一種氣流磨粉碎機(jī)和一種氣流粉碎的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種氣流磨粉碎機(jī)和一種氣流粉碎的方法，該一種氣流磨粉碎機(jī)包括設(shè)置有側(cè)噴嘴、底噴嘴和分級(jí)處的粉碎室，所述粉碎室直徑為80mm～1000mm，位于同一高度的所述側(cè)噴嘴噴出的氣流和所述底噴嘴噴出的氣流在氣流交匯處碰撞，所述氣流交匯處的中心至所述分級(jí)處的下沿的垂直距離為所述粉碎室直徑的3～15倍。使用該粉碎機(jī)的粉碎方法獲得的成品粉更為圓潤(rùn)，并具有尖銳粒度分布曲線，可以制造方形度和充磁性能非常優(yōu)異的磁鐵，適用工業(yè)化生產(chǎn)。
【專利說明】
_種氣)流磨粉碎機(jī)和_種氣)流粉碎的方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及粉碎機(jī)，特別是涉及一種氣流磨粉碎機(jī)和一種氣流粉碎的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 最近的沖擊式氣流磨采用在氣流噴口前方設(shè)置氣流碰撞板，使高速氣流攜帶的粗 粉撞向碰撞板，從而實(shí)現(xiàn)粗粉的破碎，獲得微粉。但是，這種氣流磨所獲得的Nd-Fe-B系微粉 常帶有尖銳的邊角，磁鐵的方形度和充磁性能特別容易變差。而方形度變差會(huì)使熱減磁變 大，就算是同樣矯頑力的磁鐵，在高溫下，熱減磁會(huì)從比較低的溫度開始，這樣的話，電機(jī)會(huì) 無法使用，產(chǎn)生不良。
[0003] 為獲得不帶尖銳邊緣、比較圓潤(rùn)的粉末，Nd-Fe-B系燒結(jié)磁鐵的生產(chǎn)設(shè)備使用如圖 1中所示的氣流磨粉碎機(jī)，其核心部件是分級(jí)器2a、粉碎室la，所述粉碎室設(shè)有側(cè)噴嘴113a 和底噴嘴121a，從側(cè)噴嘴113a和底噴嘴121a噴入的高速氣流在氣流交匯處3a發(fā)生對(duì)撞時(shí)， 在對(duì)撞區(qū)形成粉體高濃度區(qū)，隨后由于對(duì)撞產(chǎn)生的劇烈擾動(dòng)使粉體在腔體內(nèi)分散開來，并 隨回轉(zhuǎn)氣流運(yùn)動(dòng)，粒徑較小的粉末被帶到分級(jí)器附近處，符合粒徑的細(xì)粉被篩選出，送入出 料組件。送出的細(xì)粉進(jìn)入旋風(fēng)分離器分離超細(xì)粉，收集合格粉末，設(shè)定粒度以上的粗粉則返 回粉碎區(qū)繼續(xù)粉碎。旋風(fēng)分離器分離的超細(xì)粉隨氣流經(jīng)收塵器過濾收集，凈化后的氣流則 重新加壓，回收使用。在實(shí)際應(yīng)用中，這種粗粉破碎方式可以獲得邊緣較為圓潤(rùn)的Nd-Fe-B 系微粉，并在Nd-Fe-B系微粉的制作工序中得以大量應(yīng)用。
[0004] 為提高分選效率，現(xiàn)有氣流磨粉碎機(jī)中，上述氣流交匯處至分級(jí)器之間的距離較 近，一般是粉碎室的直徑1~2.5倍。
