一種多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，包括機架、動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段、噴淋噴霧清洗段、烘烤段、消除靜電段和傳輸平臺，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段包括動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器、光電感應器和制絨液緩存池，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器包括耐酸堿柔性軟管、噴淋噴霧頭(7)和支撐架(1)；所述耐酸堿柔性軟管與噴淋噴霧頭(7)相連接；所述光電感應器固定設置于支撐架(1)上，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器通過電連接線與光電感應器相連接；噴淋噴霧制絨段的回收的制絨液通過管道與制絨液緩存池相連接。本發(fā)明的生產(chǎn)過程平穩(wěn)，良品率高，絨面透明導電膜的表面均勻性好，透光率高、低方塊電阻、表面粗糙度降低。
【專利說明】
一種多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備
技術領域
[0001]本發(fā)明涉及透明導電膜制絨的生產(chǎn)制備領域，特別是涉及多列動態(tài)掃描式透明導電薄膜制絨設備?！颈尘凹夹g】
[0002]在智能調光膜、顯示器、觸摸屏、太陽能電池等行業(yè)，透明導電膜得到了廣泛應用， 透明導電膜作為薄膜太陽能電池結構的前電極，其功能是實現(xiàn)將光伏作用產(chǎn)生的電荷進行收集并導向蓄電池或電器使用，要求前電極具有較高的導電率，即透明導電膜具備較低的方塊電阻；同時，由于薄膜太陽能電池光伏作用要求足夠量的對應波長光譜透過率，即在對應波長上具備高的透光率。因此，對于薄膜太陽能電池，要求作為前電極的透明導電膜必須同時滿足低的方塊電阻和高的光譜透過率。對于調光膜、顯示器、觸摸屏板等行業(yè)，也對方塊電阻和透過率提出了相應要求。[0003 ]為提高太陽能電池的發(fā)電效率，提高進入薄膜太陽能電池內(nèi)部的太陽能光譜能量成為解決途徑之一，盡可能減少進入PIN或PN結之前的太陽光能量損失，即提高前電極透明導電薄膜的光譜透過率，同時，方塊電阻不能有較大變化。透明導電膜的表面絨化技術可以明顯提高太能光透過率，通過在透明導電膜表面形成彈坑狀、隕石坑狀或者鉆石狀微小凹坑，以產(chǎn)生光陷作用，使太陽光在凹坑里產(chǎn)生多次反射，提高透射幾率即透光率，增加進入電池內(nèi)部的太陽光，提高薄膜太陽能電池的發(fā)電效率。
[0004]從絨面技術講，其衡量標準為霧度、均勻性和表面粗糙度，結合透明導電膜在方塊電阻和透過率的要求，評價絨面透明導電膜優(yōu)劣的技術標準分別包括霧度、均勻性、表面粗糙度、透過率、方塊電阻等。霧度指波長為700nm的入射光由薄膜的非絨面入射，光線在薄膜的絨面分散的透過率與入射光線總透過率的比值;均勻性指絨面的霧度及表面粗糙度在單位面積內(nèi)的均勻程度。[〇〇〇5]磁控濺射鍍膜技術是透明導電膜大規(guī)模生產(chǎn)的主要技術，制備的薄膜表面均勻致密，性能優(yōu)秀，應用于薄膜太陽能電池前電極需要進行絨面處理，制絨技術分為干法和濕法兩種，干法采用激光、電子束等方法對薄膜表面進行雕刻，生產(chǎn)過程耗時較長、能耗高，無法大規(guī)模用于工業(yè)化生產(chǎn);濕法以適當?shù)乃釅A溶液對薄膜表面進行腐蝕，通過控制酸堿濃度和工藝技術來達到表面絨化目的，是目前工業(yè)化應用的主流方向。
[0006] 濕法制絨技術包括兩種工藝:浸泡和噴淋，浸泡主要用于實驗室小樣品研究，大規(guī)模生產(chǎn)難以實現(xiàn);傳統(tǒng)靜態(tài)噴淋法采用固定的多個噴淋頭對薄膜表面進行刻蝕，一方面噴淋錐形范圍內(nèi)的酸堿制絨液分布并非完全均勻，中心區(qū)分布量較大，周邊較小，另一方面各噴淋錐形范圍的接觸或交叉區(qū)域內(nèi)的酸堿制絨液分布混亂，對薄膜表面的均勻性有較大影響，導致制絨后的薄膜表面形成條形紋路，帶來表面均勻性、霧度、透過率、方塊電阻、表面粗糙度等性能損失，當前的傳統(tǒng)噴淋工藝和設備難以滿足行業(yè)對霧度、均勻性、方塊電阻等性能的技術要求。[〇〇〇7]為描述方便，對噴淋法制絨設備，在制絨基片傳輸平面內(nèi)，其傳輸前進方向為前向，垂直方向定義為側向。傳統(tǒng)靜態(tài)方法在其前向由于噴淋產(chǎn)生的制絨液顆粒較大且分布不均勻，其幾個大小尺寸不易控制，影響薄膜沿前向分布的表面均勻性和表面粗糙度;在其側向，各噴淋錐形范圍內(nèi)分布不均勻將導致該區(qū)域內(nèi)側向分布不均勻，同時，兩相鄰噴淋錐形交叉區(qū)域分布混亂、顆粒碰撞導致側向分布均勻性和粗糙度性能降低。
