掩膜裝置及掩膜系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示制造領(lǐng)域，特別涉及一種掩膜裝置及掩膜系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在大尺寸薄膜晶體管液晶顯示領(lǐng)域中，常用接近式曝光機(jī)結(jié)合掩膜版對(duì)圖層進(jìn)行曝光構(gòu)圖。掩模版，也稱光罩、光學(xué)掩模版。常見的掩模版有鉻版、干版、菲林等，是指在薄膜、塑料或玻璃基材上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。目前光掩膜版的基板材料，常被使用的有石英玻璃和蘇打玻璃兩種。蘇打玻璃較多被應(yīng)用在STN-1XD (STN-1XD，超扭曲向列型液晶顯示器)、TN-1XD (TN-1XD，扭曲向列型液晶顯示器)、TP (TP，觸摸面板)等產(chǎn)品的生產(chǎn)上。
[0003]如圖1所示，一般情況下，掩膜版為一大平面，掩膜版上刻有需要掩模的圖案，在掩膜版上方通過光線照射，可以在感光材料上形成需要的圖案。而隨著面板技術(shù)的迅速發(fā)展，玻璃基板尺寸越來越大，8.5代線玻璃基板的尺寸為2200mmX 2500mm，相應(yīng)地也就需要更大面積的掩膜版來曝光玻璃基板的感光材料，而制作更大面積的掩膜版又需要更好的技術(shù)和更多的成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明實(shí)施例公開一種掩膜裝置及掩膜系統(tǒng)，以在不需要制作大面積掩膜板的情況下，可在大面積的玻璃基板的感光材料上形成掩膜圖案，從而節(jié)省成本。
[0005]本發(fā)明實(shí)施例公開的掩膜裝置包括滾筒掩膜版及置于所述滾筒掩膜版內(nèi)的光源組件，所述滾筒掩膜版的外表面上設(shè)置有掩膜圖案，所述光源組件的外表上設(shè)置有光源，在所述光源的照射下，所述滾筒掩膜版在玻璃基板上滾過時(shí)，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜圖案。
[0006]一個(gè)實(shí)施例中，所述滾筒掩膜版與所述光源組件之間相對(duì)靜止，所述光源和所述掩膜圖案對(duì)應(yīng)設(shè)置。
[0007]一個(gè)實(shí)施例中，所述滾筒掩膜版可相對(duì)所述光源組件轉(zhuǎn)動(dòng)，所述光源的照射方向?yàn)榇怪毕蛳隆?br>[0008]一個(gè)實(shí)施例中，所述滾筒掩膜版為環(huán)形。
[0009]一個(gè)實(shí)施例中，所述滾筒掩膜版為多邊形。
[0010]本發(fā)明公開的掩膜系統(tǒng)包括至少兩個(gè)同軸設(shè)置的掩膜裝置，每一掩膜裝置包括滾筒掩膜版及置于所述滾筒掩膜版內(nèi)的光源組件，所述滾筒掩膜版的外表面上設(shè)置有掩膜圖案，所述光源組件的外表上設(shè)置有光源，在所述光源的照射下，所述滾筒掩膜版在玻璃基板上滾過時(shí)，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜圖案。
[0011 ] 一個(gè)實(shí)施例中，所述至少兩個(gè)同軸設(shè)置的掩膜裝置為結(jié)構(gòu)相同的掩膜裝置。
[0012]一個(gè)實(shí)施例中，所述至少兩個(gè)同軸設(shè)置的掩膜裝置中至少有兩個(gè)掩膜裝置上的掩膜圖案的形狀不同。
[0013]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例具有以下有益效果:在不需要制作大面積掩膜板的情況下，可在大面積的玻璃基板的感光材料上形成掩膜圖案，從而節(jié)省成本。
【附圖說明】
[0014]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0015]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中掩膜版的立體視圖；
