一方向Dl垂直一掃描方向SI,而第二方向D2平行掃描方向SI。因此，任一記號圖案130內(nèi)的各片段130a都平行掃描方向SI，而各輔助條132都垂直掃描方向SI。另外需注意的是，在本優(yōu)選實施例中，記號圖案130為在掃描測量標記結構100具有實際意義的結構。舉例來說，在測量疊對精確度時，即是掃描記號圖案130并將其與前層或后層的測量標記比對。更重要的是，由于本優(yōu)選實施例所提供的測量標記結構100中,任一記號圖案130的兩側都設置有垂直于掃描方向SI的輔助條132。也就是說,凡是延伸方向平行于掃描方向SI的片段130a的兩端,都設置有垂直于掃描方向SI的輔助條132。而輔助條132的設置可避免記號圖案130兩側發(fā)生邊緣粗糙的問題，故可有效地提高對準精確度的測量結果。
[0036]請參閱圖5，圖5為本發(fā)明所提供的測量標記結構的一第二優(yōu)選實施例的示意圖。首先需注意的是，第二優(yōu)選實施例中與第一優(yōu)選實施例相同的組成元件包含相同的符號說明，以及相同的空間關系，且可通過相同的制作工藝步驟形成于基底102上，故在此不再贅述。第二優(yōu)選實施例與第一優(yōu)選實施例不同之處在于，第二優(yōu)選實施例所提供的測量標記結構10a還包含多個記號圖案140與多對輔助條142設置于基底102上，且記號圖案140分別夾設于一對輔助條142之間。記號圖案140分別包含多個片段140a，且片段140a與輔助條142都為長條形圖形。更重要的是，記號圖案140的片段140a沿第二方向D2排列，而輔助條142則沿第二方向D2延伸。另外，記號圖案140的各片段140a沿第一方向Dl延伸。另外，輔助條142的長度大于記號圖案140的長度(片段140a的寬度與片段140a的間隔寬度的總和)。任一記號圖案140與其兩側的輔助條142也構成一梯狀圖形:記號圖案140的片段140a構成梯狀圖形的梯級，而該對輔助條142則構成梯狀圖形的梯架。另外需注意的是，記號圖案140的各片段140a、輔助條142、記號圖案130的各片段130a與輔助條132實體上彼此分離并不接觸。
[0037]在本優(yōu)選實施例中，第一方向Dl平行Y方向；而第二方向D2則平行X方向。故本優(yōu)選實施例提供了排列方向平行Y方向的記號圖案130,以及排列方向平行X方向的記號圖案140。同理，本優(yōu)選實施例還提供了延伸方向平行Y方向的輔助條132，以及延伸方向平行X方向的輔助條142，且任一記號圖案130/140的兩側都分別設置有輔助條132/142。因此，不論是在X方向或Y方向上，本優(yōu)選實施例都可通過記號圖案130/140兩側的輔助條132/142避免記號圖案130/140發(fā)生邊緣粗糙的問題，故可有效地改善對準精確度的測量結果。
[0038]另外請參閱圖6至圖7，圖6至圖7分別為第二優(yōu)選實施例的一變化型的示意圖。如圖6與圖7所示，本優(yōu)選實施例所提供的測量標記結構10b與測量標記結構10c都包含多個記號圖案130與記號圖案140，記號圖案130沿Y方向排列，記號圖案140則沿X方向排列。各記號圖案130包含多個片段130a，同理各記號圖案140包含多個片段140a。更重要的是，任一記號圖案130夾設于一對輔助條132之間，任一記號圖案140則夾設于一對輔助條142之間。輔助條132沿Y方向延伸，而輔助條142則沿X方向延伸。另外需注意的是，輔助條132的長度大于記號圖案130的長度(包含片段130a的寬度與片段130a的間隔寬度)，同理輔助條142的長度大于記號圖案140的長度(包含片段140a的寬度與片段140a的間隔覽度)。
[0039]熟悉該項技術的人士應知，在半導體制作工藝中，測量標記優(yōu)選為能同時提供X方向與Y方向的對準精確度，故第二優(yōu)選實施例及其變化型所提供的測量標記結構100a、10b與10c可滿足X方向與Y方向?qū)市枨蟆Ｇ腋鶕?jù)記號圖案130、輔助條132、記號圖案140與輔助條142的排列組合，本發(fā)明所提供測量標記結構10a?10c可包含不同的圖形，且不限于測量標記結構10a?10c所例示的圖形。也就是說，本優(yōu)選實施例可滿足各種測量標記的需求。
