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運(yùn)動(dòng)平臺(tái)及加工設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):39729555發(fā)布日期:2024-10-22 13:34閱讀:8來(lái)源:國(guó)知局
運(yùn)動(dòng)平臺(tái)及加工設(shè)備的制作方法

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)的領(lǐng)域,尤其涉及一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)及加工設(shè)備。


背景技術(shù):

1、在半導(dǎo)體技術(shù)的領(lǐng)域中,精密加工設(shè)備主要有視覺(jué)檢測(cè)設(shè)備、半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)設(shè)備等,半導(dǎo)體行業(yè)不斷發(fā)展,對(duì)這類(lèi)高精度的精密設(shè)備需求量逐年增加,對(duì)精密加工設(shè)備的精度要求越來(lái)越高。

2、目前,精密加工設(shè)備的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)主要包括雙導(dǎo)軌、安裝在雙導(dǎo)軌上的滑塊、以及電機(jī),通過(guò)雙導(dǎo)軌和滑塊的配合實(shí)現(xiàn)載臺(tái)在水平方向的雙向移動(dòng),通過(guò)電機(jī)實(shí)現(xiàn)載臺(tái)的轉(zhuǎn)動(dòng)。現(xiàn)有運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的雙導(dǎo)軌的加工和安裝容易出現(xiàn)誤差,導(dǎo)致載臺(tái)運(yùn)動(dòng)精度較低,嚴(yán)重影響晶圓等半導(dǎo)體的加工精度和質(zhì)量,無(wú)法滿(mǎn)足晶圓等半導(dǎo)體的高精度加工要求。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明實(shí)施例的目的在于:提供一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái)以及加工設(shè)備,可以提高載臺(tái)運(yùn)動(dòng)精度,提高了半導(dǎo)體的加工精度和質(zhì)量。

2、為達(dá)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:

3、一方面,提供一種運(yùn)動(dòng)平臺(tái),包括:

4、基座,設(shè)有導(dǎo)軌;

5、第一支架;

6、第一球鉸氣浮組件,包括安裝于所述第一支架的第一氣浮塊;

7、第一活塞氣浮組件,包括安裝于所述第一支架的第二氣浮塊;

8、第二支架;

9、第二球鉸氣浮組件,包括安裝于所述第二支架的第三氣浮塊;

10、第二活塞氣浮組件,包括安裝于所述第二支架的第四氣浮塊;

11、第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),與所述第一支架和/或所述第二支架傳動(dòng)連接;

12、載臺(tái),滑設(shè)于所述第一支架和所述第二支架;

13、第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),連接所述第一支架和所述載臺(tái);

14、以及

15、第三驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),連接所述第二支架和所述載臺(tái);

16、所述第一氣浮塊和所述第三氣浮塊均可相對(duì)所述第一支架轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于所述導(dǎo)軌的一側(cè),所述第二氣浮塊和所述第四氣浮塊均可相對(duì)所述第一支架轉(zhuǎn)動(dòng)且滑動(dòng)地設(shè)置于所述導(dǎo)軌的另一側(cè)。

17、可選地,所述第一球鉸氣浮組件還包括設(shè)于所述第一支架的第一球鉸塊、設(shè)于所述第一球鉸塊的第一鉸球、安裝于所述第一氣浮塊的第一氣接頭;所述第一氣浮塊具有第一球鉸槽和多個(gè)第一氣孔,所述第一氣浮塊通過(guò)所述第一球鉸槽與所述第一鉸球鉸接,各所述第一氣孔均具有與所述第一氣接頭連通的第一進(jìn)氣口和朝向所述導(dǎo)軌的第一出氣口;

18、所述第一活塞氣浮組件還包括設(shè)于所述第一支架的第一活塞塊、設(shè)于所述第一活塞塊的第一定位塞、安裝于所述第二氣浮塊的第二氣接頭;所述第二氣浮塊具有多個(gè)第二氣孔,各所述第二氣孔均具有與所述第二氣接頭連通的第二進(jìn)氣口和朝向所述導(dǎo)軌的第二出氣口,所述第二氣浮塊滑設(shè)于所述第一定位塞并與所述第一活塞塊之間形成第一擺動(dòng)間隙;

19、所述第二球鉸氣浮組件還包括設(shè)于所述第二支架的第二球鉸塊、設(shè)于所述第二球鉸塊的第二鉸球、安裝于所述第三氣浮塊的第三氣接頭;所述第三氣浮塊具有第二球鉸槽和多個(gè)第三氣孔,所述第三氣浮塊通過(guò)所述第二球鉸槽與所述第二鉸球鉸接,各所述第三氣孔均具有與所述第三氣接頭連通的第三進(jìn)氣口和朝向所述導(dǎo)軌的第三出氣口;

20、所述第二活塞氣浮組件還包括設(shè)于所述第二支架的第二活塞塊、設(shè)于所述第二活塞塊的第二定位塞、安裝于所述第四氣浮塊的第四氣接頭;所述第四氣浮塊具有多個(gè)第四氣孔,各所述第四氣孔均具有與所述第四氣接頭連通的第四進(jìn)氣口和朝向所述導(dǎo)軌的第四出氣口,所述第四氣浮塊滑設(shè)于所述第二定位塞并與所述第二活塞塊之間形成第二擺動(dòng)間隙。

21、可選地,所述載臺(tái)具有沿第二直線(xiàn)方向滑設(shè)于所述第一支架的第一滑動(dòng)部和沿第三直線(xiàn)方向滑設(shè)于所述第二支架的第二滑動(dòng)部;所述第一支架設(shè)有第一滑塊且所述載臺(tái)的所述第一滑動(dòng)部設(shè)有第一滑軌或所述第一支架設(shè)有第一滑軌且所述載臺(tái)的所述第一滑動(dòng)部設(shè)有第一滑塊,所述載臺(tái)的所述第一滑動(dòng)部通過(guò)所述第一滑軌與所述第一滑塊的配合滑設(shè)于所述第一支架;

