透明導(dǎo)電性層疊體和觸摸面板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及透明導(dǎo)電性層疊體和具有該透明導(dǎo)電性層疊體的觸摸面板。
【背景技術(shù)】
[0002] 在透明的基材上層疊有透明導(dǎo)電膜的透明導(dǎo)電性層疊體具有導(dǎo)電性和光學(xué)透明 性，因此被用作透明電極膜、電磁波屏蔽膜、面狀發(fā)熱膜、防反射膜等，近年來作為觸摸面板 用電極而受到關(guān)注。觸摸面板存在電阻膜式、電容耦合式、光學(xué)式等多種方式。透明導(dǎo)電膜 例如用于通過上下電極接觸而確定觸摸位置的電阻膜式、感知電容的變化的電容耦合方 式。用于電阻膜式的透明導(dǎo)電膜在工作原理上是透明導(dǎo)電膜彼此進(jìn)行機(jī)械接觸，因此需要 尚耐久性。
[0003] 為了對用作透明導(dǎo)電膜的透明導(dǎo)電性層疊體賦予這樣的高耐久性，一直以來，在 基材與氧化銦錫等透明導(dǎo)電膜之間設(shè)置氧化硅層來增強(qiáng)透明導(dǎo)電膜與基材的密合性。這 里，使用Si0 2層作為氧化硅層時，雖然實現(xiàn)某種程度的密合性的提高，但是密合性、耐堿性 等耐試劑性不充分，不能說滿足了所需求的耐久性。另外，使用SiO x(x小于2)層時，雖然得 到高的密合性，但導(dǎo)致透明導(dǎo)電膜的表面電阻變化，在這方面存在問題。
[0004] 因此，為了兼得密合性和透明導(dǎo)電膜的電特性的維持，例如，在專利文獻(xiàn)1中記載 了從基材側(cè)依次設(shè)置相對折射率為1.6~1.9的范圍的SiO x(x為1.5以上且小于2)層和Si〇2 層，并在其上設(shè)置透明導(dǎo)電膜的透明導(dǎo)電性層疊體的技術(shù)。然而，對于專利文獻(xiàn)1中記載的 透明導(dǎo)電性層疊體，雖然能夠兼得密合性和透明導(dǎo)電膜的電特性的維持，但有時導(dǎo)致透射 光的色調(diào)變化，并且層的厚度厚，因此希望改善生產(chǎn)率和透光性。
[0005] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)
[0007] 專利文獻(xiàn)1:日本專利第4508074號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 本發(fā)明的目的在于提供一種透明導(dǎo)電性層疊體，是在基材上層疊有透明導(dǎo)電膜而 成的透明導(dǎo)電性層疊體，其在確保基材與透明導(dǎo)電膜的密合性的同時保持透明導(dǎo)電膜的電 特性，并且透光特性良好，耐試劑性優(yōu)異。此外，本發(fā)明的目的在于提供一種具備上述透明 導(dǎo)電性層疊體的可靠性高的觸摸面板。
[0009] 本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體具有透明基材、設(shè)置在上述透明基材的一個主面上的 厚度為3~60nm的510^層(其中，xl為1.8以上且小于2.0)、設(shè)置在上述SiO xl層上的厚度為 0.2~5nm的Si0X2層(其中，x2為1.9~2.0且大于xl)、和設(shè)置在上述Si0 X2層上的以氧化銦錫 為主體的導(dǎo)電層。
[0010] 另外，本發(fā)明的觸摸面板具備上述本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體。
[0011] 根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種透明導(dǎo)電性層疊體，是在基材上層疊有透明導(dǎo)電膜的 透明導(dǎo)電性層疊體，其在確?；呐c透明導(dǎo)電膜的密合性的同時保持透明導(dǎo)電膜的電特 性，并且透光特性良好，耐試劑性優(yōu)異。此外，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種具備上述透明導(dǎo)電 性層疊體的可靠性高的觸摸面板。
【附圖說明】
[0012] 圖1是表示本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體的實施方式的一個例子的截面圖。
[0013] 圖2是表示本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體的實施方式的另一個例子的截面圖。
【具體實施方式】
[0014] 以下，一邊參照附圖一邊對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行說明。應(yīng)予說明，本發(fā)明不受下 述說明限定解釋。