[0008]當前傳統(tǒng)靜態(tài)噴淋法制絨設備和技術在制絨過程中噴淋噴霧產(chǎn)生的制絨液分布并非均勻，中心區(qū)域較密集，同時側向的交叉區(qū)域分布混亂容易形成條形絨面紋路，造成透明導電膜制絨的不均勻性，大大減小了成品率，使得霧度、透光率、方塊電阻等性能參數(shù)在前向、側向均出現(xiàn)不均勻性;同時靜態(tài)方法采用固定噴淋噴霧頭方法，會引起工藝參數(shù)調整自由度降低，不利于改善工藝流程和工藝參數(shù)，限制了透明導電膜性能參數(shù)的進一步提高。 工業(yè)化生產(chǎn)要求絨面的表面均勻性優(yōu)良，參數(shù)分布均勻，各產(chǎn)品性能穩(wěn)定，采用傳統(tǒng)噴淋方法無法有效實現(xiàn)，且其工業(yè)可調整性較差，較難滿足工藝參數(shù)的改善和調整。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明的目的是針對上述問題，提供一種制得的導電膜絨面均勻性好的多列動態(tài)掃描式透明導電薄膜制絨設備。[〇〇1〇]為達到上述目的，本發(fā)明采用了下列技術方案:本發(fā)明的一種多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，包括機架、動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段、噴淋噴霧清洗段、烘烤段、消除靜電段和傳輸平臺，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段安裝于支撐架上，所述傳輸平臺上依次安裝有噴淋噴霧制絨段、噴淋噴霧清洗段、烘烤段和消除靜電段，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段包括動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器和制絨液緩存池，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器包括光電感應器、耐酸堿柔性軟管、噴淋噴霧頭和支撐架;所述耐酸堿柔性軟管與噴淋噴霧頭相連接;所述光電感應器固定設置于支撐架上，所述光電感應器通過控制線與動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器相連接;噴淋噴霧制絨段的回收的制絨液通過管道與制絨液緩存池相連接，噴淋噴霧頭的酸堿液通過耐酸堿柔性軟管與制絨液緩存池相連接。所述制絨液緩存池用于制絨酸堿液的循環(huán)使用，噴淋噴霧頭的酸堿液由柔性軟管進入制絨液緩存池。
[0011]進一步地，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器包括支撐架、支撐齒輪、同步齒形帶、 同步電機或伺服電機、噴淋噴霧頭固定座、滑軌和噴淋噴霧頭;所述支撐齒輪設置于支撐架的兩側，同步電機或伺服電機固定設置于支撐架頂部的中部，噴淋噴霧頭固定座與同步齒形帶相固接，所述能夠往復動態(tài)掃描式運動的噴淋噴霧頭固定座與滑軌相連接，所述噴淋噴霧頭固定設置于噴淋噴霧頭固定座的下方，所述噴淋噴霧頭的下方設置有制絨基底。
[0012]進一步地，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器上設置的噴淋噴霧頭的個數(shù)為一個或兩個，所述噴淋噴霧頭距制絨基底的距離范圍為5?30cm。
[0013]更進一步地，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器為一列或偶數(shù)列;所述噴淋噴霧頭為噴淋頭或噴霧頭，偶數(shù)列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器的噴淋噴霧頭相互錯開設置，兩相鄰動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器之間的距離大于制絨基底制絨方向最大幾何尺寸，所述制絨基底制絨方向最大幾何尺寸為〇.3?3m。。
[0014]進一步地，所述制絨液緩存池和噴淋噴霧頭的材質為耐腐蝕材料。
[0015]進一步地，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段還設置有上下強力風刀，所述上下強力風刀在傳輸平臺上下成對分布，所述上下強力風刀與傳輸平臺為l-6cm。
[0016]更進一步地，所述制絨液緩存池內(nèi)設置有在線pH檢測計。
