顯示裝置及其制造方法
【專利說(shuō)明】顯示裝置及其制造方法
[0001]本申請(qǐng)要求于2014年11月7日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2014-0154731號(hào)韓國(guó)專利申請(qǐng)的權(quán)益，該韓國(guó)專利申請(qǐng)的公開內(nèi)容通過(guò)引用全部包含于此。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]描述的技術(shù)大體上涉及一種顯示裝置和一種制造該顯示裝置的方法。
【背景技術(shù)】
[0003]近來(lái)，顯示裝置或面板已經(jīng)被用于各種目的。另外，顯示器近來(lái)已經(jīng)被制造成具有薄的外觀并且質(zhì)輕，這增加了它們的用途的數(shù)量。
[0004]隨著對(duì)更高分辨率的顯示器的需要增大，施加?xùn)艠O驅(qū)動(dòng)信號(hào)或數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)信號(hào)的信號(hào)線需要變得更薄和更長(zhǎng)。當(dāng)信號(hào)線的寬度減小以及它們的長(zhǎng)度增大時(shí)，電阻增大，這導(dǎo)致阻容(Re)延時(shí)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]—個(gè)發(fā)明方面是一種顯示裝置以及一種制造所述顯示裝置的方法。
[0006]附加的方面將在隨后的描述中部分地闡述，并且通過(guò)描述部分地將是明顯的，或者可通過(guò)當(dāng)前實(shí)施例的實(shí)踐來(lái)得知。
[0007]另一方面是一種顯示裝置，所述顯示裝置包括:第一線，沿第一方向延伸；第二線，沿第二方向延伸；以及存儲(chǔ)電容器，電連接到第一線和第二線中的至少一條，其中，第一線包括:第一金屬圖案層，沿第一方向延伸；第二金屬圖案層，形成在第一金屬圖案層上方，同時(shí)中間絕緣層形成在第一金屬圖案層和第二金屬圖案層之間，第二金屬圖案層沿第一方向延伸；以及第三金屬圖案層，通過(guò)接觸孔使第一金屬圖案層與第二金屬圖案層彼此連接。
[0008]第二金屬圖案層可具有與第一金屬圖案層相同的圖案。
[0009]中間絕緣層可具有與第一金屬圖案層和第二金屬圖案層相同的圖案。
[0010]第三金屬圖案層可位于第二金屬圖案層上。
[0011 ] 第三金屬圖案層可與第二線位于同一層上并且包括與包括在第二線中的材料相同的材料。
[0012]顯示裝置還可包括覆蓋第一線和存儲(chǔ)電容器的絕緣層，其中，絕緣層可包括與接觸孔對(duì)應(yīng)的通孔。
[0013]通孔的內(nèi)徑可等于或大于接觸孔的外徑。
[0014]接觸孔可暴露弟一金屬圖案層的上表面。
[0015]第三金屬圖案層可接觸第一金屬圖案層的上表面的至少一部分和第二金屬圖案層的上表面。
[0016]存儲(chǔ)電容器可包括第一電極、位于第一電極上的第二電極以及形成在第一電極與第二電極之間的介電層，第一電極、介電層和第二電極可分別與第一金屬圖案層、中間絕緣層以及第二金屬圖案層位于相同的層上并且可包括與包括在第一金屬圖案層、中間絕緣層和第二金屬圖案層中的材料相同的材料。
[0017]第一線可包括掃描線和發(fā)射控制線中的至少一條，第二線可包括數(shù)據(jù)線。
[0018]第三金屬圖案層可為島型。
[0019]另一方面是一種制造顯示裝置的方法，所述方法包括下述步驟:形成沿第一方面延伸的第一線；形成沿第二方向延伸的第二線；以及形成包括第一電極、介電層和第二電極的存儲(chǔ)電容器，其中，第一線的形成步驟包括:形成沿第一方向延伸的第一金屬圖案層；在第一金屬圖案層上形成中間絕緣層；在中間絕緣層上形成沿第一方向延伸的第二金屬圖案層；以及形成經(jīng)由接觸孔使第一金屬圖案層和第二金屬圖案層彼此連接的第三金屬圖案層。
