一種磁控高壓靜電霧化裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種磁控高壓靜電霧化裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]大量的研究表明，荷電能夠降低液體表面張力及霧化阻力，且霧滴帶有同種電荷，在電場(chǎng)力作用下會(huì)破碎成更小的霧滴，霧滴的直徑分布更趨均勻。靜電增加了霧化流場(chǎng)的控制參數(shù)，即在流量、壓力、噴嘴直徑等參數(shù)一定的情況下，通過(guò)改變電場(chǎng)參數(shù)能對(duì)霧化流場(chǎng)(例如霧滴大小、霧化角、射程、霧滴運(yùn)行軌跡等)起到一定的調(diào)控作用。靜電霧化目前已廣泛應(yīng)用于農(nóng)藥噴灑、工業(yè)噴涂、材料制備、燃油燃燒、工業(yè)除塵及脫硫、顆粒聚并及分離等許多方面。但是目前的靜電霧化裝置仍然廣泛存在霧化效率不高，霧化效果不好等問(wèn)題。存在這些問(wèn)題的原因在于不同物質(zhì)的導(dǎo)電性等物理性質(zhì)不一樣，他們所需要的霧化條件也不一樣，例如:加載的用于霧化的電壓等因素應(yīng)該隨著待霧化的物質(zhì)變化而進(jìn)行一定的調(diào)整。此外由于待霧化物質(zhì)在噴嘴中留存的時(shí)間較短噴霧電極與參比電極之間的距離也會(huì)影響到待霧化物質(zhì)受到電場(chǎng)離化的效果，進(jìn)而影響噴霧效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種磁控高壓靜電霧化裝置，該裝置的噴嘴設(shè)置有超導(dǎo)線圈，使得在電場(chǎng)區(qū)域內(nèi)形成一個(gè)垂直于電場(chǎng)線方向的一個(gè)磁場(chǎng)，由噴霧電極發(fā)射出的電子在受到電場(chǎng)力作用發(fā)生運(yùn)動(dòng)的同時(shí)受到來(lái)自磁場(chǎng)的洛倫茲力，使得電子由噴霧電極向參比電極移動(dòng)的過(guò)程中呈螺旋式路徑移動(dòng)，增加電子在液體中的作用路徑。從而增加電子和液體之間的作用時(shí)間以強(qiáng)化離化程度，改善系統(tǒng)的霧化效果。
[0004]本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的:一種磁控高壓靜電霧化裝置，它包括儲(chǔ)液箱、計(jì)量栗、輸液導(dǎo)管和噴嘴，所述的計(jì)量栗的吸入端通過(guò)輸液導(dǎo)管與儲(chǔ)液箱相連，計(jì)量栗的輸出端通過(guò)另一根輸液導(dǎo)管與噴嘴相連。所述的噴嘴包括直流電壓源、電磁線圈、擋圈、噴霧位點(diǎn)、噴霧電極、絕緣套、參比電極和電壓源，所述的參比電極為噴嘴用于臨時(shí)存放液體的外殼，噴霧位點(diǎn)位于噴嘴外殼底部，噴霧電極垂直向下插入噴嘴中，電壓源為噴霧電極和參比電極提供電壓，所述的電磁線圈設(shè)置在噴霧位點(diǎn)外圍的外殼內(nèi)，并被擋圈固定，直流電壓源與電磁線圈相連，為電磁線圈提供電源。
[0005 ]所述的噴霧電極被絕緣套包裹，只露出噴霧電極的尖端部分。
[0006]所述的噴霧電極為針狀電極。
[0007]所述的外殼為銅質(zhì)外殼。
[0008]所述的噴霧位點(diǎn)為一個(gè)圓形通孔，該圓形通孔的直徑d為I mm?5 mm，該圓形通孔的深度 h2 為 1.5d~2.5d。
[0009]所述的噴霧電極與所述的參比電極的內(nèi)壁的距離D為6d，噴霧電極與噴嘴外殼底部的距離hi為Id?1.5d。
[0010]所述的絕緣套底部與噴嘴外殼底部的距離H為1.5b。
[0011]所述的電壓源為工作在O?-50kv的高負(fù)壓電源。
