等離子噴涂靶材噴嘴的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種等離子噴涂靶材噴嘴，包括噴嘴本體，所述噴嘴本體中部設(shè)有貫通的通孔，所述通孔形成供噴涂材料通過的通道，所述通道的內(nèi)壁面設(shè)有導(dǎo)電層。本實(shí)用新型的等離子噴涂靶材噴嘴，用于噴涂濺射靶材，其通過在內(nèi)壁設(shè)置導(dǎo)電層，既保持了噴嘴良好的導(dǎo)熱系數(shù)，同時(shí)噴嘴內(nèi)壁又能耐點(diǎn)槍瞬間的電弧沖蝕和等離子體的高溫高壓沖蝕，使等離子噴涂在噴涂旋轉(zhuǎn)濺射靶材時(shí)的噴嘴壽命大大提高，同時(shí)又降低了耗材成本；適用于較長(zhǎng)時(shí)間的連續(xù)噴涂作業(yè)以及對(duì)涂層質(zhì)量要求較高的噴涂工作。
【專利說明】等離子噴涂靶材噴嘴

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種噴嘴，尤其涉及一種等離子噴涂靶材噴嘴。

【背景技術(shù)】
[0002]在等離子噴涂旋轉(zhuǎn)濺射靶材中，一般采用噴槍進(jìn)行噴涂。目前使用的噴槍的噴嘴大都采用無氧銅加工而成，具有成本低和導(dǎo)熱效果好的優(yōu)點(diǎn)，然而，這種無氧銅加工制成的噴嘴，其內(nèi)壁不耐于噴槍瞬間的電弧沖蝕和等離子體的高溫高壓沖蝕，使得該種噴嘴適用于短時(shí)間、對(duì)涂層要求不高的一般性等離子噴涂工作。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于，提供一種改進(jìn)的等離子噴涂靶材噴嘴。
[0004]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:提供一種等離子噴涂靶材噴嘴，包括噴嘴本體，所述噴嘴本體中部設(shè)有貫通的通孔，所述通孔形成供噴涂材料通過的通道，所述通道的內(nèi)壁面設(shè)有導(dǎo)電層。
[0005]優(yōu)選地，所述導(dǎo)電層為鎢層或鈰鎢合金層。
[0006]優(yōu)選地，所述導(dǎo)電層的厚度為10-100 μπι。
[0007]優(yōu)選地，所述通道的出口端呈錐形。
[0008]優(yōu)選地，所述噴嘴本體為無氧銅噴嘴本體。
[0009]優(yōu)選地，所述噴嘴本體包括柱體，所述柱體外周上設(shè)有環(huán)形定位槽。
[0010]優(yōu)選地，所述柱體包括相連接的第一端和第二端，所述環(huán)形定位槽設(shè)置在所述第一端上，所述第二端的外周側(cè)面設(shè)有錐形面，所述通道的出口端位于所述第二端上。
[0011]本實(shí)用新型的等離子噴涂靶材噴嘴，用于噴涂濺射靶材，其通過在內(nèi)壁設(shè)置導(dǎo)電層，既保持了噴嘴良好的導(dǎo)熱系數(shù)，同時(shí)噴嘴內(nèi)壁又能耐點(diǎn)槍瞬間的電弧沖蝕和等離子體的高溫高壓沖蝕，使等離子噴涂在噴涂旋轉(zhuǎn)濺射靶材時(shí)的噴嘴壽命大大提高，同時(shí)又降低了耗材成本；適用于較長(zhǎng)時(shí)間的連續(xù)噴涂作業(yè)以及對(duì)涂層質(zhì)量要求較高的噴涂工作。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，附圖中:
[0013]圖1是本實(shí)用新型一實(shí)施例的等離子噴涂靶材噴嘴的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0014]為了對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對(duì)照附圖詳細(xì)說明本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】。
