耐腐蝕性評(píng)估儀的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及耐腐蝕性評(píng)估儀，其適于在加速比率下用于經(jīng)涂覆的金屬基底例如汽車(chē)車(chē)身的腐蝕測(cè)試。耐腐蝕性評(píng)估儀設(shè)有包含電解質(zhì)的腔室，使涂覆有待測(cè)試的保護(hù)性涂層的陽(yáng)極和陰極暴露于所述電解質(zhì)。這些涂層設(shè)有預(yù)定的以及標(biāo)準(zhǔn)化的缺陷例如微孔，從而以可預(yù)測(cè)和可重復(fù)的方式加速下方金屬基底的腐蝕。經(jīng)涂覆的陰極/陽(yáng)極對(duì)經(jīng)歷啟動(dòng)期，隨后在被恢復(fù)期間隔的預(yù)設(shè)時(shí)段內(nèi)經(jīng)受一系列調(diào)制為階梯方式的預(yù)設(shè)直流電壓。然后使用收集的阻抗數(shù)據(jù)以獲得施用于陰極/陽(yáng)極對(duì)之上的涂層的耐腐蝕性能。前述評(píng)估儀基本上將測(cè)試腐蝕所需的時(shí)間從多天(多于40天)減少至幾天(約兩天)。
【專利說(shuō)明】耐腐蝕性評(píng)估儀
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及適于評(píng)估多層涂覆和單層涂覆的金屬基底的耐腐蝕性的耐腐蝕性評(píng)估儀，并且更具體地涉及在加速比率下評(píng)估多層涂覆和單層涂覆的金屬基底耐腐蝕性的耐腐蝕性評(píng)估儀以及在其中使用的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，不存在短期(小于2天)的測(cè)試方法來(lái)評(píng)估由來(lái)自涂料組合物的保護(hù)性涂層提供的長(zhǎng)期防腐蝕，例如施用于金屬基底例如機(jī)動(dòng)車(chē)車(chē)身之上的機(jī)動(dòng)車(chē)OEM或機(jī)動(dòng)車(chē)修補(bǔ)涂料組合物。目前的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法主要依賴于環(huán)境艙暴露，隨后是對(duì)具有保護(hù)性涂層的金屬進(jìn)行目視和機(jī)械測(cè)試。這種測(cè)試時(shí)間長(zhǎng)(至多40天或更長(zhǎng)暴露時(shí)間)，具有主觀性，高度依賴于暴露幾何形狀，并且依賴于進(jìn)行評(píng)估的人員。因此，這些方法不易再現(xiàn)。耐腐蝕性數(shù)據(jù)為定性的，因此可接受的涂層的相對(duì)性能不能被容易確定。任何新的測(cè)試方法必須和傳統(tǒng)的、可接受的標(biāo)準(zhǔn)環(huán)境艙測(cè)試方法關(guān)聯(lián)良好，必須可再現(xiàn)，并且必須提供未知的直接金屬(DTM)的耐腐蝕涂層的定性和定量的評(píng)級(jí)。
[0003]已經(jīng)報(bào)告了實(shí)驗(yàn)性的減少測(cè)試時(shí)間的腐蝕測(cè)試方法。這些方法主要利用電化學(xué)阻抗譜(EIS)或交流阻抗技術(shù)。由于這些基于交流阻抗的方法通常僅提供對(duì)檢測(cè)暴露時(shí)間的早期階段的腐蝕更敏感的工具，腐蝕過(guò)程本身并未被這些方法加速。因此，這些方法在取得有意義的數(shù)據(jù)之前仍然需要相對(duì)長(zhǎng)的暴露時(shí)間。獲得有意義腐蝕數(shù)據(jù)所需的時(shí)間長(zhǎng)度接近于標(biāo)準(zhǔn)方法的時(shí)間長(zhǎng)度。更重要地，通過(guò)這些方法獲得的耐腐蝕性數(shù)據(jù)，尤其是在初始暴露時(shí)間，主要由涂層的本征缺陷來(lái)指明。一般在涂覆樣品制備之前產(chǎn)生的這些本征缺陷不一定與涂層的實(shí)際性能相關(guān)。如果數(shù)據(jù)沒(méi)有被正確分析，可能得到誤導(dǎo)性的信息。因此，標(biāo)準(zhǔn)的常規(guī)方法仍然受青睞。因此，仍存在對(duì)以下裝置和方法的需要，所述裝置和方法不僅加速保護(hù)性涂覆的金屬基底的腐蝕，而且模擬通常在工作環(huán)境中可見(jiàn)的腐蝕，例如機(jī)動(dòng)車(chē)車(chē)身使用期間經(jīng)歷的那些。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明涉及耐腐蝕性評(píng)估儀，其包括:
[0005]⑴在其中保持電解質(zhì)的腔室；
[0006](ii)位于所述腔室上以用于測(cè)試施用于陽(yáng)極表面之上的陽(yáng)極涂層的耐腐蝕性的陽(yáng)極夾持器，使得當(dāng)所述陽(yáng)極密封地置于所述陽(yáng)極夾持器中時(shí)，所述陽(yáng)極涂層的一部分暴露于所述電解質(zhì)，所述陽(yáng)極涂層的所述部分在其上具有陽(yáng)極缺陷；
