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觸摸顯示面板、其制備方法以及觸摸顯示器的制造方法

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觸摸顯示面板、其制備方法以及觸摸顯示器的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供了一種觸摸顯示面板、其制備方法以及觸摸顯示器,該觸摸顯示面板包括上基板、下基板以及設(shè)置在上基板和下基板之間的顯示器件層、第一絕緣層和透明觸控電極層;顯示器件層位于下基板上,用于顯示圖像;第一絕緣層位于顯示器件層上,用于隔開(kāi)顯示器件層和透明觸控電極層;透明觸控電極層位于第一絕緣層上,用于檢測(cè)觸摸位置,透明觸控電極層的材料為透明導(dǎo)電石墨烯。本發(fā)明減少了工藝過(guò)程和零部件數(shù)量,且避免了觸摸板導(dǎo)致的可見(jiàn)光透過(guò)率降低的問(wèn)題,還避免了顯示面板與觸控板粘合易導(dǎo)致良品率低的問(wèn)題,本發(fā)明簡(jiǎn)化并優(yōu)化了觸摸顯示面板的結(jié)構(gòu),并降低了成本。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
觸摸顯示面板、其制備方法以及觸摸顯示器
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及觸摸顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種觸摸顯示面板、其制備方法以及觸摸顯示器。
【背景技術(shù)】
[0002]石墨烯具有質(zhì)地堅(jiān)硬,透明高(穿透率?97.7%),導(dǎo)熱系數(shù)高(達(dá)5300W/m.K),電子迀移率高(超過(guò)15000cm2/V.s)等優(yōu)良特定,近年來(lái)在顯示器上的應(yīng)用,逐漸增多,尤其是在觸摸屏的應(yīng)用(作為替代傳統(tǒng)透明導(dǎo)電薄膜ΙΤ0)和在LED方面的應(yīng)用。
[0003]近年來(lái)由于石墨烯發(fā)光元件的出現(xiàn),使石墨烯在顯示領(lǐng)域的應(yīng)用得以擴(kuò)展,采用石墨烯材料制作的發(fā)光元件可通過(guò)柵極電壓調(diào)節(jié)石墨烯發(fā)光二極管發(fā)光顏色。
[0004]現(xiàn)有的帶觸控功能的顯示屏的實(shí)現(xiàn)方式是將觸摸板和顯示屏粘接到一起,顯示屏實(shí)現(xiàn)顯示的功能,觸摸板實(shí)現(xiàn)觸摸位置的檢測(cè),再通過(guò)外部電路,將觸摸位置與顯示內(nèi)容相互關(guān)聯(lián),在操作系統(tǒng)的處理下,實(shí)現(xiàn)對(duì)顯示內(nèi)容進(jìn)行觸摸控制。這種將顯示屏與觸摸板粘結(jié)實(shí)現(xiàn)顯示與觸控功能的方式的缺點(diǎn)在于,一是增加了工藝過(guò)程和器件的零部件數(shù)量;二是在顯示面板上面增加了觸控板,降低了可見(jiàn)光的透過(guò)率;三是顯示面板和觸控板粘合的方式,在顯示屏的面積較大的時(shí)候,容易在兩者的粘合面上引入氣泡,成為不良品,降低產(chǎn)品良率,最終影響器件的成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供一種觸摸顯示面板、其制備方法以及觸摸顯示器,能夠解決現(xiàn)有技術(shù)存在的觸摸顯示面板結(jié)構(gòu)復(fù)雜及成本高的問(wèn)題。
[0006]為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種觸摸顯示面板,該觸摸顯示面板包括上基板、下基板以及設(shè)置在所述上基板和所述下基板之間的顯示器件層、第一絕緣層和透明觸控電極層;所述顯示器件層位于所述下基板上,用于顯示圖像;所述第一絕緣層位于所述顯示器件層上,用于隔開(kāi)所述顯示器件層和所述透明觸控電極層;所述透明觸控電極層位于所述第一絕緣層上,用于檢測(cè)觸摸位置,所述透明觸控電極層的材料為透明導(dǎo)電石墨烯。
