本發(fā)明涉及一種濕法工藝設(shè)備，特別是涉及一種將氣液分離單元設(shè)置于工藝腔體內(nèi)部的濕法工藝設(shè)備。

背景技術(shù)：

濕法工藝設(shè)備廣泛用在半導(dǎo)體元件的制造。在濕法工藝中濕法工藝設(shè)備須采用大量的化學(xué)藥液，其大多為具有酸性或堿性等腐蝕性的物質(zhì)。因此，從濕法工藝設(shè)備內(nèi)抽出的化學(xué)性氣液混合物中往往夾帶具有腐蝕性的化學(xué)液體。基于環(huán)境保護(hù)與安全的考量，必須先將濕法工藝設(shè)備內(nèi)的化學(xué)性氣液混合物進(jìn)行處理以將化學(xué)性氣液混合物中的化學(xué)液體分離，接著才可進(jìn)行后續(xù)處理。

請(qǐng)參照?qǐng)D1，其顯示一種現(xiàn)有的濕法工藝設(shè)備10的示意圖。所述濕法工藝設(shè)備10包含工藝腔體20、氣液分離單元30和氣體處理單元40。所述氣液分離單元30設(shè)置在工藝腔體20的外部，且位于所述工藝腔體20的上方位置。具體而言，所述氣液分離單元30是與位于所述工藝腔體20的上方的排氣孔21連通，進(jìn)而通過所述排氣孔21將所述工藝腔體20內(nèi)部的化學(xué)性氣液混合物導(dǎo)入所述氣液分離單元30中。接著通過所述氣液分離單元30將所述化學(xué)性氣液混合物進(jìn)行氣液分離后，分離出的廢氣會(huì)被排入所述氣體處理單元40內(nèi)。最后經(jīng)過所述氣體處理單元40的處理后，才可將無毒無害的氣體進(jìn)行排放。

如圖1所示，所述氣液分離單元30包含一傳輸管道31和一過濾元件32，其中所述傳輸管道31連接于所述工藝腔體20的所述排氣孔21與所述氣體處理單元40之間，并且所述過濾元件32設(shè)置在所述傳輸管道31內(nèi)。當(dāng)所述化學(xué)性氣液 混合物通過所述過濾元件32時(shí)，所述化學(xué)性氣液混合物中的化學(xué)液體會(huì)凝結(jié)與附著在所述過濾元件32上，剩余的廢氣則會(huì)通過所述過濾元件32朝所述氣體處理單元40的方向前進(jìn)。

然而，由于所述氣液分離單元30的所述傳輸管道31并非采用一體成型的結(jié)構(gòu)，而是采用將多段管路互相連接的方式以組裝形成所述傳輸管道31。因此，在所述傳輸管道31的管壁上形成有多道接縫，使得部分的化學(xué)液體會(huì)通過所述多道接縫流至所述傳輸管道31外，進(jìn)而導(dǎo)致所述濕法工藝設(shè)備10因化學(xué)液體的腐蝕而造成損壞。此一外漏的化學(xué)液體也會(huì)對(duì)操作人員的安全造成影響。另一方面，由于所述氣液分離單元30是設(shè)制在所述工藝腔體20的上方，不但占用空間還具有一定的高度，使得操作人員在不論維修、保養(yǎng)以及更換所述過濾元件32時(shí)皆會(huì)帶來諸多不便。

有鑒于此，有必要提供一種濕法工藝設(shè)備，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的目的在于提供一種濕法工藝設(shè)備，所述濕法工藝設(shè)備的氣液分離單元設(shè)置在工藝腔體內(nèi)，并且是先在所述工藝腔體內(nèi)進(jìn)行氣液分離之后再將分離后的廢氣排入設(shè)置在所述工藝腔體外部的氣體處理單元，進(jìn)而可避免由于在所述工藝腔體外部進(jìn)行氣液分離，導(dǎo)致分離后的化學(xué)液體流到所述濕法工藝設(shè)備的外部，尤其是滴落到所述工藝腔體的外部元件上，進(jìn)而造成所述工藝腔體損壞的問題。