[0012]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明提供了一種磁控高壓靜電霧化裝置，該裝置噴嘴的噴霧電極被絕緣套包裹，只露出尖端部分，以便于電流只從針尖流出，增強(qiáng)液體的離化效果;設(shè)置有電磁線圈，使得在電場(chǎng)區(qū)域內(nèi)形成一個(gè)垂直于電場(chǎng)線方向的一個(gè)磁場(chǎng)，由噴霧電極發(fā)射出的電子在受到電場(chǎng)力作用發(fā)生運(yùn)動(dòng)的同時(shí)受到來(lái)自磁場(chǎng)的洛倫茲力，使得電子由噴霧電極向參比電極移動(dòng)的過(guò)程中呈螺旋式路徑移動(dòng)，增加電子在液體中的作用路徑，即由以前的從發(fā)射電極到參比電極的直線運(yùn)動(dòng)變?yōu)楝F(xiàn)在受洛倫茲力作用下的螺旋運(yùn)動(dòng)。
【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1為噴霧裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為普通電磁線圈噴嘴結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3為超導(dǎo)電磁線圈嗔嘴結(jié)構(gòu)不意圖；
圖中，1-儲(chǔ)液箱，2-計(jì)量栗，3-輸液導(dǎo)管，4-噴嘴，5-直流電壓源，6-普通電磁線圈，7-擋圈，8-噴霧位點(diǎn)，9-噴霧電極，I O-絕緣套，11-參比電極，12-電壓源，13-超導(dǎo)電磁線圈。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖進(jìn)一步詳細(xì)描述本發(fā)明的技術(shù)方案，但本發(fā)明的保護(hù)范圍不局限于以下所述。
[0015]如圖1和圖2所示，本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施方案，一種基于普通電磁線圈建立霧化磁場(chǎng)的磁控高壓靜電霧化裝置，它包括儲(chǔ)液箱1、計(jì)量栗2、輸液導(dǎo)管3和噴嘴4，所述的計(jì)量栗2的吸入端通過(guò)輸液導(dǎo)管3與儲(chǔ)液箱I相連，計(jì)量栗2的輸出端通過(guò)另一根輸液導(dǎo)管3與噴嘴4相連。所述的噴嘴4包括直流電壓源5、電磁線圈6、擋圈7、噴霧位點(diǎn)8、噴霧電極9、絕緣套1、參比電極11、電壓源12，所述的參比電極11為噴嘴用于臨時(shí)存放液體的外殼，噴霧位點(diǎn)8位于噴嘴外殼底部，噴霧電極9垂直向下插入噴嘴中，電壓源12為噴霧電極9和參比電極11提供電壓，所述的電磁線圈6設(shè)置在噴霧位點(diǎn)8外圍的外殼內(nèi)，所述的擋圈7固定電磁線圈于噴嘴外殼上，直流電壓源5與電磁線圈6相連，為電磁線圈6提供電源。
[0016]所述的噴霧電極9為針狀電極。
[0017]所述的噴霧電極9被絕緣套10包裹，只露出尖端部分。
[0018]所述的外殼為銅質(zhì)外殼。
[0019 ] 所述的噴霧位點(diǎn)8為一個(gè)圓形通孔，該圓形通孔的直徑d為Imm?5mm，該圓形通孔的深度 h2 為 1.5d~2.5d。
[0020]所述的噴霧電極9與所述的參比電極11的內(nèi)壁的距離D為6d，噴霧電極12與噴嘴外殼底部的距離In為lchl.5d。
[0021 ]所述的絕緣套10底部與噴嘴外殼底部的距離H為1.5h1
[0022]所述的電壓源12為工作在O?-50kV的高負(fù)壓電源。
[0023]待霧化液體存儲(chǔ)在儲(chǔ)液箱I中，儲(chǔ)液箱I通過(guò)輸液導(dǎo)管3與計(jì)量栗2的吸入端相連，計(jì)量栗2的輸出端通過(guò)另一根輸液導(dǎo)管3與噴嘴4相連，將待霧化的液體輸入噴嘴4中。直流電壓源5通過(guò)導(dǎo)線與噴嘴4外圍的電磁線圈6相連，用于在噴霧位點(diǎn)8處產(chǎn)生一個(gè)穩(wěn)定的磁場(chǎng)。噴嘴4中的噴霧電極9和參比電極11分別通過(guò)導(dǎo)線與電壓源12相連，在電壓源12的作用下，在噴霧電極9和參比電極11之間建立一個(gè)高壓電場(chǎng)。在磁場(chǎng)和高壓電場(chǎng)的共同作用下，待霧化物質(zhì)快速離化，并在噴霧位點(diǎn)快速實(shí)現(xiàn)更細(xì)粒徑的霧化。
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