[0020]在第二金屬圖案層的形成步驟中，第二金屬圖案層可具有與第一金屬圖案層相同的圖案。
[0021]在第三金屬圖案層的形成步驟中，第三金屬圖案層可接觸第一金屬圖案層的上表面的一部分和第二金屬圖案層的上表面。
[0022]所述方法還可包括下述步驟:形成覆蓋第二金屬圖案層的絕緣層；以及形成穿透絕緣層并與接觸孔對(duì)應(yīng)的通孔，其中，在第三金屬圖案層的形成步驟之前執(zhí)行絕緣層的形成步驟和通孔的形成步驟。
[0023]在第二金屬圖案層的形成步驟中，第二金屬圖案層可包括第一孔，通孔的形成步驟可包括在中間絕緣層中形成與第一孔對(duì)應(yīng)的第二孔，第一孔和第二孔可形成接觸孔。
[0024]通孔的內(nèi)徑可等于或大于第一接觸孔的外徑。
[0025]第三金屬圖案層可與第二線位于同一層并且可包括與包括在第二線中的材料相同的材料。
[0026]第一金屬圖案層可與第一電極位于同一層并且可包括與包括在第一電極中的材料相同的材料，第二金屬圖案層可與第二電極位于同一層并且可包括與包括在第二電極中的材料相同的材料。
[0027]第三金屬圖案層可為島型。
[0028]第一線可包括掃描線和發(fā)射控制線中的至少一條，第二線可包括數(shù)據(jù)線。
[0029]可在掩模工藝中同時(shí)執(zhí)行第一金屬圖案層的形成步驟、中間絕緣層的形成步驟以及第二金屬圖案層的形成步驟。
[0030]另一方面是一種顯示裝置，所述顯示裝置包括:第一線，沿第一方向延伸；第二線，沿第二方向延伸；以及存儲(chǔ)電容器，電連接到第一線和第二線中的至少一條，其中，第一線包括:第一金屬圖案層，沿第一方向延伸；中間絕緣層，形成在第一金屬圖案層上方；第二金屬圖案層，形成在第一金屬圖案層和中間絕緣層上方，第二金屬圖案層沿第一方向延伸；以及第三金屬圖案層，經(jīng)由接觸孔使第一金屬圖案層電連接到第二金屬圖案層。
[0031 ] 在示例性實(shí)施例中，第二金屬圖案層具有與第一金屬圖案層基本上相同的圖案。中間絕緣層可具有與第一金屬圖案層和第二金屬圖案層基本上相同的圖案。第三金屬圖案層可直接形成在第二金屬圖案層上。第三金屬圖案層可與第二線形成在同一層上并且由與第二線相同的材料形成。接觸孔可穿透中間絕緣層和第二金屬圖案層。接觸孔可暴露第一金屬圖案層的上表面。
[0032]在示例性實(shí)施例中，所述顯示裝置還包括覆蓋第一線和存儲(chǔ)電容器的絕緣層，其中，絕緣層包括與接觸孔對(duì)應(yīng)的通孔。通孔的內(nèi)徑可等于或大于接觸孔的外徑。第一金屬圖案層的上表面和第二金屬圖案層的上表面可經(jīng)由通孔暴露。第三金屬圖案層可接觸第一金屬圖案層的上表面的至少一部分和第二金屬圖案層的上表面。
[0033]在示例性實(shí)施例中，存儲(chǔ)電容器包括第一電極、位于第一電極上方的第二電極以及設(shè)置在第一電極與第二電極之間的介電層，其中，第一電極、介電層和第二電極分別與第一金屬圖案層、中間絕緣層以及第二金屬圖案層形成在相同的層上并且包括與第一金屬圖案層、中間絕緣層和第二金屬圖案層的材料相同的材料。第一線可包括掃描線和發(fā)射控制線中的至少一條，第二線包括數(shù)據(jù)線。第三金屬圖案層可為島型層。
[0034]另一方面是一種制造顯示裝置的方法，所述方法包括下述步驟:形成沿第一方向延伸的第一線；形成沿第二方向延伸的第二線；以及形成包括第一電極、介電層和第二電極的存儲(chǔ)電容器，其中，第一線的形成步驟包括:形成沿第一方向延伸的第一金屬圖案層；在第一金屬圖案層上方形成中間絕緣層；在中間絕緣層上方形成沿第一方向延伸的第二金屬圖案層；以及形成經(jīng)由接觸孔使第一金屬圖案層連接到第二金屬圖案層的第三金屬圖案層。
[0035]在示例性實(shí)施例中，第二金屬圖案層具有與第一金屬圖案層基本上相同的圖案。第三金屬圖案層的形成步驟可包括形成第三金屬圖案層以接觸第一金屬圖案層的上表面的一部分和第二金屬圖案層的上表面。所述方法還可包括形成接觸孔以穿透中間絕緣層和第二金屬圖案層。所述方法還可包括形成覆蓋第二金屬圖案層的絕緣層；以及形成穿透絕緣層并且與接觸孔對(duì)準(zhǔn)的通孔，其中，在第三金屬圖案層的形成步驟之前執(zhí)行絕緣層的形成步驟和通孔的形成步驟。
