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掩模版及其形成方法_3

文檔序號(hào):9686622閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
擊非透光膜,遭到轟擊的非透光膜部分被直接去除,未遭轟擊的非透光膜部分作為布局圖案。非透光膜遭轟擊后,剩余非透光膜表面也會(huì)附著雜質(zhì),需要后續(xù)清洗和甩干步驟。
[0064]本發(fā)明還提供一種掩模版,該掩模版具有布局圖案。
[0065]結(jié)合參照?qǐng)D11、圖12,該掩模版為疊層結(jié)構(gòu),包括透光板101、位于透光板101上的非透光膜102,在非透光膜102中形成有布局圖案。
[0066]該布局圖案包括密集型圖案110和孤立型圖案120,其中密集型圖案110包括平行排列的若干第一條形線(xiàn)111,孤立型圖案120包括平行排列的若干第二條形線(xiàn)121,其中若干第一條形線(xiàn)111的分布密度大于若干第二條形線(xiàn)121的分布密度。在相鄰兩第二條形線(xiàn)121之間設(shè)置有兩個(gè)亞分辨率輔助圖案130,所有亞分辨率輔助圖案130和第二條形線(xiàn)121的分布密度,約等于所有第一條形線(xiàn)111的分布密度。每個(gè)亞分辨率輔助圖案130包括條形圖案131、和位于條形圖案131沿長(zhǎng)度方向的側(cè)壁的若干間隔分布的凸部132,該條形圖案131與第二條形線(xiàn)121平行。
[0067]在具體實(shí)施例中,相鄰兩第二條形線(xiàn)121之間不限于兩個(gè)亞分辨率輔助130,可根據(jù)需要設(shè)置亞分辨率輔助圖案的數(shù)量。
[0068]在具體實(shí)施例中,沿條形圖案131的長(zhǎng)度方向,每個(gè)亞分辨率輔助圖案130的平均寬度與現(xiàn)有的亞分辨率輔助圖案寬度基本相同,以確保亞分辨率輔助圖案130能起到與現(xiàn)有輔助圖案相同的作用。
[0069]在具體實(shí)施例中,在相鄰兩第二條形線(xiàn)121之間具有兩個(gè)亞分辨率輔助圖案130。在相鄰亞分辨率兩輔助圖案130中,其中一亞分辨率輔助圖案130的凸部132與另一亞分辨率輔助圖案130中相鄰兩凸部132之間的條形圖案部分相對(duì)。
[0070]在具體實(shí)施例中,每條亞分辨率輔助圖案130上的所有凸部132沿條形圖案131的長(zhǎng)度方向等距分布。
[0071]在具體實(shí)施例中,第二條形線(xiàn)121中軸線(xiàn)到相鄰的兩亞分辨率輔助圖案130的條形圖案131中軸線(xiàn)的距離等于相鄰兩條形圖案131的中軸線(xiàn)之間的距離。
[0072]在具體實(shí)施例中,第二條形線(xiàn)121兩側(cè)的亞分辨率輔助圖案130關(guān)于第二條形線(xiàn)121對(duì)稱(chēng)。
[0073]雖然本發(fā)明披露如上,但本發(fā)明并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),均可作各種更動(dòng)與修改,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種掩模版的形成方法,其特征在于,包括: 提供基板,所述基板包括透光板、位于所述透光板上的非透光膜; 在所述非透光膜中寫(xiě)入布局圖案以形成掩模版,所述布局圖案包括密集型圖案和孤立型圖案,所述密集型圖案包括平行排列的若干第一條形線(xiàn),所述孤立型圖案包括平行排列的若干第二條形線(xiàn); 在相鄰兩第二條形線(xiàn)之間具有至少一個(gè)亞分辨率輔助圖案,所述亞分辨率輔助圖案包括條形圖案、位于所述條形圖案沿長(zhǎng)度方向的側(cè)壁的若干間隔分布的凸部,所述條形圖案與第二條形線(xiàn)平行; 使用清洗劑清洗所述寫(xiě)入過(guò)程產(chǎn)生的雜質(zhì); 對(duì)所述掩模版進(jìn)行甩干以去除殘留的清洗劑。2.如權(quán)利要求1所述的掩模版的形成方法,其特征在于,在所述非透光膜中寫(xiě)入布局圖案的方法包括: 在所述非透光膜上形成掩模層; 對(duì)所述掩模層進(jìn)行圖形化,圖形化后的掩模層定義布局圖案的位置; 以所述圖形化后的掩模層為掩模,刻蝕非透光膜形成布局圖案; 去除圖形化后的掩模層。3.如權(quán)利要求2所述的掩模版的形成方法,其特征在于,所述掩模層為光刻膠層。4.如權(quán)利要求3所述的掩模版的形成方法,其特征在于,對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行圖形化的方法包括: 在所述光刻膠層中寫(xiě)入布局圖案; 在所述光刻膠層中寫(xiě)入布局圖案后,對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行顯影或刻蝕以形成圖形化的光刻膠層。