[0017]進一步地，所述噴淋噴霧頭在感應到制絨基底到達前設置于動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器的一側，制絨基底通過后噴淋噴霧頭復位。
[0018]進一步地，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器的掃描頻率范圍為20?300次/分鐘。
[0019]更進一步地，所述噴淋噴霧清洗段包括多排噴淋管、噴霧頭和噴霧管，各排噴淋管和噴霧管相互間隔設置，即噴淋/噴霧/噴淋/噴霧形式，每排噴霧管由若干噴霧頭均勻連接于同一管道組成。
[0020]有益效果:本發(fā)明生產(chǎn)過程平穩(wěn)，良品率高，絨面透明導電膜的表面均勻性好，透光率高、低方塊電阻、表面粗糙度降低。降低了工藝過程制絨液使用量和工藝技術難度，自動化程度高。通過采用多列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器，可提高制絨產(chǎn)能，性能參數(shù)穩(wěn)定， 采用循環(huán)式制絨液方式，節(jié)省其使用量。
[0021]與傳統(tǒng)靜態(tài)噴淋制絨技術相比，本發(fā)明具有如下優(yōu)點:
[0022](1)采用區(qū)別于靜態(tài)方式的多列動態(tài)掃描式噴淋噴霧器，使透明導電膜制絨面制絨液刻蝕時間和制絨液分布均勻平穩(wěn)，克服解決了側向分布的條形紋路，并提高了前向均勻性。
[0023](2)本發(fā)明采用動態(tài)掃描式方法有效解決了傳統(tǒng)噴淋制絨設備和技術在側向分布出現(xiàn)的條形紋路，解決了固定噴淋噴霧頭出現(xiàn)的制絨液分布不均勻、交叉區(qū)域分布混亂等問題，生產(chǎn)工藝可自主調整，制造過程穩(wěn)定，具有高的良品率、產(chǎn)品品質和產(chǎn)能，尤其是絨面均勻性、表面粗糙度，有效改善了絨面透明導電膜的性能參數(shù)?！靖綀D說明】
[0024]圖1為單列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器示意圖；
[0025]圖2為多列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨生產(chǎn)設備示意圖；
[0026]其中，1機架，2支撐齒輪，3同步齒形帶，4同步電機或伺服電機，5噴淋噴霧頭固定座，6滑軌，7噴淋噴霧頭，8制絨基底，9傳輸平臺，10第1列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器布置， 11第2列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器布置?！揪唧w實施方式】
[0027]以下實施例僅處于說明性目的，而不是想要限制本發(fā)明的范圍。[〇〇28] 實施例1
[0029]如圖1和圖2所示，本發(fā)明的一種多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，包括機架、 動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段、噴淋噴霧清洗段、烘烤段、消除靜電段和傳輸平臺，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段安裝于支撐架上，所述傳輸平臺9上依次安裝有噴淋噴霧制絨段、噴淋噴霧清洗段、烘烤段和消除靜電段，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段包括動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器和制絨液緩存池，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器包括光電感應器、耐酸堿柔性軟管、噴淋噴霧頭7和支撐架1;所述耐酸堿柔性軟管與噴淋噴霧頭7相連接;所述光電感應器固定設置于支撐架1上，所述光電感應器通過控制線與動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器相連接;噴淋噴霧制絨段的回收的制絨液通過管道與制絨液緩存池相連接，噴淋噴霧頭的酸堿液通過耐酸堿柔性軟管與制絨液緩存池相連接。
[0030]所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器包括支撐架1、支撐齒輪2、同步齒形帶3、同步電機或伺服電機4、噴淋噴霧頭固定座5、滑軌6和噴淋噴霧頭7;所述支撐齒輪2設置于支撐架1 的兩側，同步電機或伺服電機4固定設置于支撐架1頂部的中部，噴淋噴霧頭固定座5與同步齒形帶相固接，所述能夠往復動態(tài)掃描式運動的噴淋噴霧頭固定座5與滑軌6相連接，所述噴淋噴霧頭7固定設置于噴淋噴霧頭固定座5下方，所述噴淋噴霧頭7的下方設置有制絨基底8〇