[0036]在示例性實(shí)施例中，第二金屬圖案層的形成步驟包括在第二金屬圖案層中形成第一孔，通孔的形成步驟包括在絕緣層中形成與第一孔對(duì)準(zhǔn)的第二孔，第一孔和第二孔形成接觸孔。通孔的內(nèi)徑可等于或大于接觸孔的外徑。第三金屬圖案層可與第二線形成在同一層上并且包括與第二線的材料相同的材料。第一金屬圖案層可與第一電極形成在同一層上并且包括與第一電極的材料相同的材料，其中，第二金屬圖案層與第二電極形成在同一層上并且包括與第二電極的材料相同的材料。
[0037]在示例性實(shí)施例中。第三金屬圖案層為島型層。第一線可包括掃描線和發(fā)射控制線中的至少一條，第二線可包括數(shù)據(jù)線?？稍谘谀９に囍型瑫r(shí)執(zhí)行第一金屬圖案層的形成步驟、中間絕緣層的形成步驟以及第二金屬圖案層的形成步驟。
【附圖說(shuō)明】
[0038]通過(guò)下面結(jié)合附圖對(duì)示例性實(shí)施例的描述，這些和/或其他方面將變得明顯且更容易理解，在附圖中:
[0039]圖1是根據(jù)實(shí)施例的顯示裝置的示意性框圖。
[0040]圖2是圖1的顯示裝置的像素的等效電路圖。
[0041]圖3是包括在圖1的顯示裝置中的像素的示意性平面圖。
[0042]圖4是沿圖3的線A-A’、B_B’和C_C’截取的顯示裝置的剖視圖。
[0043]圖5A至圖5F是示出根據(jù)實(shí)施例的制造顯示裝置的方法的剖視圖。
[0044]圖6是根據(jù)另一實(shí)施例的沿圖3的線A-A’、B_B’和C_C’截取的顯示裝置的剖視圖。
[0045]圖7A至圖7H是示出根據(jù)另一實(shí)施例的制造顯示裝置的方法的剖視圖。
[0046]圖8和圖9是沿圖3的線A-A’、B_B’和C_C’截取的根據(jù)另一實(shí)施例的顯示裝置的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0047]由于描述的技術(shù)允許各種改變和許多實(shí)施例，因此將在附圖中示出并且在書面描述中詳細(xì)地描述具體實(shí)施例。然而，這不是意圖將描述的技術(shù)局限于實(shí)踐的具體模式，而將理解的是，不脫離精神和技術(shù)范圍的所有改變、等同物以及替代物被包含在描述的技術(shù)中。在描述中，當(dāng)認(rèn)為相關(guān)技術(shù)的某些詳細(xì)解釋會(huì)不必要地模糊描述的技術(shù)的本質(zhì)時(shí)省略相關(guān)技術(shù)的該詳細(xì)解釋。
[0048]現(xiàn)在將參照示出了示例性實(shí)施例的附圖更充分地描述描述的技術(shù)。附圖中的同樣的附圖標(biāo)記指示同樣的元件，因此將省略它們的重復(fù)描述。
[0049]雖然諸如“第一”、“第二”等的術(shù)語(yǔ)可被用于描述各種組件，但是這些組件不必局限于上述術(shù)語(yǔ)。上述術(shù)語(yǔ)僅用于將一個(gè)組件與另一個(gè)組件區(qū)分開。
[0050]如在這里使用的，除非上下文另外清楚地指示，否則單數(shù)形式“一(a)”、“一(an)”和“所述(the) ”也意圖包括復(fù)數(shù)形式。
[0051]還將理解的是，在這里使用的術(shù)語(yǔ)“包括”和/或“包含”表明存在所述特征或組件，但不排除存在或附加一個(gè)或更多個(gè)其他特征或組件。
[0052]將理解的是，當(dāng)層、區(qū)域或組件被稱為“形成在”另一層、區(qū)域或組件“上”時(shí)，它可直接或間接地形成在所述另一層、區(qū)域或組件上。即，例如，也可存在中間層、區(qū)域或組件。
[0053]為了清楚起見，可夸大附圖中的組件的尺寸。換言之，由于附圖中的組件的尺寸和厚度可被夸大，因此下面的實(shí)施例不限于此。
[0054]當(dāng)某一實(shí)施例可被不同地實(shí)施時(shí)，特定工藝順序可與描述的順序不同地