用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，克服了現(xiàn)有磨盤(pán)食料分布不均勻，導(dǎo)流速度慢，出料困難，容易形成進(jìn)料堵塞，研磨效率低的問(wèn)題，特征是在靜磨盤(pán)的內(nèi)凹錐面上設(shè)有對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒，在動(dòng)磨盤(pán)的內(nèi)凹平面上設(shè)有導(dǎo)料槽和梯形齒，動(dòng)磨盤(pán)由眾多獨(dú)立的且相互交錯(cuò)的梯形齒形成一個(gè)研磨齒陣，靜磨盤(pán)由多個(gè)獨(dú)立的對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒形成內(nèi)凹凹錐形研磨面，有益效果是，食料在動(dòng)、靜磨盤(pán)之間的內(nèi)凹錐形研磨腔體中與動(dòng)、靜磨盤(pán)動(dòng)態(tài)碰撞，在擠壓、破碎、剪切和研磨的協(xié)同作用下加速了食料的流動(dòng)速度，再經(jīng)動(dòng)、靜磨盤(pán)2個(gè)周邊研磨平面的二次研磨，經(jīng)研磨篩分間隙過(guò)濾流出，提高了研磨效率和研磨效果，且磨盤(pán)強(qiáng)度高、耐磨性能好，使用壽命長(zhǎng)，適用于工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于食品加工機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)。
【背景技術(shù)】
[0002](I)傳統(tǒng)研磨食品的工具是石磨，由兩塊尺寸相同的短圓柱形石塊和磨盤(pán)構(gòu)成，磨盤(pán)上摞著磨的下扇(靜磨盤(pán))和上扇(動(dòng)磨盤(pán))，兩扇磨的接觸面上都鏨有排列整齊的磨齒，用以磨碎食料。這種采用上磨盤(pán)為動(dòng)磨盤(pán)、下磨盤(pán)為靜磨盤(pán)的研磨結(jié)構(gòu)到現(xiàn)在依然也在使用。但是，這種傳統(tǒng)石磨是在動(dòng)磨盤(pán)上設(shè)置偏心的進(jìn)料口，食料分布不均勻，且磨盤(pán)中心存在間斷空磨的情況，研磨效率低。
[0003](2)后來(lái)在市場(chǎng)上出現(xiàn)的家用豆?jié){機(jī)、榨汁機(jī)、料理機(jī)等廚房小家電，都是采用電機(jī)高速旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)刀具高速旋轉(zhuǎn)對(duì)食料進(jìn)行粉碎乳化。由于家用豆?jié){機(jī)等廚房小家電容量比較小，旋轉(zhuǎn)飛刀對(duì)食料的粉碎乳化較好。但是，在粉碎乳化過(guò)程中，刀具對(duì)食料的高速切削與磨擦碰撞產(chǎn)生的熱量與沖擊力，破壞了食料的營(yíng)養(yǎng)成份。
[0004](3)在一些食品加工企業(yè)則采用砂輪電磨盤(pán)磨漿機(jī)進(jìn)行食品研磨加工，這種方式現(xiàn)在最為普及，如廣泛使用的磨豆?jié){專(zhuān)用棕剛玉砂輪或綠碳化硅砂輪。這種砂輪是在磨料中加入結(jié)合劑，經(jīng)壓坯、干燥和焙燒而制成的多孔體，按照其形狀可分為平行砂輪、斜邊砂輪、筒形砂輪、杯形砂輪、蝶形砂輪。這種砂輪磨盤(pán)制作成本低，但是，這種砂輪耐磨性能差，使用壽命短，滿(mǎn)足不了食品超細(xì)加工的需要，在研磨加工細(xì)度要求大于100目的情況下，這種砂輪磨盤(pán)嚴(yán)重磨損，會(huì)產(chǎn)生微量陶瓷粉末融進(jìn)食料中污染食品，影響人體健康，因此，衛(wèi)生安全問(wèn)題成為這種砂輪磨盤(pán)的重大缺陷。
[0005](4)申請(qǐng)?zhí)枮?01510369220.6(分案原申請(qǐng)的申請(qǐng)?zhí)枮?01210238060.8)的發(fā)明涉及一種能夠做出口感好的豆?jié){的全自動(dòng)研磨機(jī)。該發(fā)明不再采用傳統(tǒng)刀片粉碎食料，而是將研磨擠壓技術(shù)應(yīng)用到食料研磨中。但是，分析可知，該發(fā)明盡管設(shè)計(jì)了兩種上研磨盤(pán)，可以分別與三種下研磨盤(pán)搭配安裝使用，但該發(fā)明公開(kāi)的彼此研磨的上、下研磨盤(pán)的材質(zhì)采用金屬類(lèi)，如SUS304(304不銹鋼)，也可以是巖石類(lèi)，如花崗巖石，換句話說(shuō)，就是金屬磨或石磨。該發(fā)明所述上、下研磨盤(pán)的彼此相對(duì)的端面上分布有槽，且槽形相同、角度相同，與傳統(tǒng)研磨食品的石磨的材質(zhì)與結(jié)構(gòu)沒(méi)有什么區(qū)別，且用于安裝在全自動(dòng)研磨機(jī)的不銹鋼雙層杯體中。上、下研磨盤(pán)上的槽的深度僅為0.2?3mm，因此，該發(fā)明公開(kāi)的研磨盤(pán)加工能力低，且工作效率低。