[0031]所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器上設置的噴淋噴霧頭7的個數(shù)為一個或兩個，所述噴淋噴霧頭7距制絨基底8的距離范圍為30cm。
[0032]所述噴淋噴霧頭7在感應到制絨基底8到達前設置于動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器的一側，制絨基底8通過后噴淋噴霧頭7復位。
[0033]所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器為一列或偶數(shù)列;所述噴淋噴霧頭7為噴淋頭或噴霧頭，所述制絨液緩存池和噴淋噴霧頭7的材質為耐腐蝕材料。偶數(shù)列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器的噴淋噴霧頭7相互錯開設置，即如果第一列位于左側，則第二列位于右側，以此類推;兩相鄰動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器之間的距離大于制絨基底8制絨方向最大幾何尺寸，所述制域基底8制域方向最大幾何尺寸為0.3m。[〇〇34]所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段還設置有上下強力風刀，所述上下強力風刀在傳輸平臺上下成對分布，所述上下強力風刀與傳輸平臺為4cm。
[0035]所述制絨液緩存池內(nèi)設置有在線pH檢測計。[〇〇36]各列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器掃描頻率范圍為20次/分鐘。
[0037]所述噴淋噴霧清洗段包括多排噴淋管、噴霧頭和噴霧管，各排噴淋管和噴霧管相互間隔設置，即噴淋/噴霧/噴淋/噴霧形式，每排噴霧管由若干噴霧頭均勻連接于同一管道組成。
[0038]使用方法:制絨基底由人工或自動上片至傳輸平臺，光電感應器檢測到基底到位后，第一列制絨器的噴淋噴霧頭從一側開始向另一側掃描式運動，同時耐酸堿柔性軟管將制絨液由制絨液緩存池傳輸至噴淋噴霧頭開始制絨工序，當光電感應器檢測到基底離開后，噴淋噴霧頭復位至開始狀態(tài)并停止制絨液傳輸;第二列制絨器光電感應器檢測到基底到位后開始制絨工序，工藝過程與第一列類似，但噴淋噴霧頭初始位置在傳輸平臺另一側； 重復上述過程至所有偶數(shù)列制絨器制絨完畢，偶數(shù)列噴淋噴霧器安裝如圖2,為提高參數(shù)均勻性和產(chǎn)能，可采用更多偶數(shù)列制絨器。制絨結束后通過上下風刀將基底上殘留的制絨液基本清除排至制絨液緩存池完成動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段工序，進入后續(xù)工藝。
[0039]基底進入噴淋噴霧清洗段后，依次通過噴淋/噴霧/噴淋/噴霧過程清洗，將基底表面殘留制絨液繼續(xù)稀釋清洗，并通過上下2?3對強力風刀，強力風刀與基底傳輸方向成65 ?85度夾角以便徹底清除表面殘余水滴;烘烤段采用電阻加熱或紅外加熱方式烘干基底表面水分，之后通過靜電消除段的數(shù)組靜電消除器對基底進行靜電消除，下片可采用人工或自動方式。一對上下強力風刀指的是噴淋噴霧制絨段的最后一個工步，清洗段的強力風刀與此類似。
[0040]在該工藝段，可主動調整多列噴淋噴霧器間距離、各列噴淋噴霧器掃描頻率、基底傳輸速度、噴淋噴霧頭壓力、制絨液流量、噴淋噴霧頭與基底面間距離等工藝參數(shù)來改善產(chǎn)品參數(shù)性能。[0041 ] 實施例2
[0042]實施例2與實施例1的區(qū)別在于:本發(fā)明的一種多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，包括機架、動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段、噴淋噴霧清洗段、烘烤段、消除靜電段和傳輸平臺，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段安裝于支撐架上，所述傳輸平臺9上依次安裝有噴淋噴霧制絨段、噴淋噴霧清洗段、烘烤段和消除靜電段，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段包括動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器和制絨液緩存池，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器包括光電感應器、耐酸堿柔性軟管、噴淋噴霧頭7和支撐架1;[〇〇43]所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器上設置的噴淋噴霧頭7的個數(shù)為一個或兩個，所述噴淋噴霧頭7距制絨基底8的距離范圍為5cm。
