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一種干擾處理方法及電子設(shè)備的制造方法

文檔序號(hào):8905004閱讀:508來源:國(guó)知局
一種干擾處理方法及電子設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及數(shù)據(jù)處理技術(shù),具體涉及一種干擾處理方法及電子設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著觸控技術(shù)的發(fā)展,大尺寸的觸控屏應(yīng)用在電子設(shè)備中,如一體機(jī)。電容式觸控屏包括玻璃層和薄膜涂層。當(dāng)電子設(shè)備的觸控顯示屏平放時(shí),受到觸控顯示屏自身重量的影響,觸控顯示屏最外層的玻璃面板會(huì)發(fā)生下沉形變;觸控顯示屏的尺寸越大,玻璃面板下沉的形變?cè)絿?yán)重。通常,電子設(shè)備的顯示面板的像素電路設(shè)置在觸控屏的內(nèi)側(cè),當(dāng)觸控屏發(fā)生下沉形變時(shí),觸控屏和顯示面板之間的空氣間隙變薄,顯示面板的像素電路會(huì)影響電容式觸控屏的感應(yīng)電容,且距離越近,對(duì)感應(yīng)電容的干擾越大,從而影響對(duì)觸控屏的觸控操作,導(dǎo)致觸控操作異常或無響應(yīng)的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為解決現(xiàn)有存在的技術(shù)問題,本發(fā)明實(shí)施例提供一種干擾處理方法及電子設(shè)備,能夠解決由于觸控單元的形變導(dǎo)致的觸控操作異?;驘o響應(yīng)的問題。
[0004]為達(dá)到上述目的,本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0005]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種干擾處理方法,所述方法包括:
[0006]檢測(cè)電子設(shè)備的觸控單元的第一參數(shù);所述第一參數(shù)表征所述觸控單元的形變程度;
[0007]基于所述第一參數(shù)確定所述觸控單元的第一觸控區(qū)域,并基于所述第一參數(shù)調(diào)整所述第一觸控區(qū)域的第二參數(shù);所述第二參數(shù)表征所述觸控單元的驅(qū)動(dòng)參數(shù);
[0008]控制所述觸控單元的所述第一觸控區(qū)域輸出所述第二參數(shù)。
[0009]上述方案中,調(diào)整后的所述第二參數(shù)與所述第一參數(shù)正相關(guān)。
[0010]上述方案中,所述基于所述第一參數(shù)確定所述觸控單元的第一觸控區(qū)域,包括:
[0011]基于所述第一參數(shù)確定所述第一觸控區(qū)域的中心點(diǎn),按所述中心點(diǎn)確定第一觸控子區(qū)域和第二觸控子區(qū)域;所述第一觸控區(qū)域包括第一觸控子區(qū)域和所述第二觸控子區(qū)域;
[0012]其中,所述第一觸控子區(qū)域和所述第二觸控子區(qū)域的中心點(diǎn)重合,且所述第一觸控子區(qū)域的面積不等于所述第二觸控子區(qū)域的面積。
[0013]上述方案中,所述基于所述第一參數(shù)確定所述第一觸控區(qū)域的中心點(diǎn),按所述中心點(diǎn)確定第一觸控子區(qū)域和第二觸控子區(qū)域,包括:
[0014]確定所述第一參數(shù)最大的位置為所述第一觸控子區(qū)域和所述第二觸控子區(qū)域的中心點(diǎn);
[0015]基于所述中心點(diǎn)按第一半徑確定第一觸控子區(qū)域;
[0016]基于所述中心點(diǎn)按第二半徑確定第二觸控子區(qū)域;