[0007](iii)位于所述腔室上以用于測(cè)試施用于陰極表面之上的陰極涂層的耐腐蝕性的陰極夾持器，使得當(dāng)所述陰極密封地置于所述陰極夾持器中時(shí)，所述陰極涂層的一部分暴露于所述電解質(zhì)，所述陰極涂層的所述部分在其上具有陰極缺陷；
[0008](iii)具有直流輸出引線的可變功率直流發(fā)電機(jī)，所述引線連接至所述陰極和所述陽(yáng)極以用于跨所述陰極、所述電解質(zhì)和所述陽(yáng)極施加期望的直流電壓持續(xù)期望的時(shí)段；[0009](iv)用于測(cè)量跨所述陰極、所述電解質(zhì)和所述陽(yáng)極的直流電壓的直流測(cè)量裝置；
[0010](V)具有交流輸出引線的可變功率交流發(fā)電機(jī)，所述引線連接至所述陰極和陽(yáng)極以用于跨所述陰極、所述電解質(zhì)和所述陽(yáng)極以可變頻率施加期望的交流電壓持續(xù)期望的時(shí)段；
[0011](vi)用于測(cè)量跨所述陰極、所述電解質(zhì)和所述陽(yáng)極的阻抗的阻抗測(cè)量裝置；
[0012](vii)位于計(jì)算機(jī)內(nèi)的計(jì)算機(jī)可用存儲(chǔ)介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)與所述可變功率直流發(fā)電機(jī)、所述直流測(cè)量裝置、所述可變功率交流發(fā)電機(jī)以及所述阻抗測(cè)量裝置連通，其中計(jì)算機(jī)可讀程序代碼工具駐留在所述計(jì)算機(jī)可用存儲(chǔ)介質(zhì)內(nèi)，所述計(jì)算機(jī)可讀程序代碼工具包括:
[0013](a)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)使所述陽(yáng)極涂層的所述部分和所述陰極涂層的所述部分經(jīng)歷啟動(dòng)期；
[0014](b)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)操控所述阻抗測(cè)量裝置以預(yù)設(shè)間隔測(cè)量所述啟動(dòng)期期間的阻抗A，以產(chǎn)生所述阻抗A的nl組，所述阻抗在預(yù)設(shè)的100000Hz至10_6Hz的交流電頻率下測(cè)量，所述交流電由所述可變功率交流發(fā)電機(jī)提供并具有IOmV至50mV的振幅；
[0015](c)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)對(duì)于所述nl組中的每個(gè)所述阻抗A生成A阻抗奈奎斯特圖；
[0016](d)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定啟動(dòng)溶液電阻staIUnl):
[0017]1.測(cè)量所述A阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述A阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述A阻抗奈奎斯特圖中指向高啟動(dòng)溶液頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗A在所述高啟動(dòng)溶液頻率下的實(shí)部；以及
[0018]2.對(duì)于所述nl組中的每個(gè)所述阻抗A，重復(fù)所述步驟(d) (I)；
[0019](e)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確
定啟動(dòng)電阻(staRst,nl)；
[0020]1.測(cè)量所述A阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述A阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述A阻抗奈奎斯特圖中指向低啟動(dòng)電阻頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗A在所述低啟動(dòng)電阻頻率下的實(shí)部；以及
[0021]2.對(duì)于所述nl組中的每個(gè)所述阻抗A，重復(fù)所述步驟(e) (I)；
[0022](f)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)操控所述可變功率直流發(fā)電機(jī)以階梯方式施加預(yù)設(shè)直流電壓Vl持續(xù)預(yù)設(shè)時(shí)段Tl，其中與所述計(jì)算機(jī)連通并連接至所述陰極和所述陽(yáng)極的所述直流測(cè)量裝置用于測(cè)量所述預(yù)設(shè)直流電壓，并且其中所述預(yù)設(shè)直流電壓Vl的范圍為0.1毫伏至10伏，并且所述預(yù)設(shè)時(shí)段Tl的范圍為半小時(shí)至100小時(shí)；