5.如權(quán)利要求4所述的掩模版的形成方法,其特征在于,所述在光刻膠層中寫(xiě)入布局圖案的方法包括:光學(xué)直寫(xiě)、投影式電子束直寫(xiě)或掃描電鏡直寫(xiě)。6.如權(quán)利要求1所述的掩模版的形成方法,其特征在于,使用聚焦離子束轟擊非透光膜,以在所述非透光膜中寫(xiě)入布局圖案。7.如權(quán)利要求1所述的掩模版的形成方法,其特征在于,當(dāng)相鄰兩第二條形線(xiàn)之間具有至少兩個(gè)亞分辨率輔助圖案時(shí),在相鄰兩亞分辨率輔助圖案中,沿所述第二條形線(xiàn)的寬度方向,其中一亞分辨率輔助圖案的凸部與另一亞分辨率輔助圖案相鄰兩凸部之間的條形圖案部分相對(duì)。8.如權(quán)利要求7所述的掩模版的形成方法,其特征在于,每條所述第二條形線(xiàn)的中軸線(xiàn)到相鄰兩亞分辨率輔助圖案的條形圖案中軸線(xiàn)的距離,等于相鄰兩亞分辨率輔助圖案的條形圖案中軸線(xiàn)之間的距離。9.如權(quán)利要求8所述的掩模版的形成方法,其特征在于,每條所述第二條形線(xiàn)的中軸線(xiàn)到相鄰兩亞分辨率輔助圖案的條形圖案中軸線(xiàn)的距離范圍為大于70nm。10.如權(quán)利要求1所述的掩模版的形成方法,其特征在于,每條所述第二條形線(xiàn)兩側(cè)的亞分辨率輔助圖案關(guān)于所述第二條形線(xiàn)對(duì)稱(chēng)。11.如權(quán)利要求1所述的掩模版的形成方法,其特征在于,每條所述亞分辨率輔助圖案上的所有凸部沿條形圖案長(zhǎng)度方向等距分布。12.一種掩模版,其特征在于,包括透光板和位于所述透光板上的非透光膜,在所述非透光膜中形成有布局圖案; 所述布局圖案包括密集型圖案和孤立型圖案; 所述密集型圖案包括平行排列的若干第一條形線(xiàn); 所述孤立型圖案包括平行排列的若干第二條形線(xiàn),在相鄰兩第二條形線(xiàn)之間具有至少一個(gè)亞分辨率輔助圖案; 所述亞分辨率輔助圖案包括條形圖案、位于所述條形圖案沿長(zhǎng)度方向的側(cè)壁的若干間隔分布的凸部,所述條形圖案與第二條形線(xiàn)平行。13.如權(quán)利要求12所述的掩模版,其特征在于,當(dāng)相鄰兩第二條形線(xiàn)之間具有至少兩個(gè)亞分辨率輔助圖案時(shí),在相鄰兩亞分辨率輔助圖案中,沿所述第二條形線(xiàn)的寬度方向,其中一亞分辨率輔助圖案的凸部與另一亞分辨率輔助圖案相鄰兩凸部之間的條形圖案部分相對(duì)。14.如權(quán)利要求13所述的掩模版,其特征在于,每條所述第二條形線(xiàn)的中軸線(xiàn)到相鄰兩亞分辨率輔助圖案的條形圖案中軸線(xiàn)的距離,等于相鄰兩亞分辨率輔助圖案的條形圖案中軸線(xiàn)之間的距離。15.如權(quán)利要求14所述的掩模版,其特征在于,每條所述第二條形線(xiàn)的中軸線(xiàn)到相鄰兩亞分辨率輔助圖案的條形圖案中軸線(xiàn)的距離范圍為大于70nm。16.如權(quán)利要求12所述的掩模版,其特征在于,每條所述第二條形線(xiàn)兩側(cè)的亞分辨率輔助圖案關(guān)于所述第二條形線(xiàn)對(duì)稱(chēng)。17.如權(quán)利要求12所述的掩模版,其特征在于,每條所述亞分辨率輔助圖案上的所有凸部沿條形圖案長(zhǎng)度方向等距分布。
【專(zhuān)利摘要】一種掩模版及其形成方法,其中掩模版的形成方法包括:提供基板,基板包括透光板和非透光膜;在非透光膜中寫(xiě)入布局圖案,布局圖案包括密集型圖案和孤立型圖案,密集型圖案包括平行排列的若干第一條形線(xiàn),孤立型圖案包括平行排列的若干第二條形線(xiàn);在相鄰兩第二條形線(xiàn)之間具有至少一個(gè)亞分辨率輔助圖案,亞分辨率輔助圖案包括條形圖案、位于條形圖案沿長(zhǎng)度方向的側(cè)壁的若干間隔分布的凸部,條形圖案與第二條形線(xiàn)平行;使用清洗劑清洗寫(xiě)入過(guò)程中產(chǎn)生的雜質(zhì);對(duì)掩模版進(jìn)行甩干以去除殘留清洗劑。凸部增強(qiáng)了整個(gè)亞分辨率輔助圖案在透光板上的附著力,在甩干清洗劑的過(guò)程中,這降低了亞分辨率輔助圖案傾斜甚至從透光板上脫落的可能性。
【IPC分類(lèi)】G03F1/38
【公開(kāi)號(hào)】CN105446072
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410425884
【發(fā)明人】蔡博修, 黃怡
【申請(qǐng)人】中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司
【公開(kāi)日】2016年3月30日
【申請(qǐng)日】2014年8月26日
【公告號(hào)】US20160062231
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