本發(fā)明涉及標(biāo)簽?zāi)?，尤其涉及一種激光刻蝕膜及其制備方法。

背景技術(shù)：

1、傳統(tǒng)的銘牌或者標(biāo)簽，都是金屬材料為主。制備時(shí)，首先需要對(duì)金屬材料進(jìn)行模切，得到尺寸滿足要求的銘牌或者標(biāo)簽，然后在表面進(jìn)行印刷或者印刻內(nèi)容，做成需要的銘牌或者標(biāo)簽，最后金屬銘牌或者標(biāo)簽需要在四個(gè)角位置利用四個(gè)鉚釘進(jìn)行固定，或者焊接在機(jī)械設(shè)備上。因?yàn)檫@種固定方式比較繁瑣，目前市場(chǎng)上出現(xiàn)了柔性標(biāo)簽。

2、柔性標(biāo)簽主要材質(zhì)為高分子薄膜，可以顯著提高標(biāo)簽的模切速度，降低模切成本。背面自帶背膠，不需要鉚釘，直接就可以粘貼在指定表面，顯著提高效率。

3、而柔性標(biāo)簽中，激光蝕刻標(biāo)簽的技術(shù)難度大。為了實(shí)現(xiàn)標(biāo)記，會(huì)使用激光顯色涂料，此涂料在激光作用下會(huì)變化顏色，而這種涂料技術(shù)難度很大，價(jià)格比較昂貴，故需要對(duì)上述問(wèn)題做出改進(jìn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的激光顯色涂料技術(shù)難度大、價(jià)格昂貴等缺陷，提供了新的一種激光刻蝕膜及其制備方法。

2、為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

3、一種激光刻蝕膜，包括依次連接的保護(hù)層、金屬鍍層、紋理層、基材層、背膠層，所述金屬鍍層的厚度為0.01μm～1μm。

4、激光蝕刻膜就是激光標(biāo)簽用的材料，激光蝕刻膜的原膜表面是沒(méi)有內(nèi)容記錄的，通過(guò)激光打標(biāo)機(jī)打印后，蝕刻膜表面記錄了打標(biāo)內(nèi)容，得到了標(biāo)簽。

5、本發(fā)明通過(guò)多層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使用時(shí)，激光燒蝕金屬鍍層，透出紋理層顏色，從而實(shí)現(xiàn)了激光蝕刻效果，避免使用激光顯色涂料，使本發(fā)明大幅降低了成本。激光蝕刻時(shí)，光線首先到達(dá)保護(hù)層，然后到達(dá)金屬鍍層，通過(guò)控制激光的能量和脈寬，可以實(shí)現(xiàn)選擇性的燒蝕。金屬鍍層的厚度很薄，很容易在激光的燒蝕作用下汽化形成蝕刻軌跡，同時(shí)，因?yàn)樗璧募す饽芰勘容^低，功率5w以下，使本發(fā)明的標(biāo)簽打印速度更快，效率更高。

6、保護(hù)層具備耐磨損、耐污染性能，還具備優(yōu)異的抗老化性能、水氧阻隔性能。使本發(fā)明具備光澤度，具備抗刮、耐磨、耐污性能。保護(hù)層還對(duì)金屬鍍層的具有良好附著性。金屬鍍層帶有極強(qiáng)的光線反射作用，能夠把鍍層的金屬形貌呈現(xiàn)出來(lái)。紋理層具備裝飾效果，還對(duì)金屬鍍層的具有良好附著性?；膶邮潜景l(fā)明的基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)層，起到承載的作用。背膠層用于將本發(fā)明貼合在更多機(jī)器、設(shè)備、工件的表面，并保證貼合的牢度。

7、本發(fā)明在裁切時(shí)，可以通過(guò)調(diào)整控制程序，增加激光功率，將整個(gè)膜材直接切斷，不用進(jìn)行模切。本發(fā)明的標(biāo)簽具備防偽性和自毀性，有效地杜絕了后期標(biāo)簽被篡改和替換。防偽是通過(guò)印刷或者激光鐳雕的方式在蝕刻膜表面制備防偽標(biāo)識(shí)。自毀性體現(xiàn)在，本發(fā)明的標(biāo)簽第一次粘貼后不能二次利用，因剝離過(guò)程中標(biāo)簽就會(huì)發(fā)生破壞，標(biāo)記內(nèi)容會(huì)受損，從而實(shí)現(xiàn)自毀和信息防篡改。本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)銀色表面打印黑色字體，字體顏色還可以定制，實(shí)現(xiàn)標(biāo)簽的差異化。

