本發(fā)明涉及醫(yī)療成像領(lǐng)域，尤其涉及一種X射線(xiàn)探測(cè)器及其制造方法。

背景技術(shù)：

在醫(yī)療診斷領(lǐng)域，X射線(xiàn)探測(cè)器可用于探測(cè)穿過(guò)檢測(cè)體的X射線(xiàn)并最終輸出表示X射線(xiàn)衰減程度的數(shù)字信號(hào)以供圖像重建。目前，為了提高圖像質(zhì)量，通常需要配備專(zhuān)門(mén)的濾線(xiàn)柵裝置，使用時(shí)，需要先將X射線(xiàn)探測(cè)器安裝至該濾線(xiàn)柵中，方可進(jìn)行X射線(xiàn)探測(cè)，操作較復(fù)雜。并且，濾線(xiàn)柵裝置不可彎曲，使得在需要彎曲X射線(xiàn)探測(cè)器以進(jìn)行X射線(xiàn)探測(cè)時(shí)，造成了沖突，限制了X射線(xiàn)探測(cè)器的應(yīng)用范圍。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種方便使用、且應(yīng)用范圍廣的X射線(xiàn)探測(cè)器，并提供該探測(cè)器的制造方法。

本發(fā)明的示例性實(shí)施例提供了一種X射線(xiàn)探測(cè)器的制造方法，包括：

形成X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層，該X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層下依次設(shè)有光-電轉(zhuǎn)化層以及信號(hào)處理層；

在X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層上設(shè)置軟性絕緣材料以形成保護(hù)層；以及，

在保護(hù)層上形成能夠彎曲的濾線(xiàn)柵層。

本發(fā)明的示例性實(shí)施例還提供了一種根據(jù)上述X射線(xiàn)探測(cè)器的制造方法制造的X射線(xiàn)探測(cè)器。

通過(guò)下面的詳細(xì)描述、附圖以及權(quán)利要求，其他特征和方面會(huì)變得清楚。

附圖說(shuō)明

通過(guò)結(jié)合附圖對(duì)于本發(fā)明的示例性實(shí)施例進(jìn)行描述，可以更好地理解本發(fā)明，在附圖中：

圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例提供的X射線(xiàn)探測(cè)器的制造方法的流程圖；

圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例提供的X射線(xiàn)探測(cè)器的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下將描述本發(fā)明的具體實(shí)施方式，需要指出的是，在這些實(shí)施方式的具體描述過(guò)程中，為了進(jìn)行簡(jiǎn)明扼要的描述，本說(shuō)明書(shū)不可能對(duì)實(shí)際的實(shí)施方式的所有特征均作詳盡的描述。應(yīng)當(dāng)可以理解的是，在任意一種實(shí)施方式的實(shí)際實(shí)施過(guò)程中，正如在任意一個(gè)工程項(xiàng)目或者設(shè)計(jì)項(xiàng)目的過(guò)程中，為了實(shí)現(xiàn)開(kāi)發(fā)者的具體目標(biāo)，為了滿(mǎn)足系統(tǒng)相關(guān)的或者商業(yè)相關(guān)的限制，常常會(huì)做出各種各樣的具體決策，而這也會(huì)從一種實(shí)施方式到另一種實(shí)施方式之間發(fā)生改變。此外，還可以理解的是，雖然這種開(kāi)發(fā)過(guò)程中所作出的努力可能是復(fù)雜并且冗長(zhǎng)的，然而對(duì)于與本發(fā)明公開(kāi)的內(nèi)容相關(guān)的本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，在本公開(kāi)揭露的技術(shù)內(nèi)容的基礎(chǔ)上進(jìn)行的一些設(shè)計(jì)，制造或者生產(chǎn)等變更只是常規(guī)的技術(shù)手段，不應(yīng)當(dāng)理解為本公開(kāi)的內(nèi)容不充分。