[0006](5)申請(qǐng)?zhí)枮?01420872957.0的實(shí)用新型公開(kāi)了一種磨盤(pán)組件，包括下磨盤(pán)和上磨盤(pán)，上磨盤(pán)的下表面與下磨盤(pán)的上表面上下間隔開(kāi)以限定出磨料的間隙，構(gòu)成磨盤(pán)的磨紋設(shè)計(jì)，上磨盤(pán)上具有至少一個(gè)進(jìn)料口，可以對(duì)大米、小麥、豆類(lèi)等雜糧谷物進(jìn)行研磨，上磨盤(pán)和下磨盤(pán)均采用不銹鋼精密鑄造，或采用納米陶瓷材料壓制燒結(jié)而成。該發(fā)明提供的研磨盤(pán)，只是對(duì)傳統(tǒng)磨盤(pán)在磨紋設(shè)計(jì)上有所改進(jìn)，但是上磨盤(pán)和下磨盤(pán)均屬于平面磨盤(pán)，上磨盤(pán)和下磨盤(pán)之間的磨料間隙的高度僅為0.2_?1.0mm，容料空間小，且進(jìn)料口多，空磨面積大，按其說(shuō)明書(shū)說(shuō)明，試驗(yàn)驗(yàn)證，該實(shí)用新型研磨后有80%的米漿可以通過(guò)60目的網(wǎng)篩，可見(jiàn)其加工效率低，且加工效果差，滿(mǎn)足不了食品超細(xì)加工的需要。
[0007](6)申請(qǐng)?zhí)枮?01120194852.0的實(shí)用新型公開(kāi)了一種斜齒磨盤(pán)式細(xì)均化器，它采用高速多齒剪切為主、研磨為輔的粉碎方法，打破了傳統(tǒng)的純研磨方式，增加了剪切方式，它所公開(kāi)的磨盤(pán)組包括動(dòng)盤(pán)和定盤(pán)，但該實(shí)用新型實(shí)際公開(kāi)的動(dòng)盤(pán)與定盤(pán)僅是一種齒形相對(duì)，互相嚙合的磨盤(pán)，適用于化纖行業(yè)粘膠原液過(guò)濾工序，并不適用于食品的研磨加工。
[0008](7)申請(qǐng)?zhí)枮?1218472.1的實(shí)用新型公開(kāi)了一種陶瓷磨片，其上磨片中心有圓孔，其底面四周有平面圓環(huán)，在該平面圓環(huán)與中心圓孔之間為內(nèi)凹錐面，在該內(nèi)凹錐面上有齒狀和/或網(wǎng)狀凸凹紋，其下磨片中心有安裝磨機(jī)空心套的圓孔，其頂面周邊有平面圓環(huán)，該平面與中心圓孔之間為平面或內(nèi)凹錐面，該平面/內(nèi)凹錐面上有若干等分圓周的同向的偏心螺旋弧槽。但是，進(jìn)一步分析可知，該實(shí)用新型上磨片為波浪形齒，每一波浪形齒由一上升坡度較緩的寬斜面和一下降坡度較陡的窄斜面組成，且該窄斜面連接另一波浪形的上升寬斜面，實(shí)際上形成一個(gè)連續(xù)不斷的之間無(wú)凹槽的內(nèi)凹錐面，這樣使波浪形齒的齒高很短，而且，上磨片波浪形齒數(shù)也較少，以磨片外徑為130mm為例，上磨片波浪形齒僅為10個(gè)，因此，齒的破碎和研磨能力很差，而下磨片的內(nèi)凹錐面上若干等分圓周的同向偏心螺旋弧槽，向外螺旋延伸，越靠外圓其槽寬越窄且深度越淺，至靠近周邊平面圓環(huán)處深度變?yōu)榱悖@種結(jié)構(gòu)使得導(dǎo)流的角度越來(lái)越小，物料阻力大，導(dǎo)流速度慢，且下磨片上除了若干等分圓周的同向偏心螺旋弧槽外，僅在平面/內(nèi)凹平錐面上布滿(mǎn)直線或圓線凸凹紋，相當(dāng)于僅有一個(gè)麻面而沒(méi)有齒，這樣與上磨盤(pán)配合后，沒(méi)有對(duì)物料的擠壓和剪切作用，也減弱了齒的破碎和研磨的能力，本
【申請(qǐng)人】在進(jìn)行試驗(yàn)過(guò)程中得知，類(lèi)似于該實(shí)用新型結(jié)構(gòu)的磨盤(pán)，出料困難，容易形成進(jìn)料堵塞，研磨效率低。而且，該實(shí)用新型說(shuō)明書(shū)還指出，上、下磨片的材質(zhì)可以為普通陶瓷，也可以為特種耐磨陶瓷。據(jù)此可知，該實(shí)用新型僅僅是一個(gè)技術(shù)構(gòu)思，并未進(jìn)行實(shí)際試驗(yàn)驗(yàn)證。如果是普通陶瓷磨片，將存在強(qiáng)度低和耐磨性差的問(wèn)題，如果是特種耐磨陶瓷磨片，將存在成本高，單位體積重量大的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本實(shí)用新型所要解決的問(wèn)題是，克服現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，提供一種用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，并解決如下技術(shù)問(wèn)題:
[0010](I)解決磨盤(pán)適度強(qiáng)度及適度耐磨性的技術(shù)問(wèn)題，既利用陶瓷具有耐磨性的優(yōu)點(diǎn)，又克服陶瓷脆性大，耐沖擊能力差的問(wèn)題，以滿(mǎn)足大于100目細(xì)度要求的情況下超細(xì)加工時(shí)食品的純潔度，同時(shí)又能降低磨盤(pán)的制造成本，減少磨盤(pán)的單位體積重量，從而使其在受到高速旋轉(zhuǎn)的離心力的作用時(shí)，減少對(duì)帶動(dòng)其轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)軸產(chǎn)生的彎矩和轉(zhuǎn)矩，提高產(chǎn)品的使用壽命。
[0011 ] (2)優(yōu)化靜磨盤(pán)和動(dòng)磨盤(pán)的齒形設(shè)計(jì)，以及動(dòng)磨盤(pán)的導(dǎo)流槽設(shè)計(jì)，提供一種具有擠壓、剪切、破碎和研磨協(xié)同作用的靜磨盤(pán)和動(dòng)磨盤(pán)結(jié)構(gòu)，同時(shí)提高食料的出料速度，以提高對(duì)食品研磨的加工效率和加工能力，滿(mǎn)足連續(xù)工業(yè)化生產(chǎn)的需求。
[0012](3)為解決免浸泡干黃豆研磨豆?jié){與制作豆腐的效率和質(zhì)量以及連續(xù)工業(yè)化生產(chǎn)提供一種適用的陶瓷磨盤(pán)。
[0013]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案包括靜磨盤(pán)，所述靜磨盤(pán)的基體為圓柱體，在靜磨盤(pán)的中心設(shè)有進(jìn)料孔，靜磨盤(pán)的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有靜磨盤(pán)周邊研磨平面，靜磨盤(pán)周邊研磨平面內(nèi)徑與進(jìn)料孔之間為內(nèi)凹錐面，在內(nèi)凹錐面上設(shè)有斜齒，每個(gè)斜齒上還對(duì)稱(chēng)設(shè)有L形凹槽，使斜齒形成對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒。
[0014]所述在內(nèi)凹錐面上設(shè)有的斜齒均布分成6?8組相同區(qū)域，每組區(qū)域由互相平行的5?9個(gè)斜齒組成，每一組各個(gè)斜齒與中心線垂直線的夾角Θ為25°?40°，相鄰兩組之間的夾角δ為35°?55°。
[0015]所述靜磨盤(pán)的厚度為15mm?35mm，外徑為60mm?500mm，進(jìn)料孔的直徑為20?80mm，所述靜磨盤(pán)周邊研磨平面的寬度為3?10mm，斜齒的寬度為5?10mm，高度為3.5?1 Omnin
[0016]所述靜磨盤(pán)的外徑為130mm，所述斜齒均布分成7組相同區(qū)域，每組區(qū)域由互相平行的5個(gè)斜齒組成，共有35個(gè)斜齒和70個(gè)L形凹槽，每一組各個(gè)斜齒與中心線垂直線的夾角Θ為30°，相鄰兩組之間的夾角δ為40°。
[0017]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案包括動(dòng)磨盤(pán)，所述動(dòng)磨盤(pán)的基體為圓柱體，在動(dòng)磨盤(pán)中心設(shè)有電機(jī)軸安裝孔，動(dòng)磨盤(pán)的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面，所述動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面與安裝孔之間為內(nèi)凹平面，在內(nèi)凹平面上設(shè)有導(dǎo)料槽和梯形齒。
[0018]所述在內(nèi)凹平面上設(shè)有的導(dǎo)料槽和梯形齒均布分成6?8組相同區(qū)域，所述導(dǎo)料槽從固定螺母安裝平面處起至動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面處均為圓弧形，所述梯形齒也呈圓弧形布置，且與同區(qū)域?qū)Я喜鄣膱A弧線平行，每一區(qū)域在同心圓由小到大的不同直徑上，布置4層共10個(gè)相互交錯(cuò)的梯形齒。
[0019]所述動(dòng)磨盤(pán)的厚度為15mm?35mm，外徑為60mm?500mm，所述動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面的寬度為3?10mm，所述梯形齒的高度為3.5?10mm。
[0020]所述動(dòng)磨盤(pán)的外徑為130mm，所述導(dǎo)料槽和梯形齒均布分成7組相同區(qū)域，共有7個(gè)導(dǎo)料槽，70個(gè)梯形齒。