[0005] 在現(xiàn)有的氣流磨粉碎機(jī)供氣方式中，由于各噴嘴的直徑較小，噴嘴壓力大，供氣的 初期阻力極小，需要較長(zhǎng)的時(shí)間形成回轉(zhuǎn)氣流，導(dǎo)致粒徑較大的粉末也在尚未形成回轉(zhuǎn)氣 流的亂流作用下直接吹至分級(jí)器附近，由此，通過分級(jí)器的粉體粒度分布曲線鈍化，同時(shí)少 量不能通過分級(jí)器的大顆粒粉末與分級(jí)器劇烈摩擦，分級(jí)器的損耗增加，少量大顆粒粉末 甚至可通過分級(jí)器、或者分級(jí)器和出料組件之間的縫隙進(jìn)入出料組件中，導(dǎo)致大顆粒粉末 被分選出，得到的粉末粒度分布不均勻，并最終造成產(chǎn)品性能的上下波動(dòng)，由此制得的燒結(jié) 磁體出現(xiàn)異常晶粒長(zhǎng)大的情形，磁鐵性能的方形度和矯頑力變低，耐熱性能等變差，難以滿 足客戶要求。
[0006] 對(duì)于制備Nd-Fe-B系微粉的工序而言，這種氣流對(duì)撞來實(shí)現(xiàn)破碎粗粉的方式相對(duì) 于氣流撞向碰撞板破碎粗粉的方式來說，可獲得邊緣更為圓潤(rùn)的粉末，因此，在氣流對(duì)撞來 實(shí)現(xiàn)氣流粉碎這一方向進(jìn)行技術(shù)改進(jìn)，是非常迫切而又具有實(shí)際應(yīng)用價(jià)值的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)之不足，提供一種新型的氣流磨粉碎機(jī)。該粉碎 機(jī)可以獲得更為具有尖銳粒度分布曲線的粉體，適用工業(yè)化生產(chǎn)。
[0008] 本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：
[0009] -種氣流磨粉碎機(jī)，包括設(shè)置有側(cè)噴嘴、底噴嘴和分級(jí)處的粉碎室，所述粉碎室直 徑為50mm~1000mm，位于同一高度的所述側(cè)噴嘴噴出的氣流和所述底噴嘴噴出的氣流在氣 流交匯處碰撞，其特征在于:所述氣流交匯處的中心至所述分級(jí)處的下沿的垂直距離為所 述粉碎室直徑的3~15倍。
[0010] 在氣流粉碎過程中，在氣流交匯處對(duì)撞后的粉末隨上升的氣流一起運(yùn)動(dòng)至粉碎室 上部的一定高度，粗顆粒在重力的作用下，回落到粉碎室下部(這一部分粗顆粒簡(jiǎn)稱為失重 粗顆粒），細(xì)粉隨氣流通過到上部的分級(jí)處，獲得成品粉。
[0011]在加長(zhǎng)氣流交匯處的中心至分級(jí)處的距離之后，失重粗顆粒的數(shù)量增加，隨之粗 顆粒對(duì)分級(jí)處的干擾減小，從而銳化通過分級(jí)處的粉體粒度分布曲線。
[0012] 同時(shí)，由于氣流交匯處的中心至分級(jí)處的距離增加，粗顆?；亓髦翚饬鹘粎R處的 時(shí)間增加，從而，氣流交匯處的堆積粉末減少，對(duì)撞擊活動(dòng)帶來的影響減小，可實(shí)現(xiàn)高效破 碎，從而部分抵消由于氣流交匯處的中心至所述分級(jí)處的垂直距離增加而帶來的粉碎效率 降低問題。另外，由于粉末運(yùn)動(dòng)距離增加，在運(yùn)動(dòng)過程中會(huì)不斷與其他粉末發(fā)生碰撞，因此， 獲得的成品粉更為圓潤(rùn)，所制得燒結(jié)磁鐵的各項(xiàng)磁性能數(shù)據(jù)均有所提升。
[0013] 在推薦的實(shí)施方式中，所述氣流交匯處的中心至所述分級(jí)處的下沿之垂直距離為 所述粉碎室直徑的5~12倍。
[0014] 在推薦的實(shí)施方式中，所述粉碎室的直徑為所述底噴嘴直徑的20~35倍，以及所 述粉碎室的直徑為最下方的所述側(cè)噴嘴直徑的25~50倍。在增大底噴嘴和側(cè)噴嘴直徑之 后，氣流交匯處的撞擊面增加，同樣可以提高粉碎效率。