[0017]其中,所述第一半徑不等于所述第二半徑;所述第一半徑與所述觸控區(qū)域的尺寸具有第一比例關(guān)系;所述第二半徑與所述觸控區(qū)域的尺寸具有第二比例關(guān)系;所述第一比例關(guān)系與所述第二比例關(guān)系均與所述第一參數(shù)正相關(guān)。
[0018]上述方案中,當(dāng)所述第二觸控子區(qū)域的面積大于所述第一觸控子區(qū)域的面積時(shí),所述基于所述第一參數(shù)調(diào)整所述第一觸控區(qū)域的第二參數(shù),包括:
[0019]調(diào)整所述第一觸控子區(qū)域的第二參數(shù)為Ml ;
[0020]調(diào)整所述第二觸控子區(qū)域內(nèi)且所述第一觸控子區(qū)域外的觸控區(qū)域的第二參數(shù)為M2 ;
[0021]其中,Ml不等于M2 ;M1與M2均與所述第一參數(shù)正相關(guān)。
[0022]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種電子設(shè)備,所述電子設(shè)備包括:觸控單元、檢測(cè)單元、分析處理單元和控制單元;其中,
[0023]所述檢測(cè)單元,用于檢測(cè)觸控單元的第一參數(shù);所述第一參數(shù)表征所述觸控單元的形變程度;
[0024]所述分析處理單元,用于基于所述檢測(cè)單元檢測(cè)的所述第一參數(shù)確定所述觸控單元的第一觸控區(qū)域,并基于所述第一參數(shù)調(diào)整所述第一觸控區(qū)域的第二參數(shù);所述第二參數(shù)表征所述觸控單元的驅(qū)動(dòng)參數(shù);
[0025]所述控制單元,用于控制所述觸控單元的所述第一觸控區(qū)域輸出所述第二參數(shù)。
[0026]上述方案中,調(diào)整后的所述第二參數(shù)與所述第一參數(shù)正相關(guān)。
[0027]上述方案中,所述分析處理單元,用于基于所述第一參數(shù)確定所述第一觸控區(qū)域的中心點(diǎn),按所述中心點(diǎn)確定第一觸控子區(qū)域和第二觸控子區(qū)域;所述第一觸控區(qū)域包括第一觸控子區(qū)域和所述第二觸控子區(qū)域;其中,所述第一觸控子區(qū)域和所述第二觸控子區(qū)域的中心點(diǎn)重合,且所述第一觸控子區(qū)域的面積不等于所述第二觸控子區(qū)域的面積。
[0028]上述方案中,所述分析處理單元,用于確定所述第一參數(shù)最大的位置為所述第一觸控子區(qū)域和所述第二觸控子區(qū)域的中心點(diǎn);基于所述中心點(diǎn)按第一半徑確定第一觸控子區(qū)域;基于所述中心點(diǎn)按第二半徑確定第二觸控子區(qū)域;其中,所述第一半徑不等于所述第二半徑;所述第一半徑與所述觸控區(qū)域的尺寸具有第一比例關(guān)系;所述第二半徑與所述觸控區(qū)域的尺寸具有第二比例關(guān)系;所述第一比例關(guān)系與所述第二比例關(guān)系均與所述第一參數(shù)正相關(guān)。
[0029]上述方案中,所述分析處理單元,用于當(dāng)所述第二觸控子區(qū)域的面積大于所述第一觸控子區(qū)域的面積時(shí),調(diào)整所述第一觸控子區(qū)域的第二參數(shù)為Ml ;調(diào)整所述第二觸控子區(qū)域內(nèi)且所述第一觸控子區(qū)域外的觸控區(qū)域的第二參數(shù)為M2 ;其中,Ml不等于M2 ;M1與M2均與所述第一參數(shù)正相關(guān)。
[0030]本發(fā)明實(shí)施例提供的干擾處理方法及電子設(shè)備,檢測(cè)電子設(shè)備的觸控單元的第一參數(shù);所述第一參數(shù)表征所述觸控單元的形變程度;基于所述第一參數(shù)確定所述觸控單元的第一觸控區(qū)域,并基于所述第一參數(shù)調(diào)整所述第一觸控區(qū)域的第二參數(shù);所述第二參數(shù)表征所述觸控單元的驅(qū)動(dòng)參數(shù);控制所述觸控單元的所述第一觸控區(qū)域輸出所述第二參數(shù)。如此,采用本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案,通過對(duì)觸控單元的第一參數(shù)的檢測(cè),從而調(diào)整所述觸控單元的第二參數(shù),使得當(dāng)所述觸控單元的形變程度過大時(shí),增大所述觸控單元的驅(qū)動(dòng)參數(shù),避免了由于觸控單元的形變導(dǎo)致的觸控操作異?;驘o響應(yīng)的問題,提升了用戶的操作體驗(yàn)。