[0016]圖2是本發(fā)明第一實(shí)施例公開的掩膜裝置連接機(jī)臺(tái)的連接機(jī)構(gòu)的立體視圖；
[0017]圖3是圖2中的掩膜裝置的立體視圖；
[0018]圖4是圖3中的掩膜裝置的滾筒掩膜版的立體視圖；
[0019]圖5是圖3中的掩膜裝置的光源組件的立體視圖；
[0020]圖6是圖2中的連接機(jī)構(gòu)的立體視圖；
[0021]圖7是本發(fā)明第二實(shí)施例公開的掩膜裝置的立體視圖，與圖2中的掩膜裝置的不同之處在于掩膜圖案的形狀不同；
[0022]圖8是本發(fā)明第三實(shí)施例公開的掩膜裝置的立體視圖，與圖2中的掩膜裝置的不同之處在于滾筒掩膜版的形狀不同；
[0023]圖9是本發(fā)明第四實(shí)施例公開的掩膜裝置連接機(jī)臺(tái)的連接機(jī)構(gòu)的立體視圖；
[0024]圖10是圖9中的掩膜裝置的光源組件的立體視圖；
[0025]圖11是圖9中的連接機(jī)構(gòu)的立體視圖；
[0026]圖12是本發(fā)明第一實(shí)施例公開的掩膜系統(tǒng)連接機(jī)臺(tái)的連接機(jī)構(gòu)的立體視圖；
[0027]圖13是本發(fā)明第二實(shí)施例公開的掩膜系統(tǒng)連接機(jī)臺(tái)的連接機(jī)構(gòu)的立體視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0029]參考圖2，本發(fā)明第一實(shí)施例中，掩膜裝置100的兩端分別轉(zhuǎn)動(dòng)連接于一機(jī)臺(tái)的連接機(jī)構(gòu)10。在機(jī)臺(tái)的驅(qū)動(dòng)下，連接機(jī)構(gòu)10帶動(dòng)掩膜裝置100在玻璃基板(未示意)上滾動(dòng)，從而在玻璃基板的感光材料上形成掩膜裝置100上的掩膜圖案1111。
[0030]進(jìn)一步參考圖3至圖5，掩膜裝置100包括滾筒掩膜版11及設(shè)置于滾筒掩膜版11內(nèi)且與滾筒掩膜版11同軸設(shè)置的光源組件12。滾筒掩膜版11為中空，具有環(huán)形的外表面111及兩個(gè)相對(duì)的環(huán)形端面112。外表面111上設(shè)置有成列分布的掩膜圖案1111。本實(shí)施方式中，掩膜圖案1111的形狀為長(zhǎng)方形。環(huán)形端面112上等間距設(shè)置有四個(gè)圓柱形連接孔1121。光源組件12具有環(huán)形外表面1211及兩個(gè)相對(duì)的圓形端面1212。多個(gè)條形光源122設(shè)置于環(huán)形外表面1211上，每一光源122對(duì)應(yīng)一列掩膜圖案。端面1212的中心位置設(shè)置有一個(gè)四邊形連接孔1213。
[0031]進(jìn)一步參考圖6，連接結(jié)構(gòu)10包括連接臂101及轉(zhuǎn)動(dòng)連接于連接臂101的轉(zhuǎn)盤
102。轉(zhuǎn)盤102具有相對(duì)的第一表面1021及第二表面1022。第一表面1021與連接臂101轉(zhuǎn)動(dòng)接觸，第二表面1022上等間距設(shè)置有四個(gè)圓柱形連接銷1023，每一連接銷1023與一個(gè)連接孔1121配合，以將滾筒掩膜版11固定連接于轉(zhuǎn)盤102。第二表面1022的中心位置設(shè)置有一個(gè)四邊形連接銷1024，與連接孔1213配合，以將光源組件12固定連接于轉(zhuǎn)盤102。
[0032]本實(shí)施例中，滾筒掩膜版11及光源組件12都固定連接于轉(zhuǎn)盤102，轉(zhuǎn)盤102相對(duì)連接臂101轉(zhuǎn)動(dòng)。因此，在需要將滾筒掩膜版11上的掩膜圖案1111轉(zhuǎn)移到玻璃基板的感光材料上時(shí)，機(jī)臺(tái)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤102、滾筒掩膜版11及光源組件12在玻璃基板上滾動(dòng)，從而在光源12