光阻儲(chǔ)液罐和光阻涂布機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光阻涂布技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光阻儲(chǔ)液罐及一種具有所述光阻儲(chǔ)液罐的光阻涂布機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)情況，光阻涂布機(jī)需要在基板上涂布不同的光阻。在涂布過(guò)程中，光阻涂布機(jī)中的光阻儲(chǔ)液罐隨著噴嘴移動(dòng)，光阻儲(chǔ)液罐內(nèi)的光阻液面將發(fā)生激蕩，從而導(dǎo)致部分光阻沉積、殘留在光阻儲(chǔ)液罐的內(nèi)壁上?，F(xiàn)有技術(shù)中的光阻儲(chǔ)液罐，在光阻涂布機(jī)完成上一批次的光阻涂布后，需要經(jīng)過(guò)多次清洗劑清洗和基板傳片測(cè)試過(guò)程來(lái)清除光阻儲(chǔ)液罐內(nèi)壁上殘留的光阻。之后，光阻涂布機(jī)才可以進(jìn)行下一批次的光阻涂布。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]有鑒于此，本發(fā)明提供了一種光阻儲(chǔ)液罐及一種具有所述光阻儲(chǔ)液罐的光阻涂布機(jī)，僅通過(guò)清洗劑清洗過(guò)程就能夠清除光阻儲(chǔ)液罐內(nèi)壁上殘留的光阻。
[0004]—種光阻儲(chǔ)液罐，包括:儲(chǔ)液罐主體、儲(chǔ)液管、偵測(cè)管、第一液位計(jì)和第二液位計(jì)，所述儲(chǔ)液罐主體具有頂蓋和底部;所述儲(chǔ)液管設(shè)置在所述頂蓋上并貫穿所述頂蓋，所述儲(chǔ)液管包括相對(duì)設(shè)置的第一端和第二端，所述第一端與所述儲(chǔ)液罐主體貫通;所述偵測(cè)管的一端與所述底部相連且與所述儲(chǔ)液罐主體貫通，所述偵測(cè)管的另一端與所述儲(chǔ)液管貫通；所述第一液位計(jì)設(shè)置在所述偵測(cè)管上靠近所述底部的一端;所述第二液位計(jì)設(shè)置在所述偵測(cè)管上位于所述底部與所述頂蓋之間的位置。
[0005]其中，所述光阻儲(chǔ)液罐還包括第三液位計(jì)，所述第三液位計(jì)設(shè)置在所述偵測(cè)管上位于所述頂蓋與所述第二端之間的位置。
[0006]其中，所述光阻儲(chǔ)液罐還包括空氣導(dǎo)管和閥門(mén)，所述空氣導(dǎo)管的一端與所述儲(chǔ)液管的所述第二端連通，所述閥門(mén)設(shè)置在所述空氣導(dǎo)管上。
[0007]其中，所述光阻儲(chǔ)液罐還包括導(dǎo)液管，所述導(dǎo)液管設(shè)置在所述儲(chǔ)液罐主體的所述底部，并與所述儲(chǔ)液罐主體連通。
[0008]—種光阻涂布機(jī)，包括光阻儲(chǔ)液罐，所述光阻儲(chǔ)液罐包括:儲(chǔ)液罐主體、儲(chǔ)液管、偵測(cè)管、第一液位計(jì)和第二液位計(jì)，所述儲(chǔ)液罐主體具有頂蓋和底部;所述儲(chǔ)液管設(shè)置在所述頂蓋上并貫穿所述頂蓋，所述儲(chǔ)液管包括相對(duì)設(shè)置的第一端和第二端，所述第一端與所述儲(chǔ)液罐主體貫通;所述偵測(cè)管的一端與所述底部相連且與所述儲(chǔ)液罐主體貫通，所述偵測(cè)管的另一端與所述儲(chǔ)液管貫通;所述第一液位計(jì)設(shè)置在所述偵測(cè)管上靠近所述底部的一端;所述第二液位計(jì)設(shè)置在所述偵測(cè)管上位于所述底部與所述頂蓋之間的位置。
[0009]其中，所述光阻儲(chǔ)液罐還包括第三液位計(jì)，所述第三液位計(jì)設(shè)置在所述偵測(cè)管上位于所述頂蓋與所述第二端之間的位置。
[0010]其中，所述光阻儲(chǔ)液罐還包括空氣導(dǎo)管和閥門(mén)，所述空氣導(dǎo)管的一端與所述儲(chǔ)液管的所述第二端相連，所述閥門(mén)設(shè)置在所述空氣導(dǎo)管上。
[0011]其中，所述光阻儲(chǔ)液罐還包括導(dǎo)液管，所述導(dǎo)液管設(shè)置在所述儲(chǔ)液罐主體的所述底部，并與所述儲(chǔ)液罐主體連通;所述光阻涂布機(jī)還包括噴嘴，所述噴嘴與所述導(dǎo)液管上遠(yuǎn)離所述底部的一端相連。
[0012]因此，本發(fā)明的光阻儲(chǔ)液罐及光阻涂布機(jī)，通過(guò)設(shè)置儲(chǔ)液管、偵測(cè)管，以及安裝在所述偵測(cè)管上的液位計(jì)，在清潔所述光阻儲(chǔ)液罐的過(guò)程中，所述光阻儲(chǔ)液罐主體及所述儲(chǔ)液管均中盛裝有清洗液，清洗液能夠完全覆蓋光阻儲(chǔ)液罐內(nèi)壁上光阻濺射的區(qū)域。由此僅需清洗液清洗過(guò)程就可以完全清除光阻儲(chǔ)液罐內(nèi)壁上殘留的光阻而省去了基板傳片測(cè)試工序，從而簡(jiǎn)化了工藝，提升了生產(chǎn)效率;減少了光阻消耗，降低了生產(chǎn)成本;同時(shí)也提升了涂布質(zhì)量。
