樣品移動到HPC中,在此反應(yīng)氣體的組成和流量可以由 流量控制器來控制。HPC的出口通過壓力控制器連接到低真空管線,壓力控制器將壓力調(diào)節(jié) 至1巴。對于高壓氨氧化反應(yīng),使用在氬氣中稀釋的5. OOOppm的NH3和在氬氣中稀釋的 5. OOOppm的02的N6氣體。HPC氣體組成為1:1 APC中的氨氧化用Balzers四極質(zhì)譜儀追蹤。用 玻璃毛細(xì)管插入噴嘴裝置中使壓力降低因子1〇_6托,以避免來自相鄰金屬斑點(diǎn)的溢出效應(yīng)。 在實(shí)驗(yàn)期間,測量若干與氨氧化有關(guān)的質(zhì)量以使其能夠從水中區(qū)分氨并研究N0 X的形成。
[0080] 在UHV裝置中催化劑斑點(diǎn)在懸浮在鎢-細(xì)絲上的10xl0mm2Ti02(110)金紅石單晶上 蒸發(fā)。用粘在Ti0 2基底側(cè)面的熱電偶測量溫度。蒸發(fā)器使用電子束,以在一個或多個金屬上 同時做物理氣相沉積(PVD)。圓形遮罩確保良好限定的1mm直徑大小的圓形斑點(diǎn)。沉積的催 化劑斑點(diǎn)的速率,比例和厚度使用石英晶體微量天平(QCM)測定。制備的薄膜的厚度為 50 A。
[0081] 測試后,催化劑斑點(diǎn)進(jìn)一步通過XPS和ISS表征以研究在測試階段的變化。覆蓋層 結(jié)構(gòu)的活性示于圖1中。在四極質(zhì)譜儀(QMS)中測得的信號使用氬信號歸一化,因?yàn)橥ㄟ^玻 璃毛細(xì)管的泄漏是隨溫度變化的。
[0082] 隨著28AMU信號中的增強(qiáng)測量活性,排除⑶的貢獻(xiàn)。同樣地,作為氧在氨氧化過程 中被消耗了的標(biāo)志,32AMU的信號減弱。在17,16和15AMU上測量氨水平,其隨著溫度的升高 而下降。該模型系統(tǒng)對清潔燃燒是100%選擇性的,因?yàn)閷τ谌我粋€在Ti0 2上的催化Cu/Ru 斑點(diǎn)沒有觀察到N0x。
[0083] Cu/Ru體系比純釕和銅兩者對氨燃燒表現(xiàn)出更高的活性?;鹕角€上觀察到釕上 銅覆蓋層的厚度為0.8單層(ML)的最佳厚度。向釕薄膜添加大約單層的銅覆蓋層提高了催 化活性,與釕催化劑相比Cu/Ru體系幾乎好100%。純釕表現(xiàn)出高的活性,但是通過具有銅覆 蓋層在模型系統(tǒng)中和對于高表面積的催化劑兩者均提高了。在圖1中隨著系統(tǒng)在0.25-2ML, 即0.6-5 A的范圍內(nèi)對于銅覆蓋層表現(xiàn)更好,銅覆蓋層厚度在〇-2ML,即,〇-5 A變化。Cu/Ru 體系的催化性能對銅覆蓋層的厚度非常敏感。Ru上銅覆蓋層的沉積導(dǎo)致增強(qiáng)的催化活性。
[0084] 進(jìn)一步研究共蒸發(fā)金屬的薄膜,在圖2中測試它們的活性。共蒸發(fā)膜不如覆蓋層結(jié) 構(gòu)有活性,但仍比純Cu表現(xiàn)好但比純Ru薄膜差。向主體中添加銅,在銅作為覆蓋層的情況下 不能提高薄膜的催化性能。
[0085] 共蒸發(fā)薄膜較低的活性可根據(jù)ISS和XPS分析解釋為在測試階段期間未到達(dá)平衡 結(jié)構(gòu)。分離中明顯的趨勢導(dǎo)致最有活性的覆蓋層結(jié)構(gòu)和對于氨氧化的Cu/Ru體系的穩(wěn)定構(gòu) 型。
[0086] 為了測試在真實(shí)催化劑中的活性,將Cu/Ru體系進(jìn)一步應(yīng)用到高表面積氧化鋁載 體。高表面積催化劑通過初濕含浸法制備。水合RuC1 3.xH20溶解在微孔水中,根據(jù)氧化鋁粉 末(目標(biāo)為Ru以1重量%負(fù)載在氧化鋁上)的批量大小倒入適量的微孔水。將催化劑在室溫 下干燥至少過夜。然后將催化劑在~20ml/min純H2流中在500°C下還原2小時。還原后立即 將催化劑用對應(yīng)于各種Cu對Ru餾分不同量的銅(II)硝酸鹽浸漬。將催化劑在室溫下過夜干 燥,并在測試前立即原位還原。
[0087] 在活塞式流動反應(yīng)器裝置中測試高表面積催化劑。將催化劑懸浮于嵌在石英棉中 的玻璃管中。將反應(yīng)器放置在爐中,并由k-型熱電偶分別測量催化劑和爐的溫度。反應(yīng)器的 入口連接到氣體歧管,在此反應(yīng)物混合且組分由流量控制器設(shè)置。對于實(shí)驗(yàn),流量設(shè)置為 10.75ml/min的氬氣中5000ppm的NH3,4ml/min的氬氣中1 %〇2和lOml/min氬氣以保持化學(xué)計(jì) 量條件。通過FTIR光譜儀測量反應(yīng)器的出口,并且由壓力控制器將壓力調(diào)節(jié)到1巴。
[0088] 圖3示出了通過將Cu添加到5:〇 A的釕層上實(shí)現(xiàn)的標(biāo)準(zhǔn)化催化轉(zhuǎn)化率。在〇%Cu, 100%Ru處,催化活性對應(yīng)于純釕的催化活性。由此可以看出,通過增加 Cu的量高達(dá)30重 量%,即70重量%的此,提高了催化轉(zhuǎn)化率。在100 %Cu,即0%Ru處,純Cu的催化轉(zhuǎn)化率約為 0.5%,從而低于覆蓋層結(jié)構(gòu)的催化活性且低于純Ru層的催化活性。
