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雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置的制作方法

文檔序號(hào):3378668閱讀:137來源:國(guó)知局
專利名稱:雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及金屬材料的制造設(shè)備,具體是一種雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置。
背景技術(shù)
噴射成形技術(shù)是制備快速凝固材料的一種先進(jìn)制造技術(shù),可以在一道工序中制造近終形和復(fù)合產(chǎn)品。已知的噴射成形設(shè)備在生產(chǎn)過程中,一個(gè)沉積基底不斷旋轉(zhuǎn),霧化器及噴嘴在錠坯表面中心至邊緣的半徑范圍內(nèi)做往復(fù)掃描運(yùn)動(dòng),使金屬材料不斷沉積,形成圓柱坯。在目前已有的研究和實(shí)踐結(jié)果中,所采用噴射裝置的霧化錐的主軸線大多是垂直方向,而沉積基底主軸傾斜設(shè)置。這種結(jié)構(gòu)的設(shè)備,在圓柱坯成形過程中由于坯料自重的不斷增加,導(dǎo)致沉積基底的轉(zhuǎn)軸及與基底與坯料的結(jié)合部分受到較大的彎矩,不僅不利于設(shè)備的平穩(wěn)運(yùn)行、影響產(chǎn)品質(zhì)量,并且由于對(duì)沉積基底與圓柱坯的結(jié)合力有較高的要求,因而難以滿足大規(guī)格、大自重的圓柱坯的制造要求。此外,現(xiàn)有設(shè)備在成形過程中部分未沉積至錠坯上的噴射材料會(huì)形成金屬粉未與排出氣體一同排出,不僅造成材料的浪費(fèi),也會(huì)對(duì)環(huán)境產(chǎn)生影響。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是,提供一種結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性好、成形質(zhì)量好、能適應(yīng)大規(guī)格圓柱坯的制造、材料浪費(fèi)少的雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置。本實(shí)用新型的雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置包括有一個(gè)沉積室,沉積室頂部設(shè)置有用于儲(chǔ)存液態(tài)金屬的漏包和連接在漏包底部的霧化噴嘴,沉積室內(nèi)設(shè)置有可旋轉(zhuǎn)的沉積基底;所述沉積基底位于沉積室中心并且其轉(zhuǎn)軸位于豎直方向,霧化噴嘴位于沉積基底側(cè)上方;所述霧化噴嘴有兩個(gè),兩個(gè)噴嘴與沉積基底的軸心線之間的距離不等。所述霧化噴嘴的噴射口由擺動(dòng)機(jī)構(gòu)控制其往復(fù)擺動(dòng)。所述在沉積室的底部出口連接有集粉箱,集粉箱通過排風(fēng)管道與排風(fēng)機(jī)連接,排風(fēng)管道中段經(jīng)過一個(gè)可分離金屬粉未的旋風(fēng)除塵器。所述排風(fēng)機(jī)通過變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng)。所述漏包底部設(shè)置兩個(gè)漏斗,分別連接兩個(gè)霧化噴嘴,漏斗的出口由可上、下移動(dòng)的堵桿打開或封閉。所述霧化噴嘴由石墨嘴和霧化器構(gòu)成,石墨嘴與漏斗之間通過不銹鋼的導(dǎo)液套連接。本實(shí)用新型的積極效果體現(xiàn)在1、由于沉積基底的轉(zhuǎn)軸豎直設(shè)置,在圓柱坯成形過程中材料自重不會(huì)對(duì)整個(gè)旋轉(zhuǎn)軸產(chǎn)生較大的彎矩,不僅有利于提高整個(gè)系統(tǒng)的運(yùn)行穩(wěn)定性和成形質(zhì)量,并且對(duì)沉積基底與圓柱坯的結(jié)合強(qiáng)度要求較底,有利于制造較大規(guī)格的錠坯;2、往復(fù)擺的兩個(gè)霧化噴嘴可以控制較大的噴射范圍,從而可形成大直徑的錠坯產(chǎn)品; 3、集粉箱和旋風(fēng)除塵器的設(shè)置可減少材料浪費(fèi)、降低排氣污染;4、通過變頻電機(jī)可以調(diào)節(jié)排風(fēng)速度,進(jìn)而對(duì)沉積室內(nèi)的壓力進(jìn)行控制,有利于形成較佳的成形工藝條件。
圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例的漏包及霧化噴嘴部分的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖所示,該雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置包括有一個(gè)沉積室1,沉積室頂部設(shè)置有用于儲(chǔ)存液態(tài)金屬的漏包2和連接在漏包底部的霧化噴嘴3,沉積室內(nèi)設(shè)置有可旋轉(zhuǎn)的沉積基底4 ;所述沉積基底位于沉積室中心并且其轉(zhuǎn)軸位于豎直方向,霧化噴嘴3 位于沉積基底側(cè)上方,霧化噴嘴3的噴射口由擺動(dòng)機(jī)構(gòu)控制其往復(fù)擺動(dòng);霧化噴嘴有兩個(gè), 兩個(gè)噴嘴與沉積基底的軸心線之間的距離不等。所述在沉積室1的底部出口連接有集粉箱5,集粉箱通過排風(fēng)管道與排風(fēng)機(jī)6連接,排風(fēng)管道中段經(jīng)過一個(gè)可分離金屬粉未的旋風(fēng)除塵器7。排風(fēng)機(jī)6通過變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng)。漏包2底部設(shè)置兩個(gè)漏斗21,分別連接兩個(gè)霧化噴嘴3,漏斗的出口由可上、下移動(dòng)的堵桿8打開或封閉。霧化噴嘴3由石墨嘴31和霧化器32構(gòu)成,石墨嘴31與漏斗21 之間通過不銹鋼的導(dǎo)液套9連接。運(yùn)行過程中沉積基底旋轉(zhuǎn),兩個(gè)霧化噴嘴的噴射口分別在不同的半徑范圍掃描噴射,使沉積的錠坯形成較大的半徑,未能沉積在基底上的材料形成金屬粉未被集粉箱收集, 并在排放過程中由旋風(fēng)除塵器分離回收。
權(quán)利要求1.一種雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置,包括有一個(gè)沉積室(1 ),沉積室頂部設(shè)置有用于儲(chǔ)存液態(tài)金屬的漏包(2)和連接在漏包底部的霧化噴嘴(3),沉積室內(nèi)設(shè)置有可旋轉(zhuǎn)的沉積基底(4),其特征是所述沉積基底位于沉積室中心并且其轉(zhuǎn)軸位于豎直方向,霧化噴嘴(3)位于沉積基底側(cè)上方;所述霧化噴嘴(3)有兩個(gè),兩個(gè)噴嘴與沉積基底(4) 的軸心線之間的距離不等。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置,其特征是所述霧化噴嘴(3)的噴射口由擺動(dòng)機(jī)構(gòu)控制其往復(fù)擺動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置,其特征是所述在沉積室(1)的底部出口連接有集粉箱(5 ),集粉箱通過排風(fēng)管道與排風(fēng)機(jī)(6)連接,排風(fēng)管道中段經(jīng)過一個(gè)可分離金屬粉未的旋風(fēng)除塵器(7)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置,其特征是所述排風(fēng)機(jī)(6 )通過變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置,其特征是所述漏包(2)底部設(shè)置兩個(gè)漏斗(21),分別連接兩個(gè)霧化噴嘴(3),漏斗的出口由可上、下移動(dòng)的堵桿(8)打開或封閉。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置,其特征是所述霧化噴嘴(3)由石墨嘴(31)和霧化器(32)構(gòu)成,石墨嘴(31)與漏斗(21)之間通過不銹鋼的導(dǎo)液套(9)連接。
專利摘要本實(shí)用新型涉及金屬材料的制造設(shè)備,具體是一種雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置。該雙噴嘴掃描斜噴式圓柱坯噴射成形裝置包括有一個(gè)沉積室,沉積室頂部設(shè)置有用于儲(chǔ)存液態(tài)金屬的漏包和連接在漏包底部的霧化噴嘴,沉積室內(nèi)設(shè)置有可旋轉(zhuǎn)的沉積基底;所述沉積基底位于沉積室中心并且其轉(zhuǎn)軸位于豎直方向,霧化噴嘴位于沉積基底側(cè)上方;所述霧化噴嘴有兩個(gè),兩個(gè)噴嘴與沉積基底的軸心線之間的距離不等。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是提高了整個(gè)系統(tǒng)的運(yùn)行穩(wěn)定性和成形質(zhì)量,并且對(duì)沉積基底與圓柱坯的結(jié)合強(qiáng)度要求較底,有利于制造較大規(guī)格的錠坯;雙霧化噴嘴可形成大直徑的錠坯產(chǎn)品;可減少材料浪費(fèi)、降低排氣污染;有利于形成較佳的成形工藝條件。
文檔編號(hào)B22F3/115GK202052936SQ201120079740
公開日2011年11月30日 申請(qǐng)日期2011年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月24日
發(fā)明者張捷, 張豪 申請(qǐng)人:江蘇豪然噴射成形合金有限公司
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