[0015]在推薦的實(shí)施方式中，所述粉碎室直徑為100mm~500mm，所述分級(jí)處設(shè)置有分級(jí) 器。
[0016] 在推薦的實(shí)施方式中，所述粉碎室的直徑為所述底噴嘴直徑的22~28倍，以及所 述粉碎室的直徑為最下方的所述側(cè)噴嘴直徑的30~36倍。
[0017] 如上所述，由于氣流交匯處的堆積粉末減少，堆積粉末對(duì)氣流交匯處的撞擊活動(dòng) 所帶來的干擾減小，由此，即使在底噴嘴直徑或者側(cè)噴嘴直徑增加，導(dǎo)致底噴嘴壓力和側(cè)噴 嘴壓力減小的情況下，也能高效地實(shí)現(xiàn)粉末破碎。
[0018] 在推薦的實(shí)施方式中，所述氣流磨粉碎機(jī)設(shè)置有至少3個(gè)的側(cè)噴嘴，并以中心對(duì)稱 的方式設(shè)置在所述粉碎室側(cè)壁的同一高度處。
[0019] 在推薦的實(shí)施方式中，所述氣流磨粉碎機(jī)設(shè)置有位于不同高度的兩組側(cè)噴嘴，所 述每組側(cè)噴嘴具有至少3個(gè)的側(cè)噴嘴，并以中心對(duì)稱的方式設(shè)置在所述粉碎室的側(cè)壁上，位 于上方的所述氣流交匯處的中心在位于下方的所述氣流交匯處的中心至所述分級(jí)處下沿 的垂直距離的下1/3段以內(nèi)，位于下方的所述側(cè)噴嘴的壓力和直徑各自小于等于位于上方 的所述側(cè)噴嘴的壓力和直徑。
[0020] 在推薦的實(shí)施方式中，所述粉碎室包括位于上部的圓筒和位于下部的倒置圓錐 筒，所述分級(jí)處位于所述圓筒內(nèi)，所述氣流交匯處位于所述倒置圓錐筒內(nèi)或靠近所述倒置 圓錐筒處。
[0021 ]在推薦的實(shí)施方式中，所述底噴嘴的進(jìn)氣管上設(shè)置減壓閥。
[0022]在推薦的實(shí)施方式中，所述側(cè)噴嘴均設(shè)置斜向下的出口，所述出口的傾角為15°~ 75。。
[0023] 本發(fā)明的另一目的在于提供一種使用氣流磨粉碎機(jī)進(jìn)行粉碎的方法。
[0024] -種氣流粉碎的方法，其特征在于，其使用上述的氣流磨粉碎機(jī)，所述氣流粉碎的 物料為Nd-Fe-B系粉末，所述氣流為惰性氣體的氣流或者氮?dú)獾臍饬鳌?br>[0025]在推薦的實(shí)施方式中，所述Nd-Fe-B系粉末為Nd-Fe-B系急冷合金經(jīng)過氫破碎處 理、所獲得的Nd-Fe-B系粉末。
[0026]在推薦的實(shí)施方式中，所述側(cè)噴嘴的壓力為0.35MPa~0.65MPa，所述底噴嘴的壓 力為0.20MPa~0.65MPa。由于氣流交匯處的中心至分級(jí)處的垂直距離增加，因此，既使在提 高側(cè)噴嘴和底噴嘴噴出的氣流壓力的情況下，對(duì)撞后未充分破碎的大顆粒也不會(huì)經(jīng)由對(duì)撞 的力量直接撞到分級(jí)處，使成品粉中混入大顆粒。
[0027]在推薦的實(shí)施方式中，所述粉碎室的壓力為0· 13MPa~0.5MPa，且小于底噴嘴壓力 和側(cè)噴嘴壓力。理由同上段內(nèi)容。
[0028]在推薦的實(shí)施方式中，所述Nd-Fe-B系粉末所制得磁鐵的方形度在90%以上，He j 在14k0e以上。
[0029] 本發(fā)明中涉及的所有數(shù)值范圍包括這一范圍內(nèi)的所有點(diǎn)值。