[0007]其中,所述顯示器件層包括多個(gè)TFT器件,所述TFT器件包括源/漏極圖案層、發(fā)光層、第二絕緣層和柵極圖案層,所述發(fā)光層位于所述源/漏極圖案層下方,所述第二絕緣層位于所述發(fā)光層下方,所述柵極圖案層隔著所述第二絕緣層位于所述發(fā)光層的下方,所述發(fā)光層的材料均為還原氧化石墨烯。
[0008]其中,所述源/漏極圖案層和所述柵極圖案層的材料均為還原氧化石墨烯。
[0009]為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用的另一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種觸摸顯示器,該觸摸顯示器包括上述觸摸顯示面板。
[0010]為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用的又一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種觸摸顯示面板的制備方法,該方法包括以下步驟:在上基板上形成透明觸控電極層,其中,所述透明觸控電極層的材料為透明導(dǎo)電石墨烯;在所述透明觸控電極層上形成第一絕緣層;在所述第一絕緣層上形成顯示器件層;在所述顯示器件層上覆蓋下基板。
[0011]其中,所述在上基板上形成透明觸控電極層的步驟包括:在所述基板上噴涂或印刷氧化石墨烯;將所述氧化石墨烯進(jìn)行固化;將固化后的所述氧化石墨烯進(jìn)行圖案化而形成透明觸控電極層。
[0012]其中,所述將固化后的所述氧化石墨烯進(jìn)行圖案化而形成透明觸控電極層的步驟中,采用激光照射的方式進(jìn)行圖案化,同時(shí)將所述氧化石墨烯進(jìn)行還原。
[0013]其中,在所述第一絕緣層上形成顯示器件層的步驟包括:在所述第一絕緣層上形成源/漏極圖案層;在所述源/漏極圖案層上形成發(fā)光層;在所述發(fā)光層上形成第二絕緣層;在所述第二絕緣層上形成柵極圖案層。
[0014]其中,在所述第一絕緣層上形成源/漏極圖案層的步驟包括:在所述第一絕緣層上噴涂或印刷源/漏極氧化石墨烯;將所述源/漏極氧化石墨烯層進(jìn)行固化;采用激光照射的方式將固化后的所述源/漏極氧化石墨烯進(jìn)行圖案化,同時(shí)將所述源/漏極氧化石墨烯進(jìn)行還原從而形成源/漏極圖案層;
[0015]在所述源/漏極圖案層上形成發(fā)光層的步驟包括:在所述源/漏極圖案層上噴涂或印刷發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯;將所述發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯進(jìn)行固化;采用激光照射的方式將固化后的所述發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯進(jìn)行圖案化,同時(shí)將所述發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯進(jìn)行還原,從而形成發(fā)光層。
[0016]其中,在所述第二絕緣層上形成柵極圖案層的步驟包括:在所述第二絕緣層上噴涂或印刷柵極氧化石墨烯;采用激光照射的方式將所述柵極氧化石墨烯進(jìn)行圖案化而形成柵極圖案層;或者,在所述第二絕緣層上形成柵極金屬層;通過(guò)蝕刻的方式將所述金屬層進(jìn)行圖案話而形成柵極圖案層。
[0017]本發(fā)明的有益效果是:區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的情況,本發(fā)明通過(guò)在顯示面板內(nèi)的顯示器件層上設(shè)置了具有觸控功能的透明觸控電極層,使得該顯示面板具有觸控功能,從而無(wú)需再在顯示面板上增加觸摸板,減少了工藝過(guò)程和零部件數(shù)量,且避免了觸摸板導(dǎo)致的可見(jiàn)光透過(guò)率降低的問(wèn)題,還避免了顯示面板與觸控板粘合易導(dǎo)致良品率低的問(wèn)題,本發(fā)明簡(jiǎn)化并優(yōu)化了觸摸顯示面板的結(jié)構(gòu),并降低了成本。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1是本發(fā)明觸摸顯示面板實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0019]圖2是本發(fā)明觸摸顯示器實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0020]圖3是本發(fā)明觸摸顯示面板的制備方法第一實(shí)施例的流程示意圖;