[0023](g)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)操控所述阻抗測(cè)量裝置在每個(gè)所述預(yù)設(shè)時(shí)段的終點(diǎn)，在所述可變功率交流發(fā)電機(jī)提供的交流電的所述預(yù)設(shè)頻率下測(cè)量阻抗B，以產(chǎn)生所述阻抗B的n2組；[0024](h)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)對(duì)于所述n2組中的每個(gè)所述阻抗B生成B阻抗奈奎斯特圖；
[0025](i)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定加速溶液電阻(stpU):
[0026]1.測(cè)量所述B阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述B阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述B阻抗奈奎斯特圖中指向高加速溶液頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗B在所述高加速溶液頻率下的實(shí)部；
[0027]2.對(duì)于所述n2組中的每個(gè)所述阻抗B，重復(fù)所述步驟(i) (I)；
[0028](j)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定加速電阻(stpRstp.n2):
[0029]1.測(cè)量所述B阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述B阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述B阻抗奈奎斯特圖中指向低加速電阻頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗B在所述低加速電阻頻率下的實(shí)部；以及
[0030]2.對(duì)于所述n2組中的每個(gè)所述阻抗B，重復(fù)所述步驟(j) (I)；
[0031](k)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)使所述陽(yáng)極涂層的所述部分和所述陰極涂層的所述部分在各個(gè)所述預(yù)設(shè)時(shí)段Tl之間經(jīng)歷預(yù)設(shè)恢復(fù)期T2 ；
[0032](I)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)操控所述阻抗測(cè)量裝置在每個(gè)所述預(yù)設(shè)恢復(fù)期T2的終點(diǎn)，在所述可變功率交流發(fā)電機(jī)提供的交流電的所述預(yù)設(shè)頻率下測(cè)量阻抗C，以產(chǎn)生所述阻抗C的n3組；
[0033](m)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)對(duì)于所述n3組中的每個(gè)所述阻抗C生成C阻抗奈奎斯特圖；
[0034](η)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定恢復(fù)溶液電阻(KiS()1.n3):
[0035]1.測(cè)量所述C阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述C阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述C阻抗奈奎斯特圖中指向高恢復(fù)溶液頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗C在所述高恢復(fù)溶液頻率下的實(shí)部；
[0036]2.對(duì)于所述n3組中的每個(gè)所述阻抗C，重復(fù)所述步驟(η) (I)；
[0037](ο)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定恢復(fù)電阻(EeCREec.n3)
[0038]1.測(cè)量所述C阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述C阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述C阻抗奈奎斯特圖中指向低恢復(fù)電阻頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗C在所述低恢復(fù)電阻頻率下的實(shí)部；以及
[0039]2.對(duì)于所述n3組中的每個(gè)所述阻抗C，重復(fù)所述步驟(O) (I)；
[0040](P)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)使用以下等式計(jì)算所述陽(yáng)極和所述陰極對(duì)的耐腐蝕性能(Rpeff):
[0041]
【權(quán)利要求】