8、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述金屬鍍層為真空蒸鍍沉積成型。

9、真空蒸鍍技術(shù)能夠確保金屬鍍層在基材表面的均勻分布，形成連續(xù)且無(wú)缺陷的薄膜。通過(guò)真空蒸鍍沉積，金屬鍍層與其他層之間的附著力得到增強(qiáng)，提高了整體結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性和耐用性。真空蒸鍍沉積技術(shù)允許精確控制金屬鍍層的厚度，有助于實(shí)現(xiàn)激光刻蝕的精細(xì)度和深度控制。金屬鍍層具有高反射率，能夠提高標(biāo)簽的視覺(jué)效果，使得激光蝕刻后的紋理層顏色更加鮮明。與傳統(tǒng)的電鍍或化學(xué)鍍相比，真空蒸鍍技術(shù)可以減少材料浪費(fèi)和環(huán)境污染，同時(shí)降低生產(chǎn)成本。

10、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述金屬鍍層的材質(zhì)為鋁或鎳或銅或不銹鋼。

11、多種金屬材質(zhì)選擇，滿足更多應(yīng)用場(chǎng)景的需求，增加產(chǎn)品的適用性和靈活性。鋁、鎳、銅和不銹鋼等金屬材質(zhì)具有良好的耐腐蝕性，可以提高激光刻蝕膜在各種環(huán)境下的耐用性。而且這些金屬材質(zhì)都具有較高的反射率，有助于提升激光刻蝕后的視覺(jué)效果，使得蝕刻圖案更加清晰可見(jiàn)。這些金屬材質(zhì)在加工過(guò)程中具有良好的延展性和成型性，有利于實(shí)現(xiàn)高精度的激光刻蝕效果。這些金屬材質(zhì)在高溫下具有良好的熱穩(wěn)定性，有助于在激光刻蝕過(guò)程中保持材料的穩(wěn)定性，減少熱變形。

12、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述保護(hù)層的厚度為3μm～20μm，所述保護(hù)層為聚氨酯丙烯酸酯體系的uv型涂層。

13、保護(hù)層的厚度在3μm～20μm范圍，提供了更好的物理保護(hù)，增強(qiáng)了激光刻蝕膜的耐磨性。聚氨酯丙烯酸酯體系的uv型涂層具有良好的耐化學(xué)腐蝕性，能夠抵抗多種化學(xué)物質(zhì)的侵蝕。uv型涂層能夠有效阻擋紫外線，保護(hù)激光刻蝕膜免受紫外線引起的老化和褪色，延長(zhǎng)了激光刻蝕膜的使用壽命。uv型涂層通常具有較高的光澤度，可以提升激光刻蝕膜的表面美觀度。聚氨酯丙烯酸酯體系的uv型涂層與金屬鍍層之間具有強(qiáng)附著力，確保了整體結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。保護(hù)層能夠防止污染物滲透，保持激光刻蝕膜的清潔度和清晰度。保護(hù)層能夠阻隔水分和氧氣，防止激光刻蝕膜受到水氧侵蝕，保持激光刻蝕膜的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。聚氨酯丙烯酸酯體系的uv型涂層具有良好的耐溫性能，適用于更多環(huán)境條件。

14、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述紋理層的厚度為5μm～20μm，所述紋理層的紋理深度為1μm～10μm，所述紋理層的紋理為金屬拉絲紋理或金屬磨砂紋理，所述紋理層的材質(zhì)為含有1％～10％uv色漿的uv樹(shù)脂。