[0015]如圖1所示，本實(shí)用新型一實(shí)施例的等離子噴涂靶材噴嘴，用于噴涂濺射靶材，該噴嘴包括噴嘴本體10 ;噴嘴本體10中部設(shè)有貫通的通孔，通孔形成供噴涂材料通過的通道20，通道20的內(nèi)壁面設(shè)有導(dǎo)電層30。該導(dǎo)電層30在保持了噴嘴良好的導(dǎo)熱系數(shù)的同時(shí)，使得噴嘴內(nèi)壁又能耐點(diǎn)槍瞬間的電弧沖蝕和等離子體的高溫高壓沖蝕，使等離子噴涂在噴涂旋轉(zhuǎn)濺射靶材時(shí)的噴嘴壽命大大提高，同時(shí)又降低了耗材成本；適用于較長(zhǎng)時(shí)間的連續(xù)噴涂作業(yè)以及對(duì)涂層質(zhì)量要求較高的噴涂工作。
[0016]其中，導(dǎo)電層30為耐電弧、耐高溫高壓的導(dǎo)電層；導(dǎo)電層30優(yōu)選為鶴層或鐘鶴合金層。導(dǎo)電層30的厚度為10-100 μ m。該導(dǎo)電層30可采用電鍍方法加工在通道20的內(nèi)壁面上，易加工且成本低。
[0017]噴嘴本體10采用無氧銅加工形成，為無氧銅噴嘴本體。通道20在噴嘴本體10內(nèi)具有進(jìn)口端21和出口端22，其中出口端22呈錐形，噴涂材料從進(jìn)口端21進(jìn)入通道20后在出口端22噴射出來。
[0018]具體地，噴嘴本體10包括柱體11，通道20貫通該柱體11相對(duì)兩端。柱體11外周上設(shè)有環(huán)形定位槽12，用于與噴槍配合，將噴嘴固定在噴槍上。該柱體11可包括相連接的第一端111和第二端112，環(huán)形定位槽12設(shè)置在第一端111外周上，第二端112的外周側(cè)面設(shè)有錐形面113，使得該第二端112外觀上呈錐形，美觀。通道20的出口端22位于第二端112 上。
[0019]該噴嘴制作時(shí)，先采用無氧銅加工形成具有通道20的噴嘴本體10，清洗除油后在通道20內(nèi)壁面外的噴嘴本體10其他表面涂覆液體聚四氟乙烯進(jìn)行保護(hù)，待聚四氟乙烯凝固后即可對(duì)通道20內(nèi)壁面進(jìn)行電鍍形成導(dǎo)電層30。
[0020]以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種等離子噴涂靶材噴嘴，包括噴嘴本體(10)，所述噴嘴本體(10)中部設(shè)有貫通的通孔，所述通孔形成供噴涂材料通過的通道(20)，其特征在于，所述通道(20)的內(nèi)壁面設(shè)有導(dǎo)電層(30);所述導(dǎo)電層(30)為鎢層或鈰鎢合金層，所述導(dǎo)電層(30)的厚度為10-100 μmD
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子噴涂靶材噴嘴，其特征在于，所述通道(20)的出口端(22)呈錐形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子噴涂靶材噴嘴，其特征在于，所述噴嘴本體(10)為無氧銅噴嘴本體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子噴涂靶材噴嘴，其特征在于，所述噴嘴本體(10)包括柱體(11)，所述柱體(11)外周上設(shè)有環(huán)形定位槽(12)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子噴涂靶材噴嘴，其特征在于，所述柱體(11)包括相連接的第一端(111)和第二端(112)，所述環(huán)形定位槽(12)設(shè)置在所述第一端(111)上，所述第二端(112)的外周側(cè)面設(shè)有錐形面(113)，所述通道(20)的出口端(22)位于所述第二端(112)上。
【文檔編號(hào)】C23C4/12GK204224687SQ201420675768
【公開日】2015年3月25日 申請(qǐng)日期:2014年11月12日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月12日
【發(fā)明者】黃勇彪, 林文寶 申請(qǐng)人:深圳市眾誠(chéng)達(dá)應(yīng)用材料科技有限公司