1.耐腐蝕性評(píng)估儀，包括: (i)在其中保持電解質(zhì)的腔室； (?)陽(yáng)極夾持器，所述陽(yáng)極夾持器位于所述腔室上以用于測(cè)試施用于陽(yáng)極表面之上的陽(yáng)極涂層的耐腐蝕性，使得當(dāng)所述陽(yáng)極密封地置于所述陽(yáng)極夾持器中時(shí)，所述陽(yáng)極涂層的一部分暴露于所述電解質(zhì)，所述陽(yáng)極涂層的所述部分在其上具有陽(yáng)極缺陷； (iii)陰極夾持器，所述陰極夾持器位于所述腔室上以用于測(cè)試施用于陰極表面之上的陰極涂層的耐腐蝕性，使得當(dāng)所述陰極密封地置于所述陰極夾持器中時(shí)，所述陰極涂層的一部分暴露于所述電解質(zhì)，所述陰極涂層的所述部分在其上具有陰極缺陷； (iii)具有直流輸出引線的可變功率直流發(fā)電機(jī)，所述引線連接至所述陰極和所述陽(yáng)極以用于跨所述陰極、所述電解質(zhì)和所述陽(yáng)極施加期望的直流電壓持續(xù)期望的時(shí)段； (iv)用于測(cè)量跨所述陰極、所述電解質(zhì)和所述陽(yáng)極的直流電壓的直流測(cè)量裝置； (v)具有交流輸出引線的可變功率交流發(fā)電機(jī)，所述引線連接至所述陰極和陽(yáng)極以用于跨所述陰極、所述電解質(zhì)和所述陽(yáng)極以可變頻率施加期望的交流電壓持續(xù)期望的時(shí)段； (vi)用于測(cè)量跨所述陰極、所述電解質(zhì)和所述陽(yáng)極的阻抗的阻抗測(cè)量裝置； (vii)位于計(jì)算機(jī)內(nèi)的計(jì)算機(jī)可用存儲(chǔ)介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)與所述可變功率直流發(fā)電機(jī)、所述直流測(cè)量裝置、所述可變功率交流發(fā)電機(jī)以及所述阻抗測(cè)量裝置連通，其中計(jì)算機(jī)可讀程序代碼工具駐留在所述計(jì)算機(jī)可用存儲(chǔ)介質(zhì)內(nèi)，所述計(jì)算機(jī)可讀程序代碼工具包括: (a)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)使所述陽(yáng)極涂層的所述部分和所述陰極涂層的所述部分經(jīng)歷啟動(dòng)期；` (b)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)操控所述阻抗測(cè)量裝置以預(yù)設(shè)間隔測(cè)量所述啟動(dòng)期期間的阻抗A，以產(chǎn)生所述阻抗A的nl組，所述阻抗在預(yù)設(shè)的100000Hz至10_6Hz的交流電頻率下測(cè)量，所述交流電由所述可變功率交流發(fā)電機(jī)提供并具有IOmV至50mV的振幅； (c)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)對(duì)于所述nl組中的每個(gè)所述阻抗A生成A阻抗奈奎斯特圖； (d)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定啟動(dòng)溶液電阻(staRsol.nl): .1.測(cè)量所述A阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述A阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述A阻抗奈奎斯特圖中指向高啟動(dòng)溶液頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗A在所述高啟動(dòng)溶液頻率下的實(shí)部；以及.2.對(duì)于所述nl組中的每個(gè)所述阻抗A，重復(fù)所述步驟(d)(I)； (e)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定啟動(dòng)電阻(staRsta.nl): 1.測(cè)量所述A阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述A阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述A阻抗奈奎斯特圖中指向低啟動(dòng)電阻頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗A在所述低啟動(dòng)電阻頻率下的實(shí)部；以及 2.對(duì)于所述nl組中的每個(gè)所述阻抗A，重復(fù)所述步驟(e)(I)； (f)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)操控所述可變功率直流發(fā)電機(jī)以階梯方式施加預(yù)設(shè)直流電壓Vl持續(xù)預(yù)設(shè)時(shí)段Tl，其中與所述計(jì)算機(jī)連通并連接至所述陰極和所述陽(yáng)極的所述直流測(cè)量裝置用于測(cè)量所述預(yù)設(shè)直流電壓，并且其中所述預(yù)設(shè)直流電壓Vl的范圍為0.1毫伏至10伏，并且所述預(yù)設(shè)時(shí)段Tl的范圍為半小時(shí)至4小時(shí)； (g)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)操控所述阻抗測(cè)量裝置在每個(gè)所述預(yù)設(shè)時(shí)段的終點(diǎn)，在所述可變功率交流發(fā)電機(jī)提供的交流電的所述預(yù)設(shè)頻率下測(cè)量阻抗B，以產(chǎn)生所述阻抗B的n2組； (h)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)對(duì)于所述n2組中的每個(gè)所述阻抗B生成B阻抗奈奎斯特圖； (i)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定加速溶液電阻(stPRS()1.J:. 