一種微型低溫等離子高低式噴嘴的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及等離子技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種微型低溫等離子高低式噴嘴。
【背景技術(shù)】
[0002]等離子體在化學(xué)工業(yè)中的真正應(yīng)用是在20世紀(jì)50年代以后。聯(lián)邦德國赫斯和赫司特化工廠于50年代成功地從甲烷和其他烴類在氫等離子體中熱解制取乙炔。此后，美國、蘇聯(lián)和日本都相應(yīng)地建造了等離子體制乙炔的實驗工廠。此法流程簡單，對原料適應(yīng)性強，但電耗偏高，限制了它的大規(guī)模推廣。60年代，美國離子弧公司以鋯英砂為原料在直流電弧等離子體中一步裂解制備氧化鋯。70年代末，中國以硼砂和尿素為原料，在直流電弧等離子體中制備高純六方氮化硼粉，該法具有產(chǎn)品純度高、成本低、工藝流程簡單等優(yōu)點。此外，還可利用等離子技術(shù)生產(chǎn)二氧化鈦。然而目前等離子噴嘴體積大，不便安裝及安裝位置過大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷和不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡單，設(shè)計合理、使用方便的一種微型低溫等離子高低式噴嘴，它采用上下結(jié)構(gòu)噴嘴具有良好的體積調(diào)節(jié)，同時，噴射面積大，便于有限空間內(nèi)增加效率，不會對工件及產(chǎn)品造成燒傷破壞，且它具有使用方便，操作簡單，實用性好，成本低廉等特點。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案是:
[0005]本實用新型所述的一種微型低溫等離子高低式噴嘴，包括噴嘴、陶瓷絕緣體和連接管口，所述噴嘴后端連接有陶瓷絕緣體，所述陶瓷絕緣體后端設(shè)置有連接管口，所述噴嘴后端設(shè)置有調(diào)節(jié)塊和連塊，所述調(diào)節(jié)塊與連塊卡接在一起，所述連塊設(shè)置在陶瓷絕緣體內(nèi)，所述噴嘴后端的調(diào)節(jié)塊呈錐形，與噴嘴內(nèi)相連，所述連接管口卡接有電極，所述電極設(shè)置在陶瓷絕緣體內(nèi)，所述噴嘴呈山字形。
[0006]所述噴嘴內(nèi)設(shè)置有頂焰口和輔焰口，所述頂焰口與輔焰口的高度差為5-10mm，設(shè)置具有高度差的頂焰口和輔焰口，形成以頂焰口為主，輔焰口為輔的火焰裝置，能夠在保證頂端火焰?zhèn)让娌蛔銜r起到補充作用，同時增加了面積。
[0007]所述噴嘴與調(diào)節(jié)塊之間設(shè)置有節(jié)焰口，所述節(jié)焰口正對噴嘴中心，節(jié)焰口的設(shè)置能夠給予噴嘴內(nèi)部等離子的控制，方便調(diào)節(jié)噴嘴火焰。
[0008]所述電極設(shè)置有錐斜面，所述錐斜面設(shè)置在電極與連接管口交界處，錐斜面的設(shè)置能夠保證氣體的連通性，防止氣體流通過程中形成死體積，保證使用過程中氣流的穩(wěn)定性，保證等離子的穩(wěn)定性。
[0009]采用上述結(jié)構(gòu)后，本實用新型有益效果為:本實用新型它采用上下結(jié)構(gòu)噴嘴具有良好的體積調(diào)節(jié)，同時，噴射面積大，便于有限空間內(nèi)增加效率，不會對工件及產(chǎn)品造成燒傷破壞;采用高低結(jié)構(gòu)便于火焰溫度與范圍的控制，防止局部溫度過高帶來的熱破壞與變型問題;且它具有使用方便，操作簡單，實用性好，成本低廉等特點。
【附圖說明】
[00?0]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0011]附圖標(biāo)記說明:
[0012]1、噴嘴；1-1、頂噴口； 1-2、輔噴口； 2、調(diào)節(jié)塊;2-1、節(jié)焰口 ； 3、連塊;4、陶瓷絕緣體；
5、電極;6、連接管口；7、錐斜面。
【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖對本實用新型作進一步的說明。
[0014]如圖1所示，本實用新型所述的一種微型低溫等離子高低式噴嘴，包括噴嘴1、陶瓷絕緣體4和連接管口 6，所述噴嘴I后端連接有陶瓷絕緣體4，所述陶瓷絕緣體4后端設(shè)置有連接管口 6，所述噴嘴I后端設(shè)置有調(diào)節(jié)塊2和連塊3，所述調(diào)節(jié)塊2與連塊3卡接在一起，所述連塊3設(shè)置在陶瓷絕緣體4內(nèi)，所述噴嘴I后端的調(diào)節(jié)塊2呈錐形，與噴嘴I內(nèi)相連，所述連接管口6卡接有電極5，所述電極5設(shè)置在陶瓷絕緣體4內(nèi)，所述噴嘴I呈山字形。