【附圖說明】
[0030] 圖1為現(xiàn)有氣流磨粉碎機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031] 圖2為實(shí)施例一、二、三中使用的氣流磨粉碎機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032] 圖3為實(shí)施例一中對(duì)比例1的粉末粒度分布圖；
[0033]圖4為實(shí)施例一中實(shí)施例2的粉末粒度分布圖；
[0034]圖5為實(shí)施例一中對(duì)比例1的金相顯微分析圖；
[0035] 圖6為實(shí)施例一中實(shí)施例2的金相顯微分析圖；
[0036] 圖7為實(shí)施例四中使用的氣流磨粉碎機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0037] 以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0038] 實(shí)施例一
[0039]本發(fā)明以Nd-Fe-B系稀土合金磁性粉末為例，來說明氣流粉碎粉末的制作過程和 評(píng)價(jià)過程。
[0040] 原料配制工序:準(zhǔn)備純度99.5%的Nd、工業(yè)用Fe-B、工業(yè)用純Fe、純度99.9%的A1、 純度99.5 %的Cu、純度99.5 %的Co、和ZrFe合金，各成分的重量比符合表1中所示：
[0041] 表1各成分的重量配比
[0042]
[0043] 根據(jù)表1的配制組成，分別稱量、配制了共計(jì)80Kg的原料。
[0044] 熔煉工序:配制后的原料放入氧化鋁制的坩堝中，使用中頻真空感應(yīng)熔煉爐，在 10一2Pa真空中真空熔煉至1500 °C。
[0045] 鑄造工序:在真空熔煉后的熔煉爐中通入Ar氣至0.1 MPa后，使用離心鑄造法進(jìn)行 鑄造，獲得急冷合金。
[0046] 氫破粉碎工序:在室溫下將放置急冷合金的密封粉碎室抽真空，而后向粉碎室內(nèi) 通入純度為99.5 %的氫氣至壓力為0.1 MPa，放置2小時(shí)后，邊升溫邊抽真空，在500°C的溫度 下保持真空狀態(tài)2小時(shí);之后進(jìn)行冷卻，取出氫破粉碎后的試料，均分成8份。
[0047] 微粉碎工序:微粉碎工序所使用的制粉裝置如圖2中所示，其包括粉碎室1、旋風(fēng)分 離器和壓縮機(jī)(圖中未示），粉碎室1包括位于上部的圓筒11和位于下部的倒置圓錐筒12,圓 筒11內(nèi)設(shè)有位于上部的進(jìn)料口 111、氣流出口 112和位于下部的4個(gè)斜向下的側(cè)噴嘴113,4個(gè) 側(cè)噴嘴113以中心對(duì)稱的方式設(shè)置在粉碎室1側(cè)壁的同一高度處，倒置圓錐筒12底部中心處 設(shè)置底噴嘴121。粉碎室1的各側(cè)噴嘴113和底噴嘴121由壓縮機(jī)的出氣口供氣，氣流出口 112 處設(shè)置有分選輪2,之后通過旋風(fēng)分離器和/或過濾器連通壓縮機(jī)的進(jìn)氣口（以上結(jié)構(gòu)圖中 未不）。
[0048] 粉碎室1的直徑為80mm，底噴嘴121的出口直徑為2 · 5mm，側(cè)噴嘴113的出口直徑為 1.8mm〇
[0049] 各側(cè)噴嘴113與水平面的夾角為75°。