[0021]圖4是本發(fā)明觸摸顯示面板的制備方法第二實(shí)施例的流程示意圖;
[0022]圖5是本發(fā)明觸摸顯示面板的制備方法第二實(shí)施例的流程圖;
[0023]圖6是圖4中步驟S21的流程不意圖;
[0024]圖7是圖4中步驟S23的流程示意圖;
[0025]圖8是圖7中步驟S231的流程示意圖;
[0026]圖9是圖7中步驟S232的流程示意圖;
[0027]圖10是圖7中步驟S234的流程示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0029]請(qǐng)參閱圖1,圖1是本發(fā)明觸摸顯示面板實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]本發(fā)明的觸摸顯示面板包括上基板11、下基板12以及設(shè)置在上基板11和下基板12之間的顯示器件層、第一絕緣層13和透明觸控電極層14。
[0031]其中,上基板11和下基板12的材料為防水防氧的透明有機(jī)材質(zhì),如PET,或者,上基板11和下基板12的材料也可以是玻璃或者鎳等,上基板11和下基板12給中間的顯示器件層、第一絕緣層13和透明觸控電極層14等結(jié)構(gòu)提供支撐以及保護(hù)作用。
[0032]顯示器件層位于下基板上12,用于顯示圖像。
[0033]第一絕緣層13位于顯示器件層上,用于隔開(kāi)顯示器件層和透明觸控電極層14。具體地,該第一絕緣層13可以是PI層,可以通過(guò)噴涂的方式形成在顯示器件層上。
[0034]透明觸控電極層14位于第一絕緣層13上,用于檢測(cè)觸摸位置,透明觸控電極層14的材料為透明導(dǎo)電石墨烯,具體地,該透明導(dǎo)電石墨烯是還原氧化石墨烯。
[0035]具體而言,該觸摸顯示面板還包括控制電路(圖未示),控制電路用于將透明觸控電極層14檢測(cè)出的觸摸位置與顯示器件層的顯示內(nèi)容進(jìn)行相互關(guān)聯(lián),在操作系統(tǒng)的處理下,實(shí)現(xiàn)對(duì)顯示內(nèi)容進(jìn)行觸摸控制。
[0036]區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明通過(guò)在顯示面板內(nèi)的顯示器件層上設(shè)置了具有觸控功能的透明觸控電極層14,使得該顯示面板具有觸控功能,從而無(wú)需再在顯示面板上增加觸摸板,減少了工藝過(guò)程和零部件數(shù)量,且避免了觸摸板導(dǎo)致的可見(jiàn)光透過(guò)率降低的問(wèn)題,還避免了顯示面板與觸控板粘合易導(dǎo)致良品率低的問(wèn)題,本發(fā)明簡(jiǎn)化并優(yōu)化了觸摸顯示面板的結(jié)構(gòu),并降低了成本。
[0037]具體而言,顯示器件層包括多個(gè)TFT器件15,TFT器件15包括源/漏極圖案層151、發(fā)光層152、第二絕緣層153和柵極圖案層154,發(fā)光層152位于源/漏極圖案層151下方,第二絕緣層153位于發(fā)光層152下方,第二絕緣層153用于隔開(kāi)發(fā)光層152和柵極圖案層154,柵極圖案層154隔著第二絕緣層153位于發(fā)光層152的下方。
[0038]其中,發(fā)光層152、源/漏極圖案層151和柵極圖案層153的材料均為還原氧化石墨烯。值得一提的是,柵極圖案層153的材料還可以是金屬,例如高反射率金屬。根據(jù)柵極電壓的不同,可以把像素區(qū)分成紅綠藍(lán)(RGB)三種像素,RGB像素由絕緣層S12分割開(kāi)。
[0039]本發(fā)明還提供了一種觸摸顯示器,該觸摸顯示器包括上述觸摸顯示面板21和框體22,如圖2所示,圖2是本發(fā)明觸摸顯示器實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明的觸摸顯示器能簡(jiǎn)化并優(yōu)化結(jié)構(gòu),同時(shí)還能降低成本。