[0040]根據(jù)本發(fā)明所提供的測量標記結構，無論在X方向或Y方向上，凡是有測量意義的記號圖案的兩側都分別設置有延伸方向與記號圖案排列方向相同的輔助條。在掃描測量標記結構時，該多對輔助條可避免記號圖案發(fā)生邊緣粗糙的提高，故可提高對準精確度的測量結果。此外，本發(fā)明所提供的測量標記結構更不限于FinFET的鰭片層制作工藝，凡采用片段裁切(segment-cutting)方法的半導體制作工藝都可形成如本發(fā)明所提供的測量標記結構，故本發(fā)明所提供的測量標記結構還具有極佳的制作工藝彈性與應用性。
[0041]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，凡依本發(fā)明權利要求所做的均等變化與修飾，都應屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
【主權項】
1.一種測量標記結構，包含有: 記號圖案(mark pattern),包含有多個片段(segment),且該多個片段沿一第一方向排列；以及 一對輔助條(assistant bar)，設置于該記號圖案的兩側，且該對輔助條沿該第一方向延伸。2.如權利要求1所述的測量標記結構，其中該第一方向與一掃描方向垂直。3.如權利要求2所述的測量標記結構，其中該多個片段沿一第二方向延伸，且該第二方向垂直于該第一方向。4.如權利要求1所述的測量標記結構，其中該記號圖案與該對輔助條形成一梯狀圖形。5.如權利要求4所述的測量標記結構，其中該記號圖案的該多個片段構成該梯狀圖形的梯級，而該對輔助條構成該梯狀圖形的梯架。6.如權利要求1所述的測量標記結構，其中該記號圖案的該多個片段與該對輔助條彼此分離。7.如權利要求1所述的測量標記結構，其該對輔助條的一長度大于該記號圖案的一長度。8.一種測量標記結構，包含有: 基底； 多個第一記號圖案，設置于該基底上，該多個第一記號圖案分別包含有多個第一片段，該多個第一片段沿一第一方向排列；以及 多對第一輔助條，設置于該基底上，該多個第一記號圖案分別夾設于一對第一輔助條之間，且該多對第一輔助條沿該第一方向延伸。9.如權利要求8所述的測量標記結構,其中該第一方向垂直一掃描方向。10.如權利要求8所述的測量標記結構，其中各該第一記號圖案的該多個第一片段都沿一第二方向延伸，且該第二方向垂直于該第一方向。11.如權利要求10所述的測量標記結構，還包含: 多個第二記號圖案，設置于該基底上，該多個第二記號圖案分別包含有多個第二片段，且該多個第二片段沿該第二方向排列；以及 多對第二輔助條，設置于該基底上，該多個第二記號圖案分別夾設于一對第二輔助條之間，且該多對第二輔助條沿該第二方向延伸。12.如權利要求11所述的測量標記結構，其中該多個第一記號圖案、該多對第一輔助條、該多個第二記號圖案與該多對第二輔助條彼此分離。13.如權利要求8所述的測量標記結構，其中各該第一記號圖案通過二個不同對的第一輔助條與該基底彼此分離。14.如權利要求13所述的測量標記結構，其中不同對的該多個第一輔助條通過該基底彼此分尚。15.如權利要求8所述的測量標記結構,其中任一該第一記號圖案與該第一記號圖案兩側的該對第一輔助條形成一梯狀圖形。16.如權利要求15所述的測量標記結構，其中該多個第一記號圖案的該多個第一片段構成該梯狀圖形的梯級，而該多對第一輔助條構成該梯狀圖形的梯架。17.如權利要求16所述的測量標記結構，其中該多個第一記號圖案的該多個第一片段與該多對第一輔助條彼此分尚。18.如權利要求8所述的測量標記結構，其中該多對第一輔助條的一長度大于該多個第一記號圖案的一長度。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種測量標記結構，其包含有一記號圖案以及一對設置于該記號圖案兩側的輔助條。該記號圖案還包含多個片段，該多個片段沿一第一方向排列，該對輔助條則沿該第一方向延伸。
【IPC分類】H01L23/544
【公開號】CN104952844
【申請?zhí)枴緾N201410120448
【發(fā)明人】劉恩銓, 洪圭鈞, 尤春祺
【申請人】聯(lián)華電子股份有限公司
【公開日】2015年9月30日
【申請日】2014年3月27日