15、紋理層的厚度和紋理深度的精確控制，提供了精細(xì)的裝飾效果，增強(qiáng)了產(chǎn)品的視覺(jué)吸引力。金屬拉絲紋理和金屬磨砂紋理提供了多樣化的表面處理選項(xiàng)，滿足更多需求。紋理層的紋理深度設(shè)計(jì)，增加了產(chǎn)品的立體感和層次感，提升了產(chǎn)品的外觀質(zhì)感。紋理層的特定厚度和材質(zhì)配合激光蝕刻技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)清晰的標(biāo)記效果。含有1％～10％uv色漿的uv樹(shù)脂材質(zhì)，允許改變紋理層的顏色，增加產(chǎn)品的多樣性。uv樹(shù)脂與金屬鍍層和基材層之間具有良好附著力，確保了整體結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。uv樹(shù)脂的快速固化特性，提高了生產(chǎn)效率，適合大規(guī)模生產(chǎn)。uv樹(shù)脂固化過(guò)程中不產(chǎn)生有害物質(zhì)，符合環(huán)保要求。uv樹(shù)脂具有良好的抗老化性能，延長(zhǎng)了產(chǎn)品的使用壽命。紋理層的厚度和材質(zhì)可以根據(jù)不同的應(yīng)用需求進(jìn)行調(diào)整，以適應(yīng)更多使用環(huán)境。

16、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述基材層的厚度為30μm～100μm，所述基材層的材質(zhì)為pet或pc或亞克力。

17、基材層的厚度范圍提供了足夠的物理強(qiáng)度和結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，確保了激光刻蝕膜的整體耐用性和可靠性。pet、pc、亞克力實(shí)現(xiàn)了更多的應(yīng)用需求選擇。pet、pc、亞克力具有良好的透明度和光澤度，有助于提升最終產(chǎn)品的外觀質(zhì)量。pet、pc、亞克力易于加工，后續(xù)處理更便捷。pet、pc、亞克力具有良好的耐化學(xué)腐蝕性，能夠抵抗日常使用中可能遇到的化學(xué)物質(zhì)。pet、pc、亞克力能夠在大范圍的溫度內(nèi)保持穩(wěn)定，適合在更多環(huán)境條件下使用。pet、pc、亞克力在工業(yè)生產(chǎn)中廣泛使用，具有較好的成本效益，有助于降低生產(chǎn)成本。pet、pc、亞克力在廢棄后易于回收利用，有助于減少對(duì)環(huán)境的影響?；膶拥暮穸群筒馁|(zhì)提供了良好的抗沖擊性，使產(chǎn)品能夠承受一定程度的物理沖擊?；膶泳邆錈岱€(wěn)定性，以避免在激光刻蝕過(guò)程中因溫度變化而發(fā)生形變。pet、pc、亞克力的密度較低，使得激光刻蝕膜輕便，便于攜帶和使用?；膶涌梢愿鶕?jù)不同的使用要求調(diào)整厚度，以適應(yīng)不同的負(fù)載和應(yīng)用條件?；膶拥牟馁|(zhì)與保護(hù)層、金屬鍍層、紋理層和背膠層具有良好的兼容性，確保了整體結(jié)構(gòu)的完整性和功能性。

18、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜，所述背膠層的厚度為20μm～40μm，所述背膠層的外表面設(shè)置有離型層。

19、背膠層在上述厚度范圍提供了足夠的粘附力，確保激光刻蝕膜能夠牢固地粘貼在各種表面上。離型層的存在保護(hù)背膠層不受污染和損傷，保持其粘性，延長(zhǎng)產(chǎn)品使用壽命。背膠層的厚度和材質(zhì)可以根據(jù)不同的粘貼表面和環(huán)境條件進(jìn)行調(diào)整，以實(shí)現(xiàn)最佳粘貼效果。背膠層在上述厚度范圍有助于在粘貼過(guò)程中減少空氣泡的產(chǎn)生，確保標(biāo)簽平滑貼合。