[0040]本發(fā)明還提供了一種觸摸顯示面板的制備方法,請(qǐng)參閱圖3,圖3是本發(fā)明觸摸顯示面板的制備方法第一實(shí)施例的流程示意圖。
[0041]具體地,本實(shí)施例的觸摸顯示面板的制備方法包括以下步驟:
[0042]S11、在上基板上形成透明觸控電極層,其中,透明觸控電極層的材料為透明導(dǎo)電石墨烯。
[0043]其中,上基板可以是PET,或者玻璃,或者鎳等。為透明觸控電極層提供支撐,以及保護(hù)作用。具體地,透明觸控電極層的材料為透明導(dǎo)電的還原氧化石墨烯。該透明觸控電極層用于檢測(cè)檢測(cè)觸摸位置。
[0044]S12、在透明觸控電極層上形成第一絕緣層。
[0045]步驟S12中形成的第一絕緣層用于將透明觸控電極層和后續(xù)形成顯示器件層,該第一絕緣層可以是PI層。
[0046]S13、在第一絕緣層上形成顯示器件層。
[0047]顯示器件層用于顯示圖像。具體地,該顯示器件層的顯示內(nèi)容與透明觸控電極層檢測(cè)到的觸摸位置會(huì)通過(guò)控制電路進(jìn)行關(guān)聯(lián),并通過(guò)操作系統(tǒng)處理實(shí)現(xiàn)對(duì)顯示內(nèi)容進(jìn)行觸摸控制。
[0048]S14、在顯示器件層上覆蓋下基板。
[0049]將下基板覆蓋住顯示器件層,使顯示器件層、透明觸控電極層和第一絕緣層均位于上基板和下基板之間,從而實(shí)現(xiàn)上基板和下基板對(duì)顯示器件層、透明觸控電極層和第一絕緣層等的保護(hù)作用。
[0050]本發(fā)明觸摸顯示面板的制備方法工藝簡(jiǎn)單,成本低,并能優(yōu)化制備所得的觸摸顯示面板的結(jié)構(gòu)。
[0051]請(qǐng)參閱圖4和圖5,圖4是本發(fā)明觸摸顯示面板的制備方法第二實(shí)施例的流程示意圖。圖5是本發(fā)明觸摸顯示面板的制備方法第二實(shí)施例的流程圖。
[0052]S21、在上基板上形成透明觸控電極層,其中,透明觸控電極層的材料為透明導(dǎo)電石墨烯。
[0053 ] 請(qǐng)參閱圖6,圖6是圖4中步驟S21的流程示意圖。具體地,步驟S21包括以下步驟:
[0054]S211、在基板上噴涂或印刷氧化石墨烯。
[0055]步驟S211中,噴涂或印刷的氧化石墨烯的厚度為幾十納米到幾百納米。
[0056]S212、將氧化石墨烯進(jìn)行固化。
[0057]步驟S212中,由于剛制備得到的氧化石墨烯薄膜內(nèi)含有水分,通過(guò)在薄膜表面穿氮?dú)獾姆绞綆ё弑∧?nèi)的水分和氮?dú)?,從而?shí)現(xiàn)薄膜固化。
[0058]S213、將固化后的氧化石墨烯進(jìn)行圖案化而形成透明觸控電極層。
[0059]步驟S213中,采用激光照射的方式進(jìn)行圖案化,該技術(shù)稱(chēng)為L(zhǎng)SG(Laser scribinggraphene)技術(shù),激光照射時(shí)可同時(shí)將氧化石墨稀進(jìn)行還原,其中,激光的波長(zhǎng)為700-800nm。氧化石墨烯的還原程度可以通過(guò)激光照射的時(shí)間來(lái)控制。由于氧化石墨烯為絕緣體,不導(dǎo)電,被激光照射的氧化石墨烯被還原,從而得到還原氧化石墨烯,因而具有導(dǎo)電特性。通過(guò)激光照射到具有掩膜板(mask)的氧化石墨烯,從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)氧化石墨烯薄膜的圖案化而形成透明觸控電極層。
[0060]S22、在透明觸控電極層上形成第一絕緣層。
[0061]具體地,可以通過(guò)噴涂的方式形成PI絕緣層。
[0062]S23、在第一絕緣層上形成顯示器件層。
[0063]請(qǐng)參閱圖7,圖7是圖4中步驟S23的流程示意圖。
[0064]具體地,步驟S23包括:
[0065]S231、在第一絕緣層上形成源/漏極圖案層。
[0066]如圖7所示,圖8是圖7中步驟S231的流程示意圖。步驟S231進(jìn)一步包括以下步驟:
[0067]S2311、在第一絕緣層上噴涂或印刷源/漏極氧化石墨烯。
[0068]S2312、將源/漏極氧化石墨烯層進(jìn)行固化。
[0069]步驟S2312中,由于剛制備得到的氧化石墨烯薄膜內(nèi)含有水分,通過(guò)在薄膜表面穿氮?dú)獾姆绞綆ё弑∧?nèi)的水分和氮?dú)?,從而?shí)現(xiàn)薄膜固化。
[0070]S2313、采用激光照射的方式將固化后的源/漏極氧化石墨烯進(jìn)行圖案化,同時(shí)將源/漏極氧化石墨烯進(jìn)行還原從而形成源/漏極圖案層。
[0071]步驟S2313中,通過(guò)LSG技術(shù)將氧化石墨烯進(jìn)行還原,形成的還原氧化石墨烯具有導(dǎo)電特性。并且,通過(guò)激光照射到具有掩膜板的氧化石墨烯,從而圖案化氧化石墨烯而形成源/漏極圖案層。
[0072]S232、在源/漏極圖案層上形成發(fā)光層。
[0073]如圖9所示,圖9是圖7中步驟S232的流程示意圖。具體地,步驟S232包括:
[0074]S2321、在源/漏極圖案層上噴涂或印刷發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯。
[0075]S2322、將發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯進(jìn)行固化。
[0076]由于剛制備得到的氧化石墨烯薄膜內(nèi)含有水分,通過(guò)在薄膜表面穿氮?dú)獾姆绞綆ё弑∧?nèi)的水分和氮?dú)猓瑥亩鴮?shí)現(xiàn)薄膜固化。
[0077]S2323、采用激光照射的方式將固化后的發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯進(jìn)行圖案化,同時(shí)將發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯進(jìn)行還原,從而形成發(fā)光層。
[0078]本步驟通過(guò)LSG技術(shù)將發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯進(jìn)行還原,形成的還原氧化石墨烯具有導(dǎo)電特性。并且,通過(guò)激光照射到具有掩膜板的氧化石墨烯,從而圖案化氧化石墨烯而形發(fā)光層。
[0079]S233、在發(fā)光層上形成第二絕緣層。
[0080]步驟S233中,第二絕緣層可以是SiNx絕緣層,其可以通過(guò)氣相沉積(CVD)的方式形成。
[0081]S234、在第二絕緣層上形成柵極圖案層。
[0082 ] 具體地,請(qǐng)參閱圖1O,圖1O是圖7中步驟S234的流程示意圖。
[0083]S2341、在第二絕緣層上形成柵極金屬層。
[0084]步驟S2341中,柵極金屬層可以是高反射率金屬層,其可以通過(guò)蒸鍍的方式形成在第二絕緣層上。
[0085]S2342、將柵極金屬層進(jìn)行圖案化而形成柵極圖案層。
[0086]具體地,步驟S2342可以通過(guò)蝕刻的方式,例如,干刻,對(duì)柵極金屬層進(jìn)行圖案化。在其他實(shí)施例中,柵極金屬層還可以通過(guò)在第二絕緣層上噴涂或印刷氧化石墨烯,并且,通過(guò)LSG技術(shù)對(duì)氧化石墨烯進(jìn)行還原,同時(shí)進(jìn)行圖案化。
[0087]S24、在顯示器件層上覆蓋下基板。
[0088]綜上所述,本發(fā)明能簡(jiǎn)化并優(yōu)化觸摸顯示面板,并且工藝流程簡(jiǎn)單,成本低。
[0089]以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施方式,并非因此限制本發(fā)明的專(zhuān)利范圍,凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專(zhuān)利保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種觸摸顯示面板,其特征在于,包括上基板、下基板以及設(shè)置在所述上基板和所述下基板之間的顯示器件層、第一絕緣層和透明觸控電極層; 所述顯示器件層位于所述下基板上,用于顯示圖像; 所述第一絕緣層位于所述顯示器件層上,用于隔開(kāi)所述顯示器件層和所述透明觸控電極層; 所述透明觸控電極層位于所述第一絕緣層上,用于檢測(cè)觸摸位置,所述透明觸控電極層的材料為透明導(dǎo)電石墨烯。