22、所述第二支架設(shè)有第二滑塊且所述載臺(tái)的所述第二滑動(dòng)部設(shè)有第二滑軌或所述第二支架設(shè)有第二滑軌且所述載臺(tái)的所述第二滑動(dòng)部設(shè)有第二滑塊,所述載臺(tái)的所述第二滑動(dòng)部通過(guò)所述第二滑軌與所述第二滑塊的配合滑設(shè)于所述第二支架。

23、可選地,所述運(yùn)動(dòng)平臺(tái)還包括第一壓電促動(dòng)器組件和第二壓電促動(dòng)器組件;所述載臺(tái)包括支撐座和載物座;所述載物座具有第一連接部和第二連接部,所述第一壓電促動(dòng)器組件連接所述支撐座和所述載物座的所述第一連接部且所述第二壓電促動(dòng)器組件連接所述支撐座和所述載物座的所述第二連接部以驅(qū)動(dòng)所述載物座相對(duì)所述支撐座轉(zhuǎn)動(dòng)。

24、可選地,所述載臺(tái)上設(shè)有多個(gè)讓位槽,多個(gè)所述讓位槽將所述載臺(tái)分割成所述支撐座和所述載物座,多個(gè)所述讓位槽沿著所述載物座的周向間隔布設(shè),相鄰的所述讓位槽之間形成柔性連接部,所述支撐座通過(guò)所述柔性連接部與所述載物座連接。

25、可選地,所述第一壓電促動(dòng)器組件和所述第二壓電促動(dòng)器組件均包括安裝于所述支撐座的安裝座、安裝于所述安裝座的壓電堆、安裝于所述安裝座并套設(shè)于所述壓電堆的殼體、與所述壓電堆連接的推力件,以及與所述推力件連接的頂絲;所述頂絲與所述載物座連接。

26、可選地,所述第一壓電促動(dòng)器組件和所述第二壓電促動(dòng)器組件均有兩個(gè);兩個(gè)所述第一壓電促動(dòng)器組件分布在所述載物座的其中兩側(cè),兩個(gè)所述第二壓電促動(dòng)器組件分布在所述載物座的另外兩側(cè),所述支撐座上設(shè)有均用于測(cè)量所述載物座的位移的第一傳感器、第二傳感器以及第三傳感器。

27、可選地,所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括具有動(dòng)子并設(shè)于所述基座的第一直線(xiàn)電機(jī);所述動(dòng)子與所述第一支架和/或所述第二支架連接,所述基座設(shè)有光柵尺,所述第一支架或所述第二支架設(shè)有與所述光柵尺適配的光柵讀數(shù)頭;

28、所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和所述第三驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)均包括第一機(jī)座、具有第一推桿并設(shè)于所述第一機(jī)座的第二直線(xiàn)電機(jī)、與所述第一推桿連接的第一推軸、套設(shè)于所述第一推軸的推力球軸承、套設(shè)于所述第一推軸的軸承套、套設(shè)于所述第一推軸的第一彈性件、具有套槽并與所述軸承套連接的連接座、安裝于所述第一推軸的鎖緊件,以及套設(shè)于所述第一推軸的墊圈;所述推力球軸承通過(guò)所述墊圈安裝于所述軸承套內(nèi),所述鎖緊螺母和所述第一彈性件均位于所述套槽內(nèi),所述第一彈性件夾持于所述鎖緊螺母和所述墊圈之間;

29、所述第一機(jī)座安裝于所述第一支架且所述連接座與所述載臺(tái)連接或所述第一機(jī)座安裝于所述第二支架且所述連接座與所述載臺(tái)連接。

30、可選地,所述基座設(shè)有與所述導(dǎo)軌間隔布設(shè)的支撐軌,所述載臺(tái)具有間隔布設(shè)的第一支撐部和第二支撐部,所述第一支撐部設(shè)有用于形成負(fù)壓以吸附于所述導(dǎo)軌上的第一吸附孔道和用于噴射氣體以懸浮于所述導(dǎo)軌上的第一氣浮孔道,所述第二支撐部設(shè)有用于形成負(fù)壓以吸附于所述支撐軌上的第二吸附孔道和用于噴射氣體以懸浮于所述支撐軌上的第二氣浮孔道。

31、另一方面,提供一種加工設(shè)備,包括上述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)。

32、本發(fā)明的有益效果為:運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的載臺(tái)通過(guò)第一球鉸氣浮組件、第二球鉸氣浮組件、第一活塞氣浮組件、第二活塞氣浮組件與導(dǎo)軌的氣浮配合安裝在基座的導(dǎo)軌上,利用第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、第三驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的共同配合實(shí)現(xiàn)載臺(tái)在水平方向的雙向運(yùn)動(dòng)和載臺(tái)的水平轉(zhuǎn)動(dòng),第一球鉸氣浮組件、第二球鉸氣浮組件、第一活塞氣浮組件、第二活塞氣浮組件的氣浮安裝可以消除導(dǎo)軌的加工和安裝誤差對(duì)載臺(tái)運(yùn)動(dòng)的影響,不僅提高了載臺(tái)運(yùn)動(dòng)精度,而且提高了半導(dǎo)體的加工精度和質(zhì)量。

33、本發(fā)明的加工設(shè)備采用上述的運(yùn)動(dòng)平臺(tái),該加工可以適用于半導(dǎo)體的精密加工設(shè)備,可以提高半導(dǎo)體的加工精度和質(zhì)量。

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