[0015]所述噴嘴I內(nèi)設(shè)置有頂焰口1-1和輔焰口 1-2，所述頂焰口 1-2與輔焰口 1-2的高度差為5-10_，設(shè)置具有高度差的頂焰口和輔焰口，形成以頂焰口為主，輔焰口為輔的火焰裝置，能夠在保證頂端火焰?zhèn)让娌蛔銜r起到補充作用，同時增加了面積。
[0016]所述噴嘴I與調(diào)節(jié)塊2之間設(shè)置有節(jié)焰口2-1，所述節(jié)焰口 2-1正對噴嘴I中心，節(jié)焰口的設(shè)置能夠給予噴嘴內(nèi)部等離子的控制，方便調(diào)節(jié)噴嘴火焰。
[0017]所述電極5設(shè)置有錐斜面7，所述錐斜面7設(shè)置在電極5與連接管口6交界處，錐斜面的設(shè)置能夠保證氣體的連通性，防止氣體流通過程中形成死體積，保證使用過程中氣流的穩(wěn)定性，保證等離子的穩(wěn)定性。
[0018]本實用新型它采用上下結(jié)構(gòu)噴嘴具有良好的體積調(diào)節(jié)，同時，噴射面積大，便于有限空間內(nèi)增加效率，不會對工件及產(chǎn)品造成燒傷破壞;采用高低結(jié)構(gòu)便于火焰溫度與范圍的控制，防止局部溫度過高帶來的熱破壞與變型問題;且它具有使用方便，操作簡單，實用性好，成本低廉等特點。
[0019]以上所述僅是本實用新型的較佳實施方式，故凡依本實用新型專利申請范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均包括于本實用新型專利申請范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種微型低溫等離子高低式噴嘴，其特征在于:它包括噴嘴(I)、陶瓷絕緣體(4)和連接管口(6)，所述噴嘴(I)后端連接有陶瓷絕緣體(4)，所述陶瓷絕緣體(4)后端設(shè)置有連接管口(6)，所述噴嘴(I)后端設(shè)置有調(diào)節(jié)塊(2)和連塊(3)，所述調(diào)節(jié)塊(2)與連塊(3)卡接在一起，所述連塊(3)設(shè)置在陶瓷絕緣體(4)內(nèi)，所述噴嘴(I)后端的調(diào)節(jié)塊(2)呈錐形，與噴嘴(I)內(nèi)相連，所述連接管口(6)卡接有電極(5)，所述電極(5)設(shè)置在陶瓷絕緣體(4)內(nèi)，所述噴嘴α)呈山字形。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微型低溫等離子高低式噴嘴，其特征在于:所述噴嘴(I)內(nèi)設(shè)置有頂焰口( 1-1)和輔焰口( 1-2)，所述頂焰口( 1-1)與輔焰口( 1-2)的高度差為5-1 Omnin3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微型低溫等離子高低式噴嘴，其特征在于:所述噴嘴(I)與調(diào)節(jié)塊(2)之間設(shè)置有節(jié)焰口( 2-1)，所述節(jié)焰口( 2-1)正對噴嘴(I)中，節(jié)焰口的設(shè)置能夠給予噴嘴內(nèi)部等離子的控制，方便調(diào)節(jié)噴嘴火焰。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微型低溫等離子高低式噴嘴，其特征在于:所述電極(5)設(shè)置有錐斜面(7)，所述錐斜面(7)設(shè)置在電極(5)與連接管口(6)交界處。
【專利摘要】本實用新型涉及等離子技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種微型低溫等離子高低式噴嘴，它包括噴嘴、陶瓷絕緣體和連接管口，所述噴嘴后端連接有陶瓷絕緣體，所述陶瓷絕緣體后端設(shè)置有連接管口，所述噴嘴后端設(shè)置有調(diào)節(jié)塊和連塊，所述調(diào)節(jié)塊與連塊卡接在一起，所述連塊設(shè)置在陶瓷絕緣體內(nèi)，所述噴嘴后端的調(diào)節(jié)塊呈錐形，與噴嘴內(nèi)相連，所述連接管口卡接有電極，所述電極設(shè)置在陶瓷絕緣體內(nèi)，所述噴嘴呈山字形。本實用新型它采用上下結(jié)構(gòu)噴嘴具有良好的體積調(diào)節(jié)，同時，噴射面積大，便于有限空間內(nèi)增加效率，不會對工件及產(chǎn)品造成燒傷破壞。
【IPC分類】H05H1/34
【公開號】CN205336629
【申請?zhí)枴緾N201620024466
【發(fā)明人】李志強, 焦金萍
【申請人】深圳市方瑞科技有限公司
【公開日】2016年6月22日
【申請日】2016年1月12日