為達(dá)成上述目的，本發(fā)明提供一種具有內(nèi)置式氣液分離單元的濕法工藝設(shè)備，包含：一工藝腔體；一氣體處理單元；以及一氣液分離單元，連接在所述工藝腔體與所述氣體處理單元之間，包含一傳輸管道和一過濾元件，所述傳輸 管道包括：一進(jìn)入段，用于將所述工藝腔體內(nèi)的一化學(xué)性氣液混合物輸入所述氣液分離單元內(nèi)；一反應(yīng)段，用于容置所述過濾元件，使得通過所述過濾元件的所述化學(xué)性氣液混合物分離為一化學(xué)液體和一廢氣；以及一排氣段，用于將所述廢氣排入所述氣體處理單元，其中所述氣液分離單元的所述傳輸管道的所述進(jìn)入段與所述反應(yīng)段設(shè)置在所述工藝腔體的內(nèi)部。

于本發(fā)明其中之一優(yōu)選實(shí)施例中，所述工藝腔體包含一位于上方的排氣孔，所述氣液分離單元的所述排氣段通過所述排氣孔與所述氣體處理單元連通。

于本發(fā)明其中之一優(yōu)選實(shí)施例中，所述氣液分離單元的所述反應(yīng)段在所述工藝腔體的內(nèi)部沿一方向延伸，且所述反應(yīng)段的兩端包含一對(duì)進(jìn)入段。

于本發(fā)明其中之一優(yōu)選實(shí)施例中，所述濕法工藝設(shè)備還包含一傳送單元，用于傳送一基板，其中所述基板的行進(jìn)方向與所述氣液分離單元的所述反應(yīng)段的延伸方向相同。

于本發(fā)明其中之一優(yōu)選實(shí)施例中，所述氣液分離單元與所述基板相距一橫向距離。

于本發(fā)明其中之一優(yōu)選實(shí)施例中，所述氣液分離單元的所述反應(yīng)段相對(duì)一水平面傾斜，使得所述化學(xué)液體通過所述進(jìn)入段下方的排液口來流至所述工藝腔體的底部。

于本發(fā)明其中之一優(yōu)選實(shí)施例中，所述氣液分離單元的所述反應(yīng)段的兩端相對(duì)中央向下傾斜，且所述兩端分別與一對(duì)進(jìn)入段連接，以及所述中央與所述排氣段連接。

本發(fā)明還提供一種具有內(nèi)置式氣液分離單元的濕法工藝設(shè)備，包含：一工藝腔體，其底部可接納一待處理的基板；一氣體處理單元位在所述工藝腔體之 外；以及一氣液分離單元，連接在所述工藝腔體與所述氣體處理單元之間，包含一傳輸管道和一過濾元件，所述傳輸管道包括：一進(jìn)入段，用于將所述工藝腔體內(nèi)的一化學(xué)性氣液混合物輸入所述氣液分離單元內(nèi)；一反應(yīng)段，用于容置所述過濾元件，使得通過所述過濾元件的所述化學(xué)性氣液混合物分離為一化學(xué)液體和一廢氣；以及一排氣段，用于將所述廢氣排入所述氣體處理單元，其中所述氣液分離單元的所述傳輸管道的所述進(jìn)入段與所述反應(yīng)段設(shè)置在所述工藝腔體的內(nèi)部。

于本發(fā)明其中之一優(yōu)選實(shí)施例中，所述傳輸管道大致有一“倒y”形的形狀。

于本發(fā)明其中之一優(yōu)選實(shí)施例中，所述分離出的化學(xué)液體從位在所述反應(yīng)段二端的排液口滴落至所述工藝腔體的底部，所述傳輸管道和所述基板距離有一充分的距離使所述滴落的化學(xué)液體不會(huì)滴在所述基板上。

附圖說明

圖1顯示一種現(xiàn)有的濕法工藝設(shè)備的示意圖；

圖2顯示一種本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的濕法工藝設(shè)備的示意圖；以及

圖3顯示圖2的濕法工藝設(shè)備的側(cè)視圖。

具體實(shí)施方式

為了讓本發(fā)明的上述及其他目的、特征、優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文將特舉本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例，并配合附圖，作詳細(xì)說明如下。

