涂布光阻膜的方法以及使用該方法的涂布設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種涂布光阻膜的方法及使用該方法的設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 涂布設(shè)備（Coater)用于將光阻劑均勻涂布于玻璃基板之上，以便曝光機(jī)透過光 罩使光阻劑發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后的光阻更易被顯影液洗去，未反應(yīng)的光阻劑則保留在TFT各 層表面起保護(hù)作用，最終經(jīng)過蝕刻工序即可得到與光罩相同的線路圖案，構(gòu)成TFT的基本 電性功能，而光阻膜的厚度對此有著重要的影響。
[0003] 在TFT-LCD制程技術(shù)中，涂布方式主要有旋轉(zhuǎn)涂布與線性涂布（落簾式涂布與條 縫型擠壓式涂布），由于條縫型擠壓式涂布光阻劑利用率高，易獲得高精度、薄厚度涂層，因 此成為目前液晶面板制造行業(yè)應(yīng)用最為廣泛的涂布技術(shù)。
[0004] 在利用條縫型擠壓式光阻劑涂布設(shè)備的TFT-IXD PHOTO制程中，當(dāng)設(shè)備參數(shù)、光阻 膜厚要求以及當(dāng)使用的光阻劑型號發(fā)生改變時(shí)都需要對涂布設(shè)備的光阻膜厚重新進(jìn)行調(diào) 節(jié)，現(xiàn)有的調(diào)節(jié)方法主要是依靠人工調(diào)節(jié)涂布模頭唇片上精密螺絲的松緊度來調(diào)節(jié)模頭唇 片的間距，以此調(diào)節(jié)對光阻劑流量，最終實(shí)現(xiàn)調(diào)節(jié)光阻膜厚的目的。這種方法由于缺乏對光 阻膜厚進(jìn)行自動(dòng)控制和調(diào)節(jié)的機(jī)制，因此調(diào)節(jié)起來費(fèi)時(shí)費(fèi)力，且每次調(diào)節(jié)完畢后需要生產(chǎn) 實(shí)驗(yàn)片并對實(shí)驗(yàn)片進(jìn)行膜厚測量，測量光阻膜厚是否達(dá)到期望的厚度，耗時(shí)較久，大大降低 了效率，同時(shí)在人工調(diào)節(jié)過程中稍有操作上的失誤可能就會(huì)造成涂布設(shè)備硬件上的變化， 極易出現(xiàn)光阻膜厚不均勻的現(xiàn)象，影響涂布性能和產(chǎn)品品質(zhì)，延長了停機(jī)調(diào)整時(shí)間，進(jìn)一步 降低生產(chǎn)效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 為了解決現(xiàn)有光阻膜厚控制中的耗時(shí)耗力、光阻膜厚不均勻?qū)е律a(chǎn)效率降低等 問題，本發(fā)明提供一種用于控制條縫型擠壓式涂布設(shè)備的控制方法，其中，所述條縫型擠壓 式涂布設(shè)備包括控制系統(tǒng)，所述方法包括：
[0006] ㈧根據(jù)已知的光阻劑的參數(shù)及涂布設(shè)備的設(shè)備參數(shù)獲得控制系統(tǒng)的閉環(huán)傳遞函 數(shù)，所述閉環(huán)傳遞函數(shù)為：
[0007]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種用于控制條縫型擠壓式涂布設(shè)備的控制方法，其特征在于，所述條縫型擠壓式 涂布設(shè)備包括控制系統(tǒng)，所述方法包括： (A) 根據(jù)已知的光阻劑的參數(shù)及涂布設(shè)備的設(shè)備參數(shù)獲得控制系統(tǒng)的閉環(huán)傳遞函數(shù)， 所述閉環(huán)傳遞函數(shù)為：
(B) 利用所述閉環(huán)傳遞函數(shù)進(jìn)行基于BP的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的PID控制， 其中，在所述閉環(huán)傳遞函數(shù)中，A、B為常數(shù)，q為單位涂布寬度光阻劑流量。
2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，利用基于BP的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)對所述閉環(huán)傳遞函 數(shù)的PID參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化，控制系統(tǒng)根據(jù)優(yōu)化后的PID參數(shù)進(jìn)行操作，并輸出控制光阻劑流量 的控制信號。
3. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述閉環(huán)傳遞函數(shù)是基于彈性流體動(dòng)力 學(xué)模型的光阻膜厚的公式獲得的，其中，所述基于彈性流體動(dòng)力學(xué)模型的光阻膜厚的公式 為：
其中，Ca為光阻劑毛細(xì)數(shù)，β為光阻劑與基板的接觸角，Vc^為涂布速度，μ為光阻劑 粘度，σ為光阻劑表面張力，Q為單位涂布寬度光阻劑使用量，L表示涂布模頭的兩個(gè)唇片 中的每個(gè)唇片的寬度，G表示涂布模頭的兩個(gè)唇片與基板的距離。
4. 一種涂布設(shè)備，其特征在于，所述涂布設(shè)備包括： 涂布模頭，用于將光阻劑涂布到基板上，以在基板上形成光阻膜； 壓力泵，用于向所述涂布模頭供應(yīng)光阻劑； 控制系統(tǒng)，輸出用于控制壓力泵供應(yīng)的光阻劑的流量的控制信號， 其中，所述控制系統(tǒng)通過如下步驟輸出所述控制信號： (A) 根據(jù)已知的光阻劑的參數(shù)及涂布設(shè)備的設(shè)備參數(shù)獲得控制系統(tǒng)的閉環(huán)傳遞函數(shù)， 所述閉環(huán)傳遞函數(shù)為：
(B) 利用所述閉環(huán)傳遞函數(shù)進(jìn)行基于BP的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的PID控制， 其中，在所述閉環(huán)傳遞函數(shù)中，Α、Β為常數(shù)，q為單位涂布寬度光阻劑流量。
5. 如權(quán)利要求4所述的涂布設(shè)備，其特征在于，控制系統(tǒng)利用基于BP的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)對所 述閉環(huán)傳遞函數(shù)的PID參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化，根據(jù)優(yōu)化后的PID參數(shù)進(jìn)行操作，并輸出控制光阻劑 流量的控制信號。
6. 如權(quán)利要求4所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述涂布設(shè)備為等寬等距式單條縫型 擠壓式涂布設(shè)備。
7. 如權(quán)利要求4所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述公式1是基于彈性流體動(dòng)力學(xué)模型 的光阻膜厚的公式獲得的，其中，所述彈性流體動(dòng)力學(xué)模型的光阻膜厚的公式為：
其中，Ca為光阻劑毛細(xì)數(shù)，β為光阻劑與基板的接觸角，Vc^為涂布速度，μ為光阻劑 粘度，σ為光阻劑表面張力，Q為單位涂布寬度光阻劑使用量，L表示涂布模頭的兩個(gè)唇片 中的每個(gè)唇片的寬度，G表示涂布模頭的兩個(gè)唇片與基板的距離。
【專利摘要】提供一種涂布光阻膜的方法以及使用該方法的涂布設(shè)備。所述方法包括：(A)根據(jù)已知的光阻劑的參數(shù)及涂布設(shè)備的設(shè)備參數(shù)獲得控制系統(tǒng)的閉環(huán)傳遞函數(shù)；(B)利用所述閉環(huán)傳遞函數(shù)進(jìn)行基于BP的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的PID控制。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的用于涂布光阻膜的方法，可以在使涂布設(shè)備保持設(shè)定的涂布速度的情況下，僅通過調(diào)節(jié)光阻劑的流量來控制涂布的光阻膜的厚度，從而使涂布設(shè)備在最優(yōu)的涂布速度下自動(dòng)調(diào)節(jié)光阻膜厚，無需人力手工調(diào)節(jié)，節(jié)省了勞動(dòng)力，并且加快了調(diào)控時(shí)間，提高了工作效率。
【IPC分類】C03C17-00, G05B19-418
【公開號】CN104635692
【申請?zhí)枴緾N201410856559
【發(fā)明人】劉曉樂, 遲文宏, 李晶波, 覃偉武
【申請人】深圳市華星光電技術(shù)有限公司
【公開日】2015年5月20日
【申請日】2014年12月31日