[0089] 對于高表面積催化劑,催化劑活性的系統(tǒng)變化,可由催化劑的Cu負(fù)載的變化觀察 到??梢钥吹剑?dāng)Cu加入到Ru時,相對于Cu和Ru兩者的活性,活性顯著增加。在這種情況下, 如在圖1和圖3中所示,當(dāng)加入的Ru對Cu重量比為1:0.3時有一個最大值。
[0090] 通過共浸漬進(jìn)一步合成高表面積催化劑,然而Cu/Ru顆粒表現(xiàn)出低活性。為使Cu/ Ru體系對氨氧化表現(xiàn)出高活性,釕和銅需要依次浸漬。
[0091 ]圖4是根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方案的方法的流程圖。
[0092] 用于制備雙金屬催化劑的方法包括以下步驟:S1,向基底,例如氧化鋁沉積第二金 屬層,例如Ru層;并隨后,S2,向第二金屬層沉積第一金屬層,例如Cu層。
[0093] 雖然本發(fā)明已經(jīng)結(jié)合特定實(shí)施方案進(jìn)行了描述,但不應(yīng)被解釋為以任何方式限制 為所呈現(xiàn)的實(shí)施例。本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求組限定。在權(quán)利要求書的上下文中,術(shù)語 "包括(comprising)"或"包括(comprises)"不排除其它可能的元素或步驟。此外,提及的諸 如"一 (a)"或"一 (an)"等的符號不應(yīng)該被解釋為排除多個。權(quán)利要求書中關(guān)于附圖中指出 的元素的標(biāo)號也不應(yīng)被解釋為限制本發(fā)明的范圍。此外,在不同權(quán)利要求中提到的單獨(dú)的 特征可以有利地組合,并且在不同的權(quán)利要求中這些特征的提及并不排除特征的組合是不 可能的和有利的。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種用于氨氧化的雙金屬催化劑,所述雙金屬催化劑包括: 第一金屬層; 第二金屬層;和 基底; 其中所述第一金屬層位于所述第二金屬層上,且 其中所述第二金屬層位于所述基底上;和 其中所述第一金屬層是比所述第二金屬層的金屬對氨氧化有更低催化活性的金屬層; 且 其中所述第一金屬層的金屬被分離到所述第二金屬層上,從而提供相比于單金屬層催 化劑增加的催化劑的總催化活性。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙金屬催化劑,其中所述第二金屬層是比所述第一金屬層的 金屬對氨氧化有更高催化活性的金屬層。3. 根據(jù)權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的雙金屬催化劑,其中所述第一金屬層的所述金屬與 所述第二金屬層的所述金屬不形成合金。4. 根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的雙金屬催化劑,其中所述第一金屬層為Cu層。5. 根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的雙金屬催化劑,其中所述第二金屬層為Ru層。6. 根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的雙金屬催化劑,其中所述基底為金屬氧化物。7. 根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的雙金屬催化劑,其中所述第一金屬層的厚度為0.1至 3單層。8. 根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的雙金屬催化劑,其中所述第二金屬層和所述第一金 屬層之間的重量比在1:0.05至1:0.5之間的范圍。9. 一種用于制備根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的雙金屬催化劑的方法,所述方法包括: -向所述基底上沉積所述第二金屬層;并隨后 -向所述第二金屬層上沉積所述第一金屬層。10. -種用于調(diào)節(jié)過渡金屬層的催化活性的方法,其包括在過渡金屬層上沉積所需厚 度的作為覆蓋層的所述金屬層,從而改變所述金屬覆蓋層的d-帶中心的位置。11. 根據(jù)權(quán)利要求9-10任一項(xiàng)所述的方法,其中所述所需厚度為0.1至3單層。12. 根據(jù)權(quán)利要求10-11任一項(xiàng)所述的方法,其中所述過渡金屬層與所述金屬覆蓋層之 間的重量比在1:0.05至1:0.5之間的范圍。13. -種用于調(diào)節(jié)根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的雙金屬催化劑的方法,其包括向所述 第二金屬層上沉積所述第一金屬層,從而改變所述第一金屬層的所述金屬的d-帶中心的位 置。
【文檔編號】B01D53/86GK105873678SQ201480066731
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2014年10月30日
【發(fā)明人】克里斯汀·納格施特魯普·康拉德森, 西內(nèi)·艾麗曼·奧勒森, 德巴斯什·查克拉博蒂, 伊布·佐肯多爾夫
【申請人】丹麥技術(shù)大學(xué)
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