請(qǐng)參照?qǐng)D2，其顯示一種本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的濕法工藝設(shè)備100的示意圖。所述濕法工藝設(shè)備100包含工藝腔體200、氣液分離單元300、氣體處理單 元400和傳送單元500。所述氣液分離單元300連接在所述工藝腔體200與所述氣體處理單元400之間，用于將所述工藝腔體200內(nèi)的化學(xué)性氣液混合物610進(jìn)行氣液分離。所述氣體處理單元400設(shè)置在所述工藝腔體200上方，用于處理氣液分離后的廢氣630。所述傳送單元500設(shè)置在所述工藝腔體200內(nèi)部的下方，用于將待處理的基板700朝y方向傳送。所述基板700可為例如一半導(dǎo)體基板，像是薄膜電晶體基板(thinfilmtransistorsubstrate)，其是要在所述工藝腔體200內(nèi)由所述濕法工藝設(shè)備100所處理。

如圖2所示，所述氣液分離單元300包含傳輸管道310和設(shè)置在所述傳輸管道310內(nèi)部的過濾元件320。所述傳輸管道310大致有一“倒y”形的形狀，其包含一對(duì)進(jìn)入段311、一反應(yīng)段312、和一排氣段313，其中所述對(duì)進(jìn)入段311、所述反應(yīng)段312、和所述排氣段313的相對(duì)高度沿著一縱向方向(z方向)依序向上增加，使得所述排氣段313位于一相對(duì)較高的位置，以及所述對(duì)進(jìn)入段311位于一相對(duì)較低的位置。另外，所述傳輸管道310的所述反應(yīng)段312大致沿著所述基板700行進(jìn)方向y傾斜延伸。

如圖2所示，所述對(duì)進(jìn)入段311設(shè)置在所述反應(yīng)段312的兩端，以及所述排氣段313設(shè)置在所述反應(yīng)段312的中央。所述對(duì)進(jìn)入段311用于將所述工藝腔體200產(chǎn)生的化學(xué)性氣液混合物610輸入所述氣液分離單元300的所述反應(yīng)段312內(nèi)。所述反應(yīng)段312是用于容置所述過濾元件320使得通過所述過濾元件320的所述化學(xué)性氣液混合物610分離為化學(xué)液體620和廢氣630，其中所述化學(xué)性氣液混合物610中的所述化學(xué)液體620凝結(jié)和附著在所述過濾元件320上。所述排氣段313穿過位在所述工藝腔體200上方的排氣孔210延伸至所述工藝腔體200的外部。所述排氣段313用于將氣液分離后的所述廢氣630排入與其連通的所述氣體處理單元400內(nèi)。

如圖2所示，所述氣液分離單元300的所述對(duì)進(jìn)入段311與所述反應(yīng)段312皆是設(shè)置在所述工藝腔體200的內(nèi)部。再者，所述反應(yīng)段312設(shè)計(jì)為兩側(cè)相對(duì)一水平面(即xy平面)傾斜的結(jié)構(gòu)，即，所述反應(yīng)段312的中央相對(duì)于其兩端設(shè)置在較高的位置，使得氣液分離后的所述化學(xué)液體620會(huì)沿著傾斜的管壁，經(jīng)過位在所述反應(yīng)段312相對(duì)二端和所述進(jìn)入段311下方的排液口314來流回至所述工藝腔體200的內(nèi)部，接著通過一連通至所述工藝腔體200的底部的液體回收單元(未繪示于圖中)收集所述化學(xué)液體620以進(jìn)行回收再利用，進(jìn)而降低生產(chǎn)成本。另一方面，相較于先前技術(shù)，本發(fā)明的氣液分離反應(yīng)是在所述工藝腔體200內(nèi)部完成，使得氣液分離后的所述化學(xué)液體620不會(huì)流到所述工藝腔體200的外部，進(jìn)而避免造成所述工藝腔體200的損壞以及危害到操作人員的安全。此外，由于所述氣液分離單元300的大部分元件是設(shè)置在所述工藝腔體200的內(nèi)部，使得人員在維修和保養(yǎng)所述氣液分離單元300時(shí)較為方便。

請(qǐng)參照?qǐng)D3，其顯示圖2的濕法工藝設(shè)備100的側(cè)視圖。從側(cè)面視的時(shí)，所述氣液分離單元300與所述基板700分別保持在相距一橫向距離l1的位置，使得從所述氣液分離單元300滴落的所述化學(xué)液體620不會(huì)影響到濕法工藝的進(jìn)行，即，可避免所述化學(xué)液體620對(duì)所述基板700的反應(yīng)液體造成污染。

雖然本發(fā)明已用優(yōu)選實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動(dòng)與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視后附的權(quán)利要求所界定者為準(zhǔn)。