[0021]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案包括靜磨盤(pán)和動(dòng)磨盤(pán)，所述靜磨盤(pán)的基體為圓柱體，在靜磨盤(pán)的中心設(shè)有進(jìn)料孔，靜磨盤(pán)的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有靜磨盤(pán)周邊研磨平面，靜磨盤(pán)周邊研磨平面內(nèi)徑與進(jìn)料孔之間為內(nèi)凹錐面，所述動(dòng)磨盤(pán)的基體為圓柱體，在動(dòng)磨盤(pán)中心設(shè)有電機(jī)軸安裝孔，動(dòng)磨盤(pán)的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面，所述動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面與安裝孔之間為內(nèi)凹平面，在所述靜磨盤(pán)的內(nèi)凹錐面上設(shè)有斜齒，每個(gè)斜齒上還對(duì)稱(chēng)設(shè)有L形凹槽，使斜齒形成對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒;在所述動(dòng)磨盤(pán)的內(nèi)凹平面上設(shè)有導(dǎo)料槽和梯形齒，靜磨盤(pán)周邊研磨平面與動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面之間為起研磨和篩分作用的研磨篩分間隙，靜磨盤(pán)周邊研磨平面與動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面結(jié)合面向內(nèi)形成內(nèi)凹錐形研磨腔體。
[0022]所述靜磨盤(pán)和動(dòng)磨盤(pán)采用三氧化二鋁為主料的陶瓷材料制成，按重量百分比的原料組成為:三氧化二鋁85?99%，碳酸鎂0.1?2%，碳酸鈣0.1?2%，二氧化硅0.8?11%;或者，按重量百分比的原料組成為:三氧化二鋁80?95%，二氧化鋯5?20%。
[0023]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:
[0024](I)本實(shí)用新型由于采用三氧化二鋁作為主料制作陶瓷磨盤(pán)，解決了陶瓷磨盤(pán)適度強(qiáng)度及適度耐磨性的技術(shù)問(wèn)題，既利用了陶瓷具有耐磨性的優(yōu)點(diǎn)，又克服了陶瓷脆性大和耐沖擊能力差的問(wèn)題，試驗(yàn)證明，在研磨加工細(xì)度要求120?200目的情況下，本實(shí)用新型提供的陶瓷磨盤(pán)本身不易磨損，防止了加工過(guò)程中產(chǎn)生微量陶瓷粉末融進(jìn)食料中污染食品的現(xiàn)象，保證了食品加工的純潔度和食品衛(wèi)生安全，同時(shí)又降低了陶瓷磨盤(pán)的制造成本，還減少了陶瓷磨盤(pán)的單位體積重量，從而使其在受到高速旋轉(zhuǎn)的離心力的作用時(shí)，減少對(duì)帶動(dòng)其轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)軸產(chǎn)生的彎矩和轉(zhuǎn)矩，提高了產(chǎn)品的使用壽命；
[0025](2)本實(shí)用新型徹底改變了在動(dòng)、靜研磨盤(pán)彼此相對(duì)的端面上分布相同角度、相同槽形或者上下磨盤(pán)加工有相互對(duì)應(yīng)的凸起與凹槽或者磨紋的傳統(tǒng)磨盤(pán)結(jié)構(gòu)，采用動(dòng)磨盤(pán)為平面磨盤(pán)，動(dòng)磨盤(pán)上的梯形齒的研磨面與動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面的高度平齊或略低，靜磨盤(pán)為內(nèi)凹錐形磨盤(pán)，在靜磨盤(pán)的內(nèi)凹錐面上設(shè)有對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒，在靜磨盤(pán)的中心設(shè)進(jìn)料口，向四周擴(kuò)散食料，布料均勻，避免了間斷空磨的問(wèn)題，提高了研磨效率；
[0026](3)本實(shí)用新型采用動(dòng)磨盤(pán)工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面，中間在內(nèi)凹平面上均布分成6?8組相同區(qū)域，在動(dòng)磨盤(pán)內(nèi)凹平面上，呈圓弧形布置的梯形齒不是以動(dòng)磨盤(pán)的中心為圓心，而是在偏離動(dòng)磨盤(pán)的中心的動(dòng)磨盤(pán)邊緣上某一點(diǎn)為圓心，每一組區(qū)域在同心圓由小到大的不同直徑上，布置4層呈1-2-3-4共10個(gè)相互交錯(cuò)的梯形齒，由眾多相互交錯(cuò)的梯形齒形成一個(gè)齒陣，每一個(gè)梯形齒都獨(dú)立地具有擠壓、破碎、剪切和研磨的協(xié)同作用，在整個(gè)動(dòng)磨盤(pán)上無(wú)直線空隙可鉆，克服了動(dòng)、靜磨盤(pán)之間存在間斷空磨的問(wèn)題;靜磨盤(pán)工