【附圖說明】
[0031]圖1為本發(fā)明實(shí)施例一的干擾處理方法的流程示意圖;
[0032]圖2為本發(fā)明實(shí)施例二的干擾處理方法的流程示意圖;
[0033]圖3為本發(fā)明實(shí)施例三的干擾處理方法的流程示意圖;
[0034]圖4為本發(fā)明實(shí)施例三中的第一觸控區(qū)域的場(chǎng)景示意圖;
[0035]圖5為本發(fā)明實(shí)施例的電子設(shè)備的組成結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0037]實(shí)施例一
[0038]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種干擾處理方法。圖1為本發(fā)明實(shí)施例一的干擾處理方法的流程示意圖;如圖1所示,所述方法包括:
[0039]步驟101:檢測(cè)電子設(shè)備的觸控單元的第一參數(shù);所述第一參數(shù)表征所述觸控單元的形變程度。
[0040]本實(shí)施例所述的干擾處理方法應(yīng)用于電子設(shè)備中,所述電子設(shè)備具有觸控單元,所述觸控單元可以為電容式觸控單元;具體的,所述電子設(shè)備可以是具有觸控功能的手機(jī)、平板電腦、一體機(jī)、桌面電腦等等。則本步驟中,所述檢測(cè)電子設(shè)備的觸控單元的第一參數(shù),包括:所述電子設(shè)備檢測(cè)自身的觸控單元的第一參數(shù)。
[0041]具體的,所述觸控單元(如電容式觸控單元)的最外層為玻璃層,玻璃層內(nèi)涂有導(dǎo)電涂層(ITO),則形成導(dǎo)電玻璃層;導(dǎo)電玻璃層的四個(gè)角引出四個(gè)電極,導(dǎo)電玻璃在所述四個(gè)電極提供電壓下形成均勻電場(chǎng);導(dǎo)電玻璃層下設(shè)置有陣列型的感應(yīng)電容;由于人體是帶電導(dǎo)體,在用戶手指接觸到觸控單元表面時(shí),手指從接觸點(diǎn)吸走部分電流,從而改變所述接觸點(diǎn)對(duì)應(yīng)的感應(yīng)電容的電容大??;控制器基于感應(yīng)電容的電容大小的改變確定接觸點(diǎn)的位置坐標(biāo)。由于玻璃層的表面積較大且自身厚度較薄,當(dāng)所述觸控單元(具體為玻璃層)處于非豎直放置狀態(tài)(如平放)時(shí),玻璃層會(huì)收到自身重力的影響發(fā)生形變,基于此,本步驟中檢測(cè)所述觸控單元的第一參數(shù),也即檢測(cè)所述玻璃層的第一參數(shù)。
[0042]其中,所述觸控單元設(shè)置在所述電子設(shè)備的液晶顯示面板電路的上方,所述觸控單元和所述液晶顯示面板電路之間具有一層空氣層,即所述觸控單元和所述液晶顯示面板電路之間具有一定距離;所述空氣層具體可以為1.4毫米(mm)。本實(shí)施例中,所述第一參數(shù)表征所述觸控單元的形變程度,所述第一參數(shù)可以通過所述觸控單元與所述液晶顯示面板電路之間的距離表征。具體的,作為一種實(shí)施方式,所述第一參數(shù)可通過距離傳感器檢測(cè)獲得;如檢測(cè)所述觸控單元與所述液晶顯示面板電路之間的距離與標(biāo)準(zhǔn)距離的差值確定所述第一參數(shù)。作為另一種實(shí)施方式,可基于所述觸控單元(具體為玻璃層)的自身重量,結(jié)合所述觸控單元與豎直方向的夾角確
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