[0050] 從各側(cè)噴嘴113、底噴嘴121噴出的氣流在氣流交匯處3碰撞，分選輪2位于氣流交 匯處3的正上方，氣流交匯處3的中心至分選輪2下沿的垂直距離為粉碎室1直徑的2~16倍。
[0051] 將各份氫破粉碎后的試料各自從進(jìn)料口 111放入粉碎室1內(nèi)，壓縮機(jī)工作時(shí)氧含量 〈lOOppm、露點(diǎn)為-38°C(常溫，0.4MPa)、氮?dú)鈿饬鲝膫?cè)噴嘴113(進(jìn)口壓力為0.4MPa)和底噴 嘴121 (進(jìn)口壓力為0 · 2MPa)進(jìn)入粉碎室1，在粉碎室壓力為0 · 14MPa的條件下對(duì)試料在氣流 交匯處3進(jìn)行氣流粉碎，粉碎后的粉粒在中間氣流的帶動(dòng)下，上部的氣流出口 112處設(shè)置的 分選輪2,不能被中間氣流帶動(dòng)到分選輪2附近的粗粉粒在重力的作用下，回落到粉碎室下 部(這一部分粗顆粒簡(jiǎn)稱為失重粗顆粒），被中間氣流帶動(dòng)的細(xì)粉隨氣流一起運(yùn)動(dòng)到上部的 分選輪，在分選輪所產(chǎn)生的流場(chǎng)內(nèi)，細(xì)粉中的粗顆粒在離心力作用下被拋向筒壁附近(這一 部分粗顆粒簡(jiǎn)稱為離心粗顆粒），離心粗顆?；芈涞椒鬯槭蚁虏?，細(xì)粉的細(xì)顆粒則通過分選 輪2進(jìn)入旋風(fēng)分離器分離超細(xì)粉，收集獲得。
[0052]制粉裝置的工作時(shí)間為3小時(shí)。
[0053 ]用馬爾文激光粒度測(cè)試儀檢測(cè)各實(shí)施例和對(duì)比例的粉末粒度分布。
[0054]對(duì)比例1與實(shí)施例2的檢測(cè)結(jié)果依次如圖3和圖4中所示。
[0055] 用U=±(D9Q-D1Q)/(2*D5())來表示粒度均勻性，對(duì)比例1的粒度均勻性U>0.65,實(shí) 施例1至實(shí)施例7的U<0.6。
[0056]在粉碎后的粉末中添加作為成形劑使用的辛酸甲酯，其添加量為稀土合金磁性粉 末的重量〇. 1 %，再用V型混料機(jī)充分混合。
[0057]磁場(chǎng)中成形工序:使用直角取向型的磁場(chǎng)成型機(jī)，在1.2T的取向磁場(chǎng)中，將上述添 加了成形助劑的粉末成形成邊長(zhǎng)為40mm的立方體，成形后在0.2T的磁場(chǎng)中退磁。
[0058]燒結(jié)工序：各成形體搬運(yùn)至燒結(jié)爐進(jìn)行燒結(jié)，燒結(jié)在H^Pa的真空下，在200°C和 900°C的溫度下各保持2小時(shí)后，以1050°C的溫度燒結(jié)2小時(shí)，之后通入Ar氣體至0.1 MPa后， 冷卻至室溫。
[0059] 熱處理工序:燒結(jié)體在高純度Ar氣中，以580°C溫度進(jìn)行1小時(shí)熱處理后，冷卻至室 溫后取出。
[0060] 磁性能評(píng)價(jià)工序:燒結(jié)磁鐵使用中國(guó)計(jì)量院的N頂-10000H大塊稀土永磁無損檢測(cè) 系統(tǒng)進(jìn)行磁性能檢測(cè)，測(cè)定溫度為20°C。
[0061] 用金相顯微鏡檢測(cè)對(duì)比例1與實(shí)施例2制得的燒結(jié)磁鐵，檢測(cè)結(jié)果依次如圖5和圖6 中所示。