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有靜磨盤(pán)周邊研磨平面，在靜磨盤(pán)內(nèi)凹錐面上設(shè)有斜齒，每個(gè)斜齒上還對(duì)稱(chēng)設(shè)有L形凹槽，使斜齒形成對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒，每2個(gè)對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒之間的內(nèi)凹錐面自然形成一個(gè)凹槽，從而在一個(gè)靜磨盤(pán)上就構(gòu)成了一個(gè)凸凹凹相間的內(nèi)凹錐形研磨面，對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒與對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒之間被內(nèi)凹錐面自然形成的凹槽斷開(kāi)，每個(gè)階梯形斜齒也都是獨(dú)立的，靜磨盤(pán)獨(dú)立的階梯形斜齒與動(dòng)磨盤(pán)獨(dú)立的梯形齒的相互運(yùn)動(dòng)，可以加速食料的流動(dòng)速度，推動(dòng)食料快速前移，從而提高了研磨效率，食料在內(nèi)凹錐形研磨腔體中與動(dòng)、靜磨盤(pán)動(dòng)態(tài)碰撞，經(jīng)動(dòng)、靜磨盤(pán)的擠壓、破碎、剪切和研磨的協(xié)同作用，再經(jīng)動(dòng)磨盤(pán)和靜磨盤(pán)2個(gè)周邊研磨平面的二次研磨，經(jīng)動(dòng)磨盤(pán)和靜磨盤(pán)2個(gè)周邊研磨平面之間的研磨篩分間隙過(guò)濾流出，保證了加工細(xì)度達(dá)到120?200目；
[0027](4)本實(shí)用新型在靜磨盤(pán)斜齒角度上進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計(jì)，經(jīng)多次黃金分割法試驗(yàn)，本實(shí)用新型提供的外徑為130mm的靜磨盤(pán)，斜齒均布分成7組相同區(qū)域，每組區(qū)域由互相平行的5個(gè)斜齒組成，每一組各個(gè)斜齒與中心線垂直線的夾角Θ為30°，相鄰兩組之間的夾角δ為40°，從而獲得了食料從中心向周邊擴(kuò)散，并迅速?gòu)膭?dòng)磨盤(pán)和靜磨盤(pán)2個(gè)周邊研磨平面之間的研磨篩分間隙過(guò)濾流出的最佳實(shí)施角度；
[0028](5)本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，在相同外徑上可以設(shè)置更多的研磨齒，以外徑為130mm的靜磨盤(pán)和動(dòng)磨盤(pán)為例，130mm的靜磨盤(pán)上的斜齒均布分成7組相同區(qū)域，每組區(qū)域由互相平行的5個(gè)斜齒組成，共有35個(gè)斜齒和70個(gè)L形凹槽；130mm的動(dòng)磨盤(pán)上導(dǎo)料槽和梯形齒均布分成7組相同區(qū)域，共有7個(gè)導(dǎo)料槽，70個(gè)梯形齒，可以最大限度地發(fā)揮動(dòng)、靜磨盤(pán)動(dòng)的擠壓、破碎、剪切和研磨的協(xié)同作用，提高了加工效率。
[0029](6)經(jīng)多次試驗(yàn)和修正本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】證明，本實(shí)用新型還為解決干料研磨的效率和質(zhì)量以及連續(xù)工業(yè)化生產(chǎn)提供了一種適用的陶瓷磨盤(pán)，尤其是在制作豆?jié){或豆腐過(guò)程中，使用本實(shí)用新型的陶瓷磨盤(pán)，可以免除泡黃豆的過(guò)程，用干豆加水或?qū)⒏啥菇?jīng)破碎后去皮加水即可研磨出豆?jié){，能最大程度保護(hù)植物蛋白不被破壞，以確保營(yíng)養(yǎng)最大程度地釋放，完整保留大豆的天然營(yíng)養(yǎng)成分，同時(shí)解決了泡豆工序所需要的設(shè)備占地和浸泡用水浪費(fèi)水資源的問(wèn)題，以及浸泡排放污染環(huán)境的問(wèn)題。以使用外徑為130mm陶瓷磨盤(pán)研磨3.5kg干黃豆制作豆腐為例，對(duì)照組使用綠碳化硅砂輪研磨，研磨時(shí)間用了 30分鐘，豆腐制作出9.8kg，而使用本實(shí)用新型陶瓷磨盤(pán)作為試驗(yàn)組，研磨時(shí)間僅用7分鐘，豆腐制作出10.76kg，研磨速度提高了 4.28倍，豆腐出率提高了 10%。
[0030](7)本實(shí)用新型可廣泛用于豆類(lèi)、谷類(lèi)、玉米、花生、芝麻等食品的研磨，亦可用于水果和藥材的研磨。
【附圖說(shuō)明】
[0031]圖1是本實(shí)用新型的靜磨盤(pán)主視圖；
[0032]圖2是圖1的俯視圖；
[0033]圖3是圖2的A-A剖視圖；