20、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜的制備方法，包括以下步驟：

21、s1、取基材層，在基材層的上表面做uv轉(zhuǎn)印加工，制得紋理層，紋理層的材質(zhì)為含有1％～10％uv色漿的uv樹(shù)脂；

22、s2、在紋理層的表面進(jìn)行真空蒸鍍沉積，得到金屬鍍層；

23、s3、在金屬鍍層的表面進(jìn)行涂布，形成保護(hù)層；

24、s4、在基材層的下表面做背膠處理，再貼合離型層，形成背膠層，得到激光刻蝕膜。

25、通過(guò)uv轉(zhuǎn)印加工快速制得紋理層，提高了生產(chǎn)效率，縮短了生產(chǎn)周期。uv轉(zhuǎn)印技術(shù)允許精確控制紋理層的厚度和圖案，確保了產(chǎn)品的一致性和高質(zhì)量。使用含有1％～10％uv色漿的uv樹(shù)脂作為紋理層材質(zhì)，保證了與后續(xù)工藝的兼容性。uv樹(shù)脂中的uv色漿提供了可定制的色彩選擇，可以改變標(biāo)簽字體顏色，增強(qiáng)了產(chǎn)品的裝飾效果。通過(guò)多層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了保護(hù)層、金屬鍍層和紋理層的有機(jī)結(jié)合，提升了整體性能。uv固化技術(shù)相比傳統(tǒng)溶劑型涂料更為環(huán)保，減少了vocs的排放。制備方法中的各步驟適合自動(dòng)化生產(chǎn)線，提高了生產(chǎn)效率和降低了人工成本。uv樹(shù)脂的快速固化特性，加快了生產(chǎn)流程，提高了生產(chǎn)速度。本發(fā)明通過(guò)優(yōu)化的制備工藝，在保證產(chǎn)品質(zhì)量的同時(shí)降低生產(chǎn)成本。使用時(shí)，通過(guò)調(diào)整激光功率，可以直接切斷膜材，無(wú)需額外的模切工藝，提高了使用效率。

26、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜的制備方法，步驟s2中，真空蒸鍍沉積采用卷對(duì)卷式真空電鍍?cè)O(shè)備，步驟s3中，涂布采用微凹涂布方式。

27、卷對(duì)卷式真空電鍍?cè)O(shè)備支持連續(xù)生產(chǎn)，提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)量。卷對(duì)卷式設(shè)備能夠保證金屬鍍層在基材上的均勻分布，避免局部過(guò)厚或過(guò)薄的問(wèn)題。卷對(duì)卷式工藝允許在較高的速度下進(jìn)行生產(chǎn)，縮短了單個(gè)產(chǎn)品的生產(chǎn)時(shí)間。卷對(duì)卷式設(shè)備減少了材料的浪費(fèi)，提高了材料利用率。卷對(duì)卷式設(shè)備通常與自動(dòng)化控制系統(tǒng)相結(jié)合，減少了人工干預(yù)，降低了人為錯(cuò)誤。微凹涂布方式能夠精確控制涂布量，保障保護(hù)層的均勻性和一致性。微凹涂布技術(shù)提供了平滑且無(wú)氣泡的涂層表面，提高了最終產(chǎn)品的外觀和性能。微凹涂布方式適用更多粘度的涂料，增加了工藝的適應(yīng)性。微凹涂布減少了涂層過(guò)程中可能出現(xiàn)的缺陷，如橘皮效應(yīng)或針孔。卷對(duì)卷式真空電鍍和微凹涂布工藝減少了溶劑的使用，更加環(huán)保。卷對(duì)卷式設(shè)備和微凹涂布技術(shù)易于擴(kuò)展到更大的生產(chǎn)規(guī)模，提高生產(chǎn)效率。卷對(duì)卷式設(shè)備可以適應(yīng)更多寬度和形狀的材料，提高了生產(chǎn)的適用性。

28、作為優(yōu)選，上述所述的一種激光刻蝕膜的制備方法，步驟s1中，uv轉(zhuǎn)印速度為8m/min～10m/min，步驟s2中，真空蒸鍍沉積的鍍膜速度200m/min～300m/min。

29、uv轉(zhuǎn)印和真空蒸鍍的高速度確保了生產(chǎn)過(guò)程的快速進(jìn)行，顯著提高了生產(chǎn)效率。快速的轉(zhuǎn)印和鍍膜速度減少了單個(gè)產(chǎn)品在生產(chǎn)線上的停留時(shí)間，縮短了整體生產(chǎn)周期。提高速度可以在不增加設(shè)備和人力的情況下增加產(chǎn)量，有助于降低單位產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。在上述范圍的速度下進(jìn)行uv轉(zhuǎn)印和真空蒸鍍，有助于保持涂層的均勻性和紋理層的質(zhì)量。