[0015] [透明導(dǎo)電性層疊體]
[0016] 圖1和圖2是分別表示本發(fā)明的透明導(dǎo)電性層疊體的實施方式的一個例子和另一 個例子的截面圖。
[0017] 圖1和圖2中，透明導(dǎo)電性層疊體10具有透明基材1、設(shè)置在透明基材1的一個主面 上的厚度為3~60nm的51(^層2(其中，xl為1.8以上且小于2.0)、設(shè)置在510^層2上的厚度 為0.2~5nm的SiO x2層3(其中，x2為1.9~2.0且大于xl)、和設(shè)置在SiOx2層3上的以氧化銦錫 為主體的導(dǎo)電層4。
[0018]圖2所示的透明導(dǎo)電性層疊體10是透明基材1在兩主面上具有樹脂層5a、5b，在一 側(cè)樹脂層5a上依次設(shè)有51(^層2、510^層3和導(dǎo)電層4的構(gòu)成。應(yīng)予說明，本發(fā)明的透明導(dǎo)電 性層疊體中，圖2所示的樹脂層5a、5b這樣的樹脂層是任意設(shè)置的層。
[0019] 導(dǎo)電層4由于隔著上述構(gòu)成的51(^層2和510^層3形成在透明基材1上，因此與透 明基材1牢固地密合而具有高耐久性。另外，以氧化銦錫為主體的導(dǎo)電層4通過以與510^層3 接觸的方式形成，因此能夠以與直接形成在透明基材1上的情況相同的結(jié)晶狀態(tài)形成。由 此，在導(dǎo)電層4中薄層電阻值等電特性可以保持為規(guī)定值。另外，透明導(dǎo)電性層疊體10具有 可見光透射率高、透射光的色調(diào)的變化少等良好的透光特性。
[0020] 以下，對構(gòu)成透明導(dǎo)電性層疊體10的各要素進(jìn)行說明。
[0021] 作為透明基材1，可以沒有特別限制地使用在透明導(dǎo)電性層疊體中通常使用的透 明基材，例如由透明性高的材料構(gòu)成的膜狀或板狀的基材。作為這樣的透明基材1，例如優(yōu) 選由選自聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘 二甲酸乙二醇酯等聚酯、尼龍6、尼龍66等聚酰胺、聚酰亞胺、聚芳酯、聚碳酸酯、聚（甲基)丙 烯酸酯、聚醚砜、聚砜等中的聚合物或共聚物構(gòu)成的塑料膜。該塑料膜可以是拉伸的膜，也 可以是未拉伸的膜。作為透明基材1，其中特別優(yōu)選由聚對苯二甲酸乙二醇酯構(gòu)成的塑料 膜。
[0022] 應(yīng)予說明，本說明書中"(甲基)丙烯酸酯"作為總稱丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的用 語使用。以下，"(甲基)丙烯酸…"以與上述相同的含義使用。
[0023] 透明基材1的厚度根據(jù)使用透明導(dǎo)電性層疊體10的用途而適當(dāng)?shù)剡x擇。用于觸摸 面板時，從撓性、耐久性等觀點考慮，透明基材1的厚度優(yōu)選10~200M1，更優(yōu)選20~150M1。
[0024] 另外，出于提高與51(^層2的密合性等目的，可以在透明基材1的至少設(shè)置51(^層 2的一側(cè)主面預(yù)先實施易粘接處理、等離子體處理、電暈處理等表面處理。應(yīng)予說明，該表面 處理也可以對透明基材1的兩個主面實施。
[0025]此外，透明基材1可以根據(jù)需要在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，至少在設(shè)置SiOxl 層2的一側(cè)主面上具有樹脂層。應(yīng)予說明，樹脂層也可以設(shè)置在透明基材1的兩個主面上。圖 2表示這樣在透明基材1的兩個主面上具有樹脂層5a、5b的透明導(dǎo)電性層疊體10的截面圖。 作為樹脂層，優(yōu)選硬涂層，該硬涂層是具有提高310^層2的密合性的功能或光學(xué)調(diào)整功能等 的樹脂層、透明且硬質(zhì)的樹脂層。
[0026] 硬涂層的厚度優(yōu)選1~15圓，更優(yōu)選1 ? 5~10圓。通過使硬涂層的膜厚為lym以上， 能夠通過形成硬涂層得到所期待的效果。另外，通過使膜厚為15wii以下，能夠抑制硬涂層的 成膜效率的降低，并且也能夠抑制裂紋的產(chǎn)生。
[0027] 硬涂層例如由通過電離輻射線、熱而固化的固化性樹脂的固化物而構(gòu)成。通過電 離輻射線而固化的固化性樹脂可以含有丙烯酸系材料，可以使用多元醇的（甲基)丙烯酸酯 這樣的多官能（甲基)丙烯酸酯化合物、由二異氰酸酯與多元醇和（甲基)丙烯酸的羥基酯等 合成的多官能氨基甲酸酯（甲基)丙烯酸酯化合物。另外，除此以外，可以使用具有丙烯酸酯 系官能團(tuán)例如（甲基)丙烯?；木勖褬渲⒕埘渲h(huán)氧樹脂、醇酸樹脂、螺