除非另作定義，權(quán)利要求書(shū)和說(shuō)明書(shū)中使用的技術(shù)術(shù)語(yǔ)或者科學(xué)術(shù)語(yǔ)應(yīng)當(dāng)為本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)說(shuō)明書(shū)以及權(quán)利要求書(shū)中使用的“第一”、“第二”以及類(lèi)似的詞語(yǔ)并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來(lái)區(qū)分不同的組成部分?！耙粋€(gè)”或者“一”等類(lèi)似詞語(yǔ)并不表示數(shù)量限制，而是表示存在至少一個(gè)。“包括”或者“包含”等類(lèi)似的詞語(yǔ)意指出現(xiàn)在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在“包括”或者“包含”后面列舉的元件或者物件及其等同元件，并不排除其他元件或者物件?！斑B接”或者“相連”等類(lèi)似的詞語(yǔ)并非限定于物理的或者機(jī)械的連接，也不限于是直接的還是間接的連接。

圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例提供的X射線(xiàn)探測(cè)器的制造方法的流程圖；圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例提供的X射線(xiàn)探測(cè)器的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1、圖2所示，上述X射線(xiàn)探測(cè)器的制造方法包括以下步驟S100、S110以及S120。

步驟S100：形成X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210，該X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210下依次設(shè)有光-電轉(zhuǎn)化層220以及信號(hào)處理層230。

X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210用于將入射至X射線(xiàn)探測(cè)器的X射線(xiàn)轉(zhuǎn)化為可見(jiàn)光，其可包括，例如閃爍體。光-電轉(zhuǎn)化層220用于將轉(zhuǎn)化后的可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化為數(shù)字信號(hào)，其可包括，例如并排設(shè)置的多個(gè)光電二極管。信號(hào)處理層230用于對(duì)該數(shù)字信號(hào)進(jìn)行處理，例如，進(jìn)行信號(hào)傳輸，該信號(hào)處理層230可為， 例如軟性印刷電路。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，上述X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210下依次設(shè)有光-電轉(zhuǎn)化層220以及信號(hào)處理層230均可由軟性材料形成以能夠彎曲。并且，根據(jù)本領(lǐng)域的公知常識(shí)，上述X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210、光-電轉(zhuǎn)化層220以及信號(hào)處理層230的每?jī)蓪又g也可以設(shè)置其它的功能層，例如保護(hù)層、X射線(xiàn)吸收層等，不再贅述。

步驟S110：在X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210上設(shè)置軟性絕緣材料以形成保護(hù)層250?？蛇x地，該軟性絕緣材料包括但不限于碳纖維。本步驟中，可通過(guò)例如粘結(jié)的方式將軟性絕緣材料形成在X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210上。

步驟S120：在保護(hù)層250上形成能夠彎曲的濾線(xiàn)柵層240。

作為一種實(shí)施方式，步驟S120可以包括以下步驟：

在保護(hù)層250上設(shè)置一層X(jué)射線(xiàn)吸收膜，該X射線(xiàn)吸收膜含有鎢材料或鉛材料；以及，

在該X射線(xiàn)吸收膜上蝕刻形成濾線(xiàn)柵。

該X射線(xiàn)吸收膜可通過(guò)例如粘結(jié)的方式設(shè)置在保護(hù)層250上。步驟S120中，通過(guò)選用硬度較小的鎢或鉛材料并對(duì)其含量進(jìn)行合適的配置，可以使得X射線(xiàn)吸收膜能夠彎曲，進(jìn)而使得形成的濾線(xiàn)柵也可以彎曲。

作為另一種實(shí)施方式，步驟S120可以包括以下步驟：在保護(hù)層250上進(jìn)行3D打印形成濾線(xiàn)柵；或者，將通過(guò)3D打印形成的濾線(xiàn)柵設(shè)置在保護(hù)層上?？蛇x地，在進(jìn)行3D打印時(shí)形成濾線(xiàn)柵時(shí)，采用的材料包括但不限于硫酸鋇。

本發(fā)明的實(shí)施例中，為了使各濾線(xiàn)柵與X射線(xiàn)探測(cè)器的各像素點(diǎn)能夠更精確地對(duì)齊，可以將濾線(xiàn)柵層的濾線(xiàn)柵的寬度限定在特定值內(nèi)，以減小對(duì)齊誤差。例如，可以直接通過(guò)蝕刻或3D打印來(lái)形成小于該特定寬度的濾線(xiàn)柵，也可以通過(guò)以下方法實(shí)現(xiàn)：在步驟S130之后，對(duì)濾線(xiàn)柵層240的濾線(xiàn)柵進(jìn)行切割，以使濾線(xiàn)柵層的濾線(xiàn)柵的寬度小于該特定值，例如該特定值為200微米。