[0044]兩相鄰動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器之間的距離大于制絨基底8制絨方向最大幾何尺寸，所述制絨基底8制絨方向最大幾何尺寸為3m。[〇〇45]所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段還設置有上下強力風刀，所述上下強力風刀在傳輸平臺上下成對分布，所述上下強力風刀與傳輸平臺為lcm;
[0046]各列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器掃描頻率范圍為100次/分鐘。[〇〇47] 實施例3
[0048]實施例3與實施例1的區(qū)別在于:如圖1和圖2所示，本發(fā)明的一種多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，包括機架、動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段、噴淋噴霧清洗段、烘烤段、消除靜電段和傳輸平臺，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段安裝于支撐架上，所述傳輸平臺9上依次安裝有噴淋噴霧制絨段、噴淋噴霧清洗段、烘烤段和消除靜電段，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段包括動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器和制絨液緩存池，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器包括光電感應器、耐酸堿柔性軟管、噴淋噴霧頭7和支撐架1;
[0049]所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器上設置的噴淋噴霧頭7的個數(shù)為一個或兩個，所述噴淋噴霧頭7距制絨基底8的距離范圍為20cm。
[0050]兩相鄰動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器之間的距離大于制絨基底8制絨方向最大幾何尺寸，所述制絨基底8制絨方向最大幾何尺寸為2.3m。[〇〇51]所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段還設置有上下強力風刀，所述上下強力風刀在傳輸平臺上下成對分布，所述上下強力風刀與傳輸平臺為6cm;[〇〇52]各列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器掃描頻率范圍為300次/分鐘。[〇〇53]本文中所描述的具體實施例僅僅是對本發(fā)明精神作舉例說明。本發(fā)明所屬技術領域的技術人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，但并不會偏離本發(fā)明的精神或者超越所附權利要求書所定義的范圍。[〇〇54]盡管本文較多地使用了 1機架，2支撐齒輪，3同步齒形帶，4同步電機或伺服電機，5 噴淋噴霧頭固定座，6滑軌，7噴淋噴霧頭，8制絨基底，9傳輸平臺，10第1列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器布置，11第2列動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器布置等術語，但并不排除使用其它術語的可能性。使用這些術語僅僅是為了更方便地描述和解釋本發(fā)明的本質;把它們解釋成任何一種附加的限制都是與本發(fā)明精神相違背的。
【主權項】
1.一種多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，包括機架、動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段、 噴淋噴霧清洗段、烘烤段、消除靜電段和傳輸平臺，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段安裝于 支撐架上，所述傳輸平臺(9)上依次安裝有噴淋噴霧制絨段、噴淋噴霧清洗段、烘烤段和消 除靜電段，其特征在于:所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨段包括動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器、 光電感應器和制絨液緩存池，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器包括耐酸堿柔性軟管、噴淋 噴霧頭(7)和支撐架(1);所述耐酸堿柔性軟管與噴淋噴霧頭(7)相連接;所述光電感應器固 定設置于支撐架(1)上，所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器通過電連接線與光電感應器相連 接;噴淋噴霧制絨段的回收的制絨液通過管道與制絨液緩存池相連接，噴淋噴霧頭的酸堿 液通過耐酸堿柔性軟管與制絨液緩存池相連接。