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一種非硅離型膜及其制備方法與流程

文檔序號:39727405發(fā)布日期:2024-10-22 13:28閱讀:2來源:國知局
一種非硅離型膜及其制備方法與流程

本發(fā)明涉及非硅離型膜,具體涉及一種非硅離型膜及其制備方法。


背景技術(shù):

1、離型膜為具備特殊非粘性表面的薄膜材料,由基材和涂層構(gòu)成,目前常用的基材材料為聚乙烯、聚酯等塑料薄膜,涂層賦予薄膜非粘或低粘屬性,目前常用的涂層材料為硅油。但是以硅油作為涂層材料制備的離型膜存在環(huán)保性和高溫穩(wěn)定性差的缺點。

2、非硅離型膜是一種具有特殊功能的薄膜材料,與傳統(tǒng)的硅基離型膜不同,非硅離型膜的涂層材料中不含硅,環(huán)保性好,而且非硅離型膜具有優(yōu)異的透明度、化學(xué)穩(wěn)定性、高溫穩(wěn)定性,還能夠在高溫和強酸堿環(huán)境下發(fā)揮優(yōu)異的離型效果。非硅離型膜主要用于半導(dǎo)體、光電子、微電子等領(lǐng)域中微小結(jié)構(gòu)和器件的制備中,在半導(dǎo)體制備中,非硅離型膜主要用于制備光刻掩模、光刻膠、電子束曝光掩模等,因此,非硅離型膜具有重要的應(yīng)用價值。

3、制備非硅離型膜的方法主要有溶液浸漬法、氣相沉積法、自組裝法。其中,溶液浸漬法為通過溶液中的前體物質(zhì)在基材表面沉積形成膜層;氣相沉積法為利用氣體中的前體分子在基材表面沉積形成薄膜;自組裝法為利用分子間的相互作用在基材表面自發(fā)形成膜層。其中,溶液浸漬法為最簡單且使用最多的方法。

4、溶液浸漬法的方法為涂層材料溶解在溶劑中形成涂層材料溶液,然后通過旋涂、噴涂或浸漬等工藝將涂層材料溶液均勻地涂布到基材表面,其中,常用的溶劑為水或醇類、酯類、酮類、醚類等有機溶劑??紤]到有機溶劑的毒性大,且易揮發(fā),對環(huán)境造成污染,隨著人們對環(huán)境保護與可持續(xù)發(fā)展意識的提高,越來越多的選擇了將水作為涂層材料的溶劑。

5、但是在將水作為涂層材料的溶劑時,發(fā)現(xiàn)了以下問題:相比較于有機溶劑,以水作為溶劑制備的涂層材料溶液,粘度大,為了降低粘度,一般會采用降低涂層材料的固含量的方式,從而會導(dǎo)致制備的非硅離型膜的離型力過小,耐久性變差;相比較于有機溶劑,以水作為溶劑制備的涂層材料溶液,干燥速度慢,容易出現(xiàn)干燥不均勻的情況,從而會導(dǎo)致制備的非硅離型膜的透明度下降。

6、為了解決上述問題,目前最常用的方法為向涂層材料中加入丙烯酸酯樹脂,丙烯酸酯樹脂能夠提高涂層材料溶液的固含量,并提高干燥溫度和增大干燥風(fēng)量,但是丙烯酸酯樹脂的耐久性和附著力差,因此,雖然能夠從一定程度上改善非硅離型膜所存在的問題,但是提高作用不明顯,而提高干燥溫度和增大干燥風(fēng)量,會導(dǎo)致離型膜在干燥過程中表面出現(xiàn)龜裂。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本發(fā)明提供了一種非硅離型膜及其制備方法,以水作為涂層材料的溶劑,制備的非硅離型膜的離型力適中,耐久性好,透明度高,表面不出現(xiàn)龜裂。

2、為解決以上技術(shù)問題,本發(fā)明采取的技術(shù)方案如下:

3、一種非硅離型膜的制備方法,由以下步驟組成:制備涂層材料溶液,預(yù)處理,熔融擠出,定型;

4、所述制備涂層材料溶液,由以下步驟組成:制備降粘劑,制備交聯(lián)微球,混合;

5、所述制備降粘劑,由以下步驟組成:制備納米淀粉晶,包覆;

6、所述制備納米淀粉晶,將玉米淀粉、去離子水混合后,加熱至沸騰,保持20-25min,然后降溫至10-12℃,向其中滴加無水乙醇,滴加結(jié)束后以100-200rpm的攪拌速度攪拌20-30min,靜置40-50min,以9000-10000rpm的轉(zhuǎn)速離心9-10min,取沉淀物,使用去離子水清洗沉淀物3-5次,在60-70℃下真空烘干,得到納米淀粉晶;

7、所述制備納米淀粉晶中,玉米淀粉、去離子水、無水乙醇的質(zhì)量體積比為2000-2400g:20-24l:20-26l;

8、所述無水乙醇的滴加速度為90-100ml/min;