【附圖說(shuō)明】
[0013]為更清楚地闡述本發(fā)明的構(gòu)造特征和功效，下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施例來(lái)對(duì)其進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0014]圖1是現(xiàn)有的一種光阻儲(chǔ)液罐的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖2是本發(fā)明實(shí)施例的光阻儲(chǔ)液罐的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例
[0016]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都應(yīng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0017]圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)中的一種光阻儲(chǔ)液罐10，光阻儲(chǔ)液罐10安裝在機(jī)臺(tái)(圖未示)上。如圖1所示，光阻儲(chǔ)液罐10包括儲(chǔ)液罐主體11和偵測(cè)管13。儲(chǔ)液罐主體11是一個(gè)圓柱狀的罐體，用來(lái)盛裝光阻。儲(chǔ)液罐主體11的底部設(shè)置有導(dǎo)液管(圖未示)，所述導(dǎo)液管與儲(chǔ)液罐主體11連通。儲(chǔ)液罐主體11的頂蓋上還連接有空氣導(dǎo)管(圖未示)，以及設(shè)置在所述空氣導(dǎo)管上的電磁閥(圖未示)。所述空氣導(dǎo)管中充有空氣，所述空氣導(dǎo)管中的空氣擠壓儲(chǔ)液罐主體11中的光阻，使得光阻從所述導(dǎo)液管中流出。所述電磁閥控制所述空氣導(dǎo)管中的空氣量。偵測(cè)管13的兩端分別連接在儲(chǔ)液罐主體11的頂蓋附近和底部附近，且偵測(cè)管13與儲(chǔ)液罐主體11連通。偵測(cè)管13的兩端分別設(shè)置有第一液位計(jì)12和第二液位計(jì)14，液位計(jì)用來(lái)監(jiān)測(cè)偵測(cè)管13中光阻的液位，第一液位計(jì)12的位置和第二液位計(jì)14的位置分別對(duì)應(yīng)偵測(cè)管13中光阻的下極限液位和上極限液位。當(dāng)偵測(cè)管13中的光阻達(dá)到所述下極限液位，第一液位計(jì)12向所述機(jī)臺(tái)發(fā)送報(bào)警信號(hào)，所述機(jī)臺(tái)則向儲(chǔ)液罐主體11中添加光阻，偵測(cè)管13中光阻的液位也同步上升；當(dāng)偵測(cè)管13中光阻的液位達(dá)到所述上極限液位時(shí)，第二液位計(jì)14向所述機(jī)臺(tái)發(fā)送報(bào)警信號(hào)，所述機(jī)臺(tái)則停止向儲(chǔ)液罐主體11中添加光阻。
[0018]在涂布光阻時(shí)，光阻儲(chǔ)液罐10發(fā)生移動(dòng)，儲(chǔ)液罐主體11內(nèi)的光阻液面將產(chǎn)生激蕩，使光阻濺射在儲(chǔ)液罐主體11的內(nèi)壁上。為避免光阻濺射入所述空氣導(dǎo)管、進(jìn)一步進(jìn)入所述電磁閥中而損壞設(shè)備，儲(chǔ)液罐主體11內(nèi)的光阻液位不能高于第二液位計(jì)14的位置。為保證下一批次基板的涂布質(zhì)量，在完成上一批次的光阻涂布后，儲(chǔ)液罐主體11需要先使用清洗液進(jìn)行清洗。在清洗時(shí)，光儲(chǔ)液Si主體11幾乎保持平穩(wěn)狀態(tài);但是清洗液的粘度小，還是存在濺入所述空氣導(dǎo)管和所述電磁閥的極大風(fēng)險(xiǎn)。因此儲(chǔ)液罐主體11中清洗液的液位也不能超過(guò)第二液位計(jì)14的位置。由此清洗液將不能清除掉儲(chǔ)液罐主體11內(nèi)壁上高于第二液位計(jì)14的區(qū)域中的殘留光阻，所以還需要使用基板傳片測(cè)試工序來(lái)對(duì)上述區(qū)域中的殘留光阻進(jìn)行進(jìn)一步的清除?；鍌髌瑴y(cè)試工序的具體操作如下:在光阻儲(chǔ)液罐10中盛裝下一批次待正常涂布的光阻，然后在測(cè)試基板上按照正常涂布的方式進(jìn)行光阻涂布。在基板傳片測(cè)試的涂布過(guò)程中，上一批次的光阻殘留將逐漸被本批次中激蕩的光阻溶解而涂布到所述測(cè)試基板上，由此