[0034]圖4是本實(shí)用新型的動(dòng)磨盤(pán)主視圖；
[0035]圖5是圖4的D-D剖視圖；
[0036]圖6是圖4的B-B剖視圖；
[0037]圖7是圖4的C-C剖視圖；
[0038]圖8是本實(shí)用新型動(dòng)、靜磨盤(pán)結(jié)合使用示意圖。
[0039]圖中:
[0040]1.靜磨盤(pán)，
[0041]1-1.進(jìn)料孔，1-2.靜磨盤(pán)周邊研磨平面，
[0042]1-3.內(nèi)凹錐面，1-4.斜齒，1-5.L形凹槽，
[0043]2.動(dòng)磨盤(pán)，
[0044]2-1.電機(jī)軸安裝孔，2-2.動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面，
[0045]2-3.光平面，2-4.減重凹槽，
[0046]2-5.內(nèi)凹平面，2-6.梯形齒，
[0047]2-7.導(dǎo)料槽，2-8.固定螺母安裝平面，
[0048]3.研磨篩分間隙，
[0049]4.內(nèi)凹錐形研磨腔體。
【具體實(shí)施方式】
[0050]【具體實(shí)施方式】I
[0051 ]如圖1、圖2和圖3所示，本實(shí)用新型靜磨盤(pán)I的基體為圓柱體，厚度為15mm?35mm，外徑為60mm?500mm，但不限于500mm，在靜磨盤(pán)I中心設(shè)有進(jìn)料孔1-1，進(jìn)料孔1-1的直徑為20?80mm，這樣可以從靜磨盤(pán)I的中心進(jìn)料口進(jìn)料，并向四周擴(kuò)散食料，克服了偏心進(jìn)料口單方向進(jìn)料布料不均勻，食料進(jìn)入不到磨盤(pán)中心的問(wèn)題，還可以根據(jù)不同的食料和不同的用途選用不同的靜磨盤(pán)厚度、靜磨盤(pán)外徑和靜磨盤(pán)進(jìn)料孔直徑，靜磨盤(pán)I的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有3?1mm寬的靜磨盤(pán)周邊研磨平面1-2，靜磨盤(pán)周邊研磨平面1-2內(nèi)徑與進(jìn)料孔1-1之間為內(nèi)凹錐面1-3，在內(nèi)凹錐面1-3上設(shè)有斜齒1-4，斜齒1-4的寬度為5?10mm，高度為
3.5?10_，所述斜齒1_4均布分成6?8組相同區(qū)域，每一組由互相平行的5?9個(gè)斜齒1_4組成，每一組各個(gè)斜齒1-4與中心線垂直線的夾角Θ為25°?40°，相鄰兩組之間的夾角δ為35°?55°，每個(gè)斜齒1-4上還對(duì)稱(chēng)設(shè)有L形凹槽1-5，使斜齒1-4形成對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒，以加強(qiáng)對(duì)食料的研磨作用。
[0052]【具體實(shí)施方式】2
[0053]如圖4、圖5、圖6和圖7所示，本實(shí)用新型動(dòng)磨盤(pán)2的基體為圓柱體，厚度為15mm?35mm，外徑為60mm?500mm，但不限于500mm，在動(dòng)磨盤(pán)2中心設(shè)有電機(jī)軸安裝孔2-1和固定螺母安裝平面2-8，安裝孔2-1的直徑大小隨其安裝采用的電動(dòng)機(jī)輸出軸的直徑匹配，動(dòng)磨盤(pán)2的后面為光平面2-3，在光平面2-3上設(shè)有減重凹槽2-4，動(dòng)磨盤(pán)2的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有3?1mm寬的動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面2-2，該動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面2-2與安裝孔2-1之間為內(nèi)凹平面2-5，該內(nèi)凹平面2-5上設(shè)有導(dǎo)料槽2-7和梯形齒2-6，所述梯形齒2_6和導(dǎo)料槽2_7均布分成6?8組相同區(qū)域，所述導(dǎo)料槽2-7從固定螺母安裝平面2-8處起至周邊動(dòng)磨盤(pán)研磨平面2-2處均為圓弧形，所述梯形齒2-6也呈圓弧形布置，且圓弧線與同區(qū)域?qū)Я喜?-7的圓弧線平行，每一區(qū)域在同心圓由小到大的不同直徑上布置4層共10個(gè)相互交錯(cuò)的梯形齒2-6，梯形齒2-6的高度為3.5?10mm。
[0054]【具體實(shí)施方式】3