9、所述包覆,取納米淀粉晶、單寧酸、第一份去離子水混合后,在室溫下以400-500rpm的轉(zhuǎn)速攪拌40-50min,滴加甲醛水溶液,滴加結(jié)束后繼續(xù)攪拌40-50min,以9000-10000rpm的轉(zhuǎn)速離心9-10min,取沉淀物,向沉淀物中加入l-賴氨酸、乙二胺、第二份去離子水,在70-75℃下以200-300rpm的轉(zhuǎn)速攪拌4-5h,以9000-10000rpm的轉(zhuǎn)速離心9-10min,取沉淀物,使用去離子水清洗沉淀物3-5次,在-40℃至-35℃下冷凍干燥25-30h,得到降粘劑;

10、所述包覆中,納米淀粉晶、單寧酸、第一份去離子水、甲醛水溶液、l-賴氨酸、乙二胺、第二份去離子水的質(zhì)量體積比為400-460g:600-700g:70-80l:100-120ml:50-60g:40-50g:60-70l;

11、所述甲醛水溶液的濃度為37wt%;

12、所述甲醛水溶液的滴加速度為20-30ml/min;

13、所述制備交聯(lián)微球,將甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸十二酯、n-乙烯基吡咯烷酮、二季戊四醇六丙烯酸酯、聚乙烯吡咯烷酮、去離子水、乙二醇單甲醚混合后,在氮氣的保護下,在室溫下以200-300rpm的轉(zhuǎn)速攪拌30-40min,加入偶氮二異丁腈,在70-75℃下以200-300rpm的轉(zhuǎn)速攪拌16-18h,以4000-5000rpm的轉(zhuǎn)速離心4-5min,取沉淀物,使用去離子水清洗沉淀物3-5次,在-40℃至-35℃下冷凍干燥30-35h,得到交聯(lián)微球;

14、所述制備交聯(lián)微球中,甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸十二酯、n-乙烯基吡咯烷酮、二季戊四醇六丙烯酸酯、聚乙烯吡咯烷酮、去離子水、乙二醇單甲醚、偶氮二異丁腈的質(zhì)量體積比為1000-1200g:360-400g:600-800g:120-140g:120-140g:26-28l:4-6l:24-26g;

15、所述混合,將甲基丙烯酸磺酸鈉、第一份去離子水混合后,在氮氣的保護下,在室溫下以5000-6000rpm的轉(zhuǎn)速高剪切4-5min,加入甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸羥乙酯混合后,在氮氣的保護下,在70-75℃下以5000-6000rpm的轉(zhuǎn)速高剪切10-15min,加入三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯,繼續(xù)在70-75℃下以5000-6000rpm的轉(zhuǎn)速高剪切10-15min,加入過硫酸鉀,繼續(xù)在70-75℃下以5000-6000rpm的轉(zhuǎn)速高剪切3-3.5h,加入第二份去離子水、降粘劑、交聯(lián)微球、水溶性抗靜電劑,繼續(xù)在70-75℃下以5000-6000rpm的轉(zhuǎn)速高剪切15min,得到涂層材料溶液;

16、所述混合中,甲基丙烯酸磺酸鈉、第一份去離子水、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸羥乙酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、過硫酸鉀、第二份去離子水、降粘劑、交聯(lián)微球、水溶性抗靜電劑的質(zhì)量體積比為520-560g:36-38l:6000-6800g:3200-4000g:1120-1280g:680-800g:400-440g:200-240g:20-20.8l:960-1080g:1400-1600g:600-640g;

17、所述水溶性抗靜電劑為默尼化工科技(上海)有限公司的mi00-10t水溶性抗靜電劑;

18、所述預(yù)處理,使用130-135℃的熱空氣對聚酯切片預(yù)結(jié)晶20-25min,然后在155-160℃下干燥20-25min,在145-150℃下干燥5.5-6.5h,得到預(yù)處理后的聚酯切片;

19、所述熔融擠出,將預(yù)處理后的聚酯切片分為3份,作為a層原料、b層原料、c層原料,分別投入各自對應(yīng)的擠出機中,控制主擠出機和輔擠出機的加熱區(qū)溫度為275-285℃,經(jīng)熔融擠出后,在鑄片輥表面冷卻固化為鑄片;

20、所述熔融擠出中,a層原料、b層原料、c層原料的質(zhì)量比為12-15:65-70:12-15;

21、所述定型,在110-120℃下進行預(yù)熱后,在120-130℃下對鑄片進行縱向拉伸,控制縱向拉伸的倍率為3.5-4,得到基膜;將涂層材料溶液涂布于基膜的一個表面,控制涂布厚度為4-5μm,得到涂布后的基膜;在110-120℃下進行預(yù)熱后,在120-130℃下對涂布后的基膜進行橫向拉伸,控制橫向拉伸的倍率為4-4.2,然后在230-240℃下熱定型3-5s,得到非硅離型膜。

22、一種由前述的制備方法制備的非硅離型膜。

23、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果為:

24、(1)本發(fā)明的非硅離型膜的制備方法,以水作為涂層材料的溶劑,環(huán)保性強,對環(huán)境造成的污染??;

25、(2)本發(fā)明的非硅離型膜,離型力適中,離型力為27-30g/in,殘余接著率為94-95%;

26、(3)本發(fā)明的非硅離型膜,耐久性好,70℃×20h老化離型力為29-31g/in,70℃×20h老化殘余接著率為90-92%;

27、(4)本發(fā)明的非硅離型膜,透明度高,透光率為89.0-89.4%,霧度為2.7-3.0%;

28、(5)本發(fā)明的非硅離型膜,表面不出現(xiàn)龜裂。

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