技術(shù)特征：

1.一種激光刻蝕膜，其特征在于：包括依次連接的保護層(1)、金屬鍍層(2)、紋理層(3)、基材層(4)、背膠層(5)，所述金屬鍍層(2)的厚度為0.01μm～1μm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光刻蝕膜，其特征在于：所述金屬鍍層(2)為真空蒸鍍沉積成型。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光刻蝕膜，其特征在于：所述金屬鍍層(2)的材質(zhì)為鋁或鎳或銅或不銹鋼。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光刻蝕膜，其特征在于：所述保護層(1)的厚度為3μm～20μm，所述保護層(1)為聚氨酯丙烯酸酯體系的uv型涂層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光刻蝕膜，其特征在于：所述紋理層(3)的厚度為5μm～20μm，所述紋理層(3)的紋理深度為1μm～10μm，所述紋理層(3)的紋理為金屬拉絲紋理或金屬磨砂紋理，所述紋理層(3)的材質(zhì)為含有1％～10％uv色漿的uv樹脂。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光刻蝕膜，其特征在于：所述基材層(4)的厚度為30μm～100μm，所述基材層(4)的材質(zhì)為pet或pc或亞克力。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光刻蝕膜，其特征在于：所述背膠層(5)的厚度為20μm～40μm，所述背膠層(5)的外表面設(shè)置有離型層。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光刻蝕膜的制備方法，其特征在于：包括以下步驟：

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種激光刻蝕膜的制備方法，其特征在于：步驟s2中，真空蒸鍍沉積采用卷對卷式真空電鍍設(shè)備，步驟s3中，涂布采用微凹涂布方式。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種激光刻蝕膜的制備方法，其特征在于：步驟s1中，uv轉(zhuǎn)印速度為8m/min～10m/min，步驟s2中，真空蒸鍍沉積的鍍膜速度200m/min～300m/min。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種激光刻蝕膜及其制備方法，包括依次連接的保護層、金屬鍍層、紋理層、基材層、背膠層，金屬鍍層的厚度為0.01μm～1μm。本發(fā)明通過多層結(jié)構(gòu)設(shè)計，使用時，激光燒蝕金屬鍍層，透出紋理層顏色，從而實現(xiàn)了激光蝕刻效果，避免使用激光顯色涂料，使本發(fā)明大幅降低了成本。激光蝕刻時，光線首先到達保護層，然后到達金屬鍍層，通過控制激光的能量和脈寬，可以實現(xiàn)選擇性的燒蝕。金屬鍍層的厚度很薄，很容易在激光的燒蝕作用下汽化形成蝕刻軌跡，同時，因為所需的激光能量比較低，功率5W以下，使本發(fā)明的標簽打印速度更快，效率更高。

技術(shù)研發(fā)人員：戚加磊,程宇航,路健
受保護的技術(shù)使用者：常州華威新材料有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/21