2.根據(jù)權利要求1所述的多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，其特征在于:所述動態(tài) 掃描式噴淋噴霧制絨器包括支撐架(1)、支撐齒輪(2)、同步齒形帶(3)、同步電機或伺服電 機(4)、噴淋噴霧頭固定座(5)、滑軌(6)和噴淋噴霧頭(7);所述支撐齒輪(2)設置于支撐架 (1)的兩側，同步電機或伺服電機(4)固定設置于支撐架(1)頂部的中部，噴淋噴霧頭固定座(5)與同步齒形帶相固接，所述能夠往復動態(tài)掃描式運動的噴淋噴霧頭固定座(5)與滑軌(6)相連接，所述噴淋噴霧頭(7)固定設置于噴淋噴霧頭固定座(5)的下方，所述噴淋噴霧頭(7)的下方設置有制絨基底(8)。3.根據(jù)權利要求2所述的多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，其特征在于:所述動態(tài) 掃描式噴淋噴霧制絨器上設置的噴淋噴霧頭(7)的個數(shù)為一個或兩個，所述噴淋噴霧頭(7) 距制域基底(8)的距尚范圍為5?30cm 〇4.根據(jù)權利要求1所述的多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，其特征在于:所述動態(tài) 掃描式噴淋噴霧制絨器為一列或偶數(shù)列;所述噴淋噴霧頭(7)為噴淋頭或噴霧頭，偶數(shù)列動 態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器的噴淋噴霧頭(7)相互錯開設置，兩相鄰動態(tài)掃描式噴淋噴霧制 域器之間的距尚大于制域基底(8)制域方向最大幾何尺寸，所述制域基底(8)制域方向最大 幾何尺寸為0.3?3m。5.根據(jù)權利要求2所述的多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，其特征在于:所述制絨 液緩存池和噴淋噴霧頭的材質為耐腐蝕材料。6.根據(jù)權利要求2所述的多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，其特征在于:所述動態(tài) 掃描式噴淋噴霧制絨段還設置有上下強力風刀，所述上下強力風刀在傳輸平臺上下成對分 布，所述上下強力風刀與傳輸平臺為l-6cm。7.根據(jù)權利要求5所述的多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，其特征在于:所述制絨 液緩存池內(nèi)設置有在線pH檢測計。8.根據(jù)權利要求2所述的多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，其特征在于:所述噴淋 噴霧頭(7)在感應到制絨基底(8)到達前設置于動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器的一側，制絨基 底(8)通過后噴淋噴霧頭(7)復位。9.根據(jù)權利要求1至8任一項所述的多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，其特征在 于:所述動態(tài)掃描式噴淋噴霧制絨器的掃描頻率范圍為20?300次/分鐘。10.根據(jù)權利要求1所述的多列動態(tài)掃描式透明導電膜制絨設備，其特征在于:所述噴 淋噴霧清洗段包括多排噴淋管、噴霧頭和噴霧管，各排噴淋管和噴霧管相互間隔設置，每排 噴霧管由若干噴霧頭均勻連接于同一管道組成。
【文檔編號】H01L31/18GK106098850SQ201610612594
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年7月29日 公開號201610612594.0, CN 106098850 A, CN 106098850A, CN 201610612594, CN-A-106098850, CN106098850 A, CN106098850A, CN201610612594, CN201610612594.0
【發(fā)明人】劉戰(zhàn)合, 王曉璐, 田秋麗, 趙輝, 王菁, 路玲
【申請人】鄭州航空工業(yè)管理學院