[0055]如圖8所示，本實(shí)用新型包括靜磨盤(pán)I和動(dòng)磨盤(pán)2，所述靜磨盤(pán)I的基體為圓柱體，在靜磨盤(pán)I的中心設(shè)有進(jìn)料孔1-1，靜磨盤(pán)I的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有靜磨盤(pán)周邊研磨平面1-2，靜磨盤(pán)周邊研磨平面1-2內(nèi)徑與進(jìn)料孔1-1之間為內(nèi)凹錐面1-3，所述動(dòng)磨盤(pán)2的基體為圓柱體，在動(dòng)磨盤(pán)2中心設(shè)有電機(jī)軸安裝孔2-1，動(dòng)磨盤(pán)2的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面2-2，所述動(dòng)磨盤(pán)研磨平面2-2與安裝孔2-1之間為內(nèi)凹平面2-5，在所述靜磨盤(pán)I的內(nèi)凹錐面1-3上設(shè)有斜齒1-4，每個(gè)斜齒1-4上還對(duì)稱(chēng)設(shè)有L形凹槽1-5，使斜齒1-4形成對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒;在所述動(dòng)磨盤(pán)2的內(nèi)凹平面2-5上設(shè)有導(dǎo)料槽2-7和梯形齒2-6，靜磨盤(pán)周邊研磨平面1-2與動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面2-2之間為起研磨和篩分作用的研磨篩分間隙3，靜磨盤(pán)研磨平面1-2與動(dòng)磨盤(pán)研磨平面2-2結(jié)合面向內(nèi)形成內(nèi)凹錐形研磨腔體4，以靜磨盤(pán)外徑為130mm為例，所述斜齒1-4均布分成7組相同區(qū)域，每一組由互相平行的5個(gè)斜齒1-4組成，共有35個(gè)斜齒1-4，70個(gè)L形凹槽1-5，每一組各個(gè)斜齒1-4與中心線垂直線的夾角Θ為30°，相鄰兩組之間的夾角δ為40° ;以靜磨盤(pán)外徑為130mm為例，所述導(dǎo)料槽2-7和梯形齒2-6均布分成7組相同區(qū)域，每一組布置4層共10個(gè)相互交錯(cuò)的梯形齒2-6，共有7個(gè)料槽2-7，70個(gè)梯形齒2-6。
[0056]【具體實(shí)施方式】4
[0057]【具體實(shí)施方式】1、【具體實(shí)施方式】2和【具體實(shí)施方式】3所述靜磨盤(pán)I和動(dòng)磨盤(pán)2采用三氧化二鋁為主料的陶瓷材料制成，按重量百分比，原料組成為:三氧化二鋁85?99%，碳酸鎂
0.1?2%，碳酸鈣0.1?2%，二氧化硅0.8?11%;或者，按重量百分比的原料組成為:三氧化二鋁80?95%，二氧化鋯5?20%。
[0058]使用時(shí)，本實(shí)用新型靜磨盤(pán)I與動(dòng)磨盤(pán)2成對(duì)使用，將靜磨盤(pán)I固定安裝在封閉殼體內(nèi)，將動(dòng)磨盤(pán)2安裝在電機(jī)的輸出軸上，在靜磨盤(pán)I與動(dòng)磨盤(pán)2之間形成內(nèi)凹錐形研磨腔體，食料從靜磨盤(pán)I的中心進(jìn)料口 1-1進(jìn)入，在內(nèi)凹錐形研磨腔體的擠壓、粉碎、剪切和研磨的協(xié)同作用下，再經(jīng)靜磨盤(pán)I與動(dòng)磨盤(pán)2的2個(gè)周邊研磨平面的研磨篩分間隙二次研磨與分篩，研磨后的標(biāo)準(zhǔn)食料經(jīng)靜磨盤(pán)I動(dòng)磨盤(pán)2之間的研磨篩分間隙3篩出。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，包括靜磨盤(pán)(I)，所述靜磨盤(pán)(I)的基體為圓柱體，在靜磨盤(pán)(I)的中心設(shè)有進(jìn)料孔(1-1)，靜磨盤(pán)(I)的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有靜磨盤(pán)周邊研磨平面(1-2)，靜磨盤(pán)周邊研磨平面(1-2)內(nèi)徑與進(jìn)料孔(1-1)之間為內(nèi)凹錐面(1-3)，其特征在于，在內(nèi)凹錐面(1-3)上設(shè)有斜齒(1-4)，每個(gè)斜齒(1-4)上還對(duì)稱(chēng)設(shè)有L形凹槽(1-5)，使斜齒(1-4)形成對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，其特征在于，所述在內(nèi)凹錐面(1-3)上設(shè)有的斜齒(1-4)均布分成6?8組相同區(qū)域，每組區(qū)域由互相平行的5?9個(gè)斜齒(1-4)組成，每一組各個(gè)斜齒(1-4)與中心線垂直線的夾角Θ為25°?40°，相鄰兩組之間的夾角δ為35°?55°。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，其特征在于，所述靜磨盤(pán)(I)的厚度為15mm?35mm，外徑為60mm?500mm，進(jìn)料孔(1-1)的直徑為20?80mm，所述靜磨盤(pán)周邊研磨平面(1-2)的寬度為3?10mm，斜齒(1-4)的寬度為5?10mm，高度為3.5?10mm。