1.測(cè)量所述B阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述B阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述B阻抗奈奎斯特圖中指向高加速溶液頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗B在所述高加速溶液頻率下的實(shí)部；.2.對(duì)于所述n2組中的每個(gè)所述阻抗B，重復(fù)所述步驟(i)(l)； (i)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定加速電阻(stpRstp.n2): 1.測(cè)量所述B阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述B阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述B阻抗奈奎斯特圖中指向低加速電阻頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗B在所述低加速電阻頻率下的實(shí)部；以及 .2.對(duì)于所述n2組中的每個(gè)所述阻抗B，重復(fù)所述步驟(j)(l)； (k)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)使所述陽(yáng)極涂層的所述部分和所述陰極涂層的所述部分在各個(gè)所述預(yù)設(shè)時(shí)段Tl之間經(jīng)歷預(yù)設(shè)恢復(fù)期T2 ； (I)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)操控所述阻抗測(cè)量裝置在每個(gè)所述預(yù)設(shè)恢復(fù)期T2的終點(diǎn)，在所述可變功率交流發(fā)電機(jī)提供的交流電的所述預(yù)設(shè)頻率下測(cè)量阻抗C，以產(chǎn)生所述阻抗C的n3組； (m)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)對(duì)于所述n3組中的每個(gè)所述阻抗C生成C阻抗奈奎斯特圖； (η)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定恢復(fù)溶液電阻(EecRsol.n3):. 1.測(cè)量所述C阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述C阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述C阻抗奈奎斯特圖中指向高恢復(fù)溶液頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗C在所述高恢復(fù)溶液頻率下的實(shí)部； . 2.對(duì)于所述n3組中的每個(gè)所述阻抗C，重復(fù)所述步驟(η)(I)； (ο)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)以下步驟確定恢復(fù)電阻(EecREec.?3) .1.測(cè)量所述C阻抗奈奎斯特圖中X軸上的零點(diǎn)與所述C阻抗奈奎斯特圖中所述X軸上的某點(diǎn)之間的距離，在該點(diǎn)處所述C阻抗奈奎斯特圖中指向低恢復(fù)電阻頻率的阻抗曲線或外推阻抗曲線與所述X軸相交，以獲得所述阻抗C在所述低恢復(fù)電阻頻率下的實(shí)部；以及 . 2.對(duì)于所述n3組中的每個(gè)所述阻抗C，重復(fù)所述步驟(ο)(I)；(P)用于配置計(jì)算機(jī)可讀程序代碼裝置的工具，以使所述計(jì)算機(jī)通過(guò)使用以下等式計(jì)算所述陽(yáng)極和所述陰極對(duì)的耐腐蝕性能(Rp?f):
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述陰極和所述陽(yáng)極由鋼制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述陽(yáng)極涂層和所述陰極涂層得自多層涂料組合物，所述多層涂料組合物包含機(jī)動(dòng)車(chē)OEM漆、機(jī)動(dòng)車(chē)修補(bǔ)漆、船舶漆、飛機(jī)漆、建筑漆、工業(yè)漆、橡膠化涂層、聚四氟乙烯涂層、或富鋅底漆。
4.