并且，為了使濾線(xiàn)柵層能夠彎曲并且具有較高的可靠性，本發(fā)明的實(shí)施例中，在形成濾線(xiàn)柵層240時(shí)可將其高度限制在1毫米以?xún)?nèi)。

為了防止由于探測(cè)器彎曲帶來(lái)的紋狀偽影(Moire artifacts)，在步驟S130中，將濾線(xiàn)柵層240構(gòu)造為能夠在特定部位進(jìn)行彎曲。例如，可以?xún)H在該特定部位采用軟性材料，或者，在該特定部位以外的其它部位設(shè)置加固結(jié)構(gòu)等。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可根據(jù)對(duì)應(yīng)的圖像部位的質(zhì)量來(lái)選擇將哪個(gè)部位 作為該特定部位，例如該特定部位可為濾線(xiàn)柵層的中間、四邊或者其它部位。通過(guò)這種方式，能夠便于后續(xù)進(jìn)行相應(yīng)的偽影校正，提高圖像質(zhì)量。

如圖2所示，本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例還提供了一種根據(jù)上述X射線(xiàn)探測(cè)器的制造方法制造的X射線(xiàn)探測(cè)器。

該X射線(xiàn)探測(cè)器包括上述X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210以及依次設(shè)置在X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210下的光-電轉(zhuǎn)化層220以及信號(hào)處理層230。該X射線(xiàn)探測(cè)器還包括形成在X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210上的保護(hù)層250以及形成在保護(hù)層250上的濾線(xiàn)柵層240，該濾線(xiàn)柵層240能夠彎曲。

可選地，保護(hù)層250的材料為軟性絕緣材料，例如碳纖維。

可選地，該濾線(xiàn)柵層240包括鎢材料、鉛材料或者硫酸鋇。

可選地，該濾線(xiàn)柵層240的高度不超過(guò)1毫米。

可選地，該濾線(xiàn)柵層240上的每個(gè)濾線(xiàn)柵的寬度不超過(guò)200微米。

本發(fā)明中描述的“濾線(xiàn)柵層”，其濾線(xiàn)柵既可呈格狀，也可呈條狀或者其他具有過(guò)濾X射線(xiàn)效果的形狀，本發(fā)明并不對(duì)其形狀進(jìn)行限制。

本發(fā)明的上述實(shí)施例中，通過(guò)在X射線(xiàn)-可見(jiàn)光轉(zhuǎn)化層210上形成能夠彎曲的濾線(xiàn)柵層，以將濾線(xiàn)柵直接集成在X射線(xiàn)探測(cè)器上，在使用時(shí)，不再需要將探測(cè)器安裝在濾線(xiàn)柵裝置內(nèi)再同時(shí)將他們?cè)O(shè)置在X射線(xiàn)醫(yī)療診斷系統(tǒng)中，使得X射線(xiàn)探測(cè)器的使用更方便。并且，由于設(shè)計(jì)了能夠彎曲的濾線(xiàn)柵層并將其集成至探測(cè)器，不僅能夠避免X射線(xiàn)散射帶來(lái)的圖像問(wèn)題從而提高圖像質(zhì)量，而且相較傳統(tǒng)的形態(tài)固定的濾線(xiàn)柵，能滿(mǎn)足更多的使用條件，使得X射線(xiàn)探測(cè)器的使用范圍更大。

上面已經(jīng)描述了一些示例性實(shí)施例。然而，應(yīng)該理解的是，可以做出各種修改。例如，如果所描述的技術(shù)以不同的順序執(zhí)行和/或如果所描述的系統(tǒng)、架構(gòu)、設(shè)備或電路中的組件以不同方式被組合和/或被另外的組件或其等同物替代或補(bǔ)充，則可以實(shí)現(xiàn)合適的結(jié)果。相應(yīng)地，其他實(shí)施方式也落入權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。