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述顯示器件層包括多個(gè)TFT器件,所述TFT器件包括源/漏極圖案層、發(fā)光層、第二絕緣層和柵極圖案層,所述發(fā)光層位于所述源/漏極圖案層下方,所述第二絕緣層位于所述發(fā)光層下方,所述柵極圖案層隔著所述第二絕緣層位于所述發(fā)光層的下方,所述發(fā)光層的材料為還原氧化石墨烯。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述源/漏極圖案層和所述柵極圖案層的材料均為還原氧化石墨稀。4.一種觸摸顯示器,其特征在于,包括權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的觸摸顯示面板。5.一種觸摸顯示面板的制備方法,其特征在于,包括以下步驟: 在上基板上形成透明觸控電極層,其中,所述透明觸控電極層的材料為透明導(dǎo)電石墨?。?在所述透明觸控電極層上形成第一絕緣層; 在所述第一絕緣層上形成顯示器件層; 在所述顯示器件層上覆蓋下基板。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述在上基板上形成透明觸控電極層的步驟包括: 在所述基板上噴涂或印刷氧化石墨稀; 將所述氧化石墨烯進(jìn)行固化; 將固化后的所述氧化石墨烯進(jìn)行圖案化而形成透明觸控電極層。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,所述將固化后的所述氧化石墨烯進(jìn)行圖案化而形成透明觸控電極層的步驟中,采用激光照射的方式進(jìn)行圖案化,同時(shí)將所述氧化石墨稀進(jìn)行還原。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,在所述第一絕緣層上形成顯示器件層的步驟包括: 在所述第一絕緣層上形成源/漏極圖案層; 在所述源/漏極圖案層上形成發(fā)光層; 在所述發(fā)光層上形成第二絕緣層; 在所述第二絕緣層上形成柵極圖案層。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,在所述第一絕緣層上形成源/漏極圖案層的步驟包括: 在所述第一絕緣層上噴涂或印刷源/漏極氧化石墨烯; 將所述源/漏極氧化石墨烯層進(jìn)行固化; 采用激光照射的方式將固化后的所述源/漏極氧化石墨烯進(jìn)行圖案化,同時(shí)將所述源/漏極氧化石墨烯進(jìn)行還原從而形成源/漏極圖案層; 在所述源/漏極圖案層上形成發(fā)光層的步驟包括: 在所述源/漏極圖案層上噴涂或印刷發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯; 將所述發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯進(jìn)行固化; 采用激光照射的方式將固化后的所述發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯進(jìn)行圖案化,同時(shí)將所述發(fā)光半導(dǎo)體氧化石墨烯進(jìn)行還原,從而形成發(fā)光層。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,在所述第二絕緣層上形成柵極圖案層的步驟包括: 在所述第二絕緣層上噴涂或印刷柵極氧化石墨烯; 采用激光照射的方式將所述柵極氧化石墨烯進(jìn)行圖案化而形成柵極圖案層;或者, 在所述第二絕緣層上形成柵極金屬層; 通過(guò)蝕刻的方式將所述金屬層進(jìn)行圖案話而形成柵極圖案層。
【文檔編號(hào)】G06F3/041GK105892747SQ201610210394
【公開(kāi)日】2016年8月24日
【申請(qǐng)日】2016年4月6日
【發(fā)明人】樊勇
【申請(qǐng)人】深圳市華星光電技術(shù)有限公司
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