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述腔室被熱夾套包圍以將所述電解質(zhì)的溫度保持在0.5°C至99.5°C的期望溫度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中兩個(gè)或更多個(gè)所述腔室被熱夾套包圍以將每個(gè)所述腔室中的所述電解質(zhì)的溫度保持在0.5°C至99.5°C的期望溫度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述陽(yáng)極涂層與所述陰極涂層相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述陽(yáng)極缺陷與所述陰極缺陷相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述陽(yáng)極缺陷包括設(shè)置在所述涂層上的多個(gè)圓形開(kāi)口，所述開(kāi)口使所述陽(yáng)極的所述下方表面暴露于所述電解質(zhì)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述陰極缺陷包括設(shè)置在所述涂層上的多個(gè)圓形開(kāi)口，所述開(kāi)口使所述陰極的所述下方表面暴露于所述電解質(zhì)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述陰極或陽(yáng)極缺陷包括圓形開(kāi)口，所述圓形開(kāi)口各自具有在5微米至5毫米范圍內(nèi)的直徑，各個(gè)所述圓形開(kāi)口均勻地彼此分隔開(kāi)所述圓形開(kāi)口直徑的10至2000倍。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述陰極或陽(yáng)極缺陷包括在所述陰極或陽(yáng)極的每平方厘米上I至100個(gè)所述圓形開(kāi)口，所述圓形開(kāi)口均勻地彼此分隔開(kāi)，并且其中所述圓形開(kāi)口具有在5微米至5毫米范圍內(nèi)的直徑。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性評(píng)估儀,其中所述電解質(zhì)包含: (a)以100重量份的水溶液計(jì)包含3重量份濃度的氯化鈉的水溶液， (b)模擬酸雨的水溶液，或者 (c)腐蝕性化學(xué)溶液。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述陽(yáng)極夾持器和所述陰極夾持器各自形成倒置的‘Y’支架，以允許使用期間生成的任何氣體或安裝期間附著在涂覆的試樣片表面上的氣泡容易地逸出所述腔室。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述陽(yáng)極夾持器和所述陰極夾持器定位于所述腔室相對(duì)的兩端，以允許使用期間生成的任何氣體容易地逸出所述腔室。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述啟動(dòng)期的范圍為半小時(shí)至1000小時(shí)。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性評(píng)估儀，其中所述預(yù)設(shè)間隔的范圍為半小時(shí)至10小時(shí)。`
【文檔編號(hào)】G01N27/26GK103518128SQ201180068137
【公開(kāi)日】2014年1月15日 申請(qǐng)日期:2011年12月21日 優(yōu)先權(quán)日:2010年12月21日
【發(fā)明者】S.H.張, L.F.佩洛斯, R.C.納哈斯 申請(qǐng)人:涂層國(guó)外知識(shí)產(chǎn)權(quán)有限公司