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，其特征在于，所述靜磨盤(pán)(1)的外徑為130_，所述斜齒(1-4)均布分成7組相同區(qū)域，每組區(qū)域由互相平行的5個(gè)斜齒(1-4)組成，共有35個(gè)斜齒(1-4)和70個(gè)L形凹槽(1-5)，每一組各個(gè)斜齒(1-4)與中心線垂直線的夾角Θ為30°，相鄰兩組之間的夾角δ為40°。5.用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，包括動(dòng)磨盤(pán)(2)，所述動(dòng)磨盤(pán)(2)的基體為圓柱體，在動(dòng)磨盤(pán)(2)中心設(shè)有電機(jī)軸安裝孔(2-1)，動(dòng)磨盤(pán)(2)的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面(2-2)，其特征在于，所述動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面(2-2)與安裝孔(2-1)之間為內(nèi)凹平面(2-5)，在內(nèi)凹平面(2-5)上設(shè)有導(dǎo)料槽(2-7)和梯形齒(2-6)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，其特征在于，所述在內(nèi)凹平面(2-5)上設(shè)有的導(dǎo)料槽(2-7)和梯形齒(2-6)均布分成6?8組相同區(qū)域，所述導(dǎo)料槽(2-7)從固定螺母安裝平面(2-8)處起至動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面(2-2)處均為圓弧形，所述梯形齒(2-6)也呈圓弧形布置，且與同區(qū)域?qū)Я喜?2-7)的圓弧線平行，每一區(qū)域在同心圓由小到大的不同直徑上，布置4層共10個(gè)相互交錯(cuò)的梯形齒(2-6)。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，其特征在于，所述動(dòng)磨盤(pán)(2)的厚度為15mm?35mm，外徑為60mm?500mm，所述動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面(2-2)的寬度為3?10mm，所述梯形齒(2-6)的高度為3.5?10mm。8.根據(jù)權(quán)利要求5或6或7所述用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，其特征在于，所述動(dòng)磨盤(pán)(2)的外徑為130mm，所述導(dǎo)料槽(2-7)和梯形齒(2-6)均布分成7組相同區(qū)域，共有7個(gè)導(dǎo)料槽(2-7)，70個(gè)梯形齒(2-6)。9.用于食品研磨加工的陶瓷磨盤(pán)，包括靜磨盤(pán)(I)和動(dòng)磨盤(pán)(2)，所述靜磨盤(pán)(I)的基體為圓柱體，在靜磨盤(pán)(I)的中心設(shè)有進(jìn)料孔(1-1)，靜磨盤(pán)(I)的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有靜磨盤(pán)周邊研磨平面(1-2)，靜磨盤(pán)周邊研磨平面(1-2)內(nèi)徑與進(jìn)料孔(1-1)之間為內(nèi)凹錐面(1-3)，所述動(dòng)磨盤(pán)(2)的基體為圓柱體，在動(dòng)磨盤(pán)(2)中心設(shè)有電機(jī)軸安裝孔(2-1)，動(dòng)磨盤(pán)(2)的工作面沿外徑圓周向內(nèi)設(shè)有動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面(2-2)，所述動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面(2-2)與安裝孔(2-1)之間為內(nèi)凹平面(2-5)，其特征在于，在所述靜磨盤(pán)(I)的內(nèi)凹錐面(1-3)上設(shè)有斜齒(1-4)，每個(gè)斜齒(1-4)上還對(duì)稱(chēng)設(shè)有L形凹槽(1-5 )，使斜齒(1-4)形成對(duì)稱(chēng)階梯形斜齒;在所述動(dòng)磨盤(pán)(2)的內(nèi)凹平面(2-5)上設(shè)有導(dǎo)料槽(2-7)和梯形齒(2-6)，靜磨盤(pán)周邊研磨平面(1-2)與動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面(2-2)之間為起研磨和篩分作用的研磨篩分間隙(3)，靜磨盤(pán)周邊研磨平面(1-2)與動(dòng)磨盤(pán)周邊研磨平面(2-2)結(jié)合面向內(nèi)形成內(nèi)凹錐形研磨腔體(4)。
【文檔編號(hào)】B02C7/12GK205413173SQ201620124706
【公開(kāi)日】2016年8月3日
【申請(qǐng)日】2016年2月18日
【發(fā)明人】李麗華, 李哲
【申請(qǐng)人】遼寧英冠高技術(shù)陶瓷股份有限公司