[0062 ]表2為本發(fā)明實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表。
[0063] 表2實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表
[0064] -
[0065]
[0066]表2中的nl為氣流交匯處3的中心至分選輪2的垂直距離為粉碎室1直徑的倍數(shù)。 [0067] 從表2、圖3、圖4、圖5、圖6中可以看到，在氣流交匯處3的中心至分選輪2的垂直距 離為粉碎室1直徑的倍數(shù)小于3時(shí)，大顆粒通過分選輪的數(shù)量增加，粉末的粒度分布曲線銳 度急劇下降，燒結(jié)磁鐵的方形度急劇下降。而在氣流交匯處3的中心至分選輪2的垂直距離 為粉碎室1直徑的倍數(shù)大于15時(shí)，微粉碎工序的效率過于低下，影響了生產(chǎn)效率。
[0068] 實(shí)施例二
[0069]本發(fā)明以Nd-Fe-B系稀土合金磁性粉末為例，來說明氣流粉碎粉末的制作過程和 評(píng)價(jià)過程。
[0070] 原料配制工序:準(zhǔn)備純度99.5%的Nd、工業(yè)用Fe-B、工業(yè)用純Fe、純度99.9%的A1、 純度99.5 %的Cu、純度99.5 %的Co，各成分的重量比符合表3中所示：
[0071] 表3各成分的重量配比
[0072]
-[0073]根據(jù)表3的配制組成，分別稱量、配制了共計(jì)70Kg的原料。
[0074]熔煉工序:配制后的原料放入氧化鋁制的坩堝中，使用中頻真空感應(yīng)熔煉爐，在 10一2Pa真空中真空熔煉至1550°C。
[0075]鑄造工序:在真空熔煉后的熔煉爐中通入Ar氣至0.05MPa后，使用單輥急冷法進(jìn)行 鑄造，獲得急冷合金。
[0076]氫破粉碎工序:在室溫下將放置急冷合金的密封粉碎室抽真空，而后向粉碎室內(nèi) 通入純度為99.5 %的氫氣至壓力為0.1 IMPa，充分吸氫后，邊升溫邊抽真空，在500 °C的溫度 下抽真空，充分脫氫;之后進(jìn)行冷卻，取出氫破粉碎后的試料，均分成7份。
[0077]微粉碎工序:微粉碎工序所使用的制粉裝置如圖2中所示，其包括粉碎室1、旋風(fēng)分 離器和壓縮機(jī)(圖中未示），粉碎室1包括位于上部的圓筒11和位于下部的倒置圓錐筒12,圓 筒11內(nèi)設(shè)有位于上部的進(jìn)料口 111、氣流出口 112和位于下部的4個(gè)斜向下的側(cè)噴嘴113,4個(gè) 側(cè)噴嘴113以中心對(duì)稱的方式設(shè)置在粉碎室1的側(cè)壁上，倒置圓錐筒12底部設(shè)置底噴嘴121。 粉碎室1的各側(cè)噴嘴113和底噴嘴121由壓縮機(jī)的出氣口供氣，氣流出口 112處設(shè)置有分選輪 2，之后通過旋風(fēng)分離器和/或過濾器連通壓縮機(jī)的進(jìn)氣口（以上結(jié)構(gòu)圖中未示）。
[0078] 粉碎室1的直徑為100mm。氣流交匯處3的中心至分選輪2下沿的垂直距離為粉碎室 1直徑的5倍。
[0079] 從各側(cè)噴嘴113、底噴嘴121噴出的氣流在氣流交匯處3碰撞，分選輪2位于氣流交 匯處3的正上方，粉碎室1直徑為底噴嘴121直徑的18~38倍(n2)和各側(cè)噴嘴113直徑的20~ 55 倍(n3)。
[0080] 各側(cè)噴嘴113與水平面的夾角為15°。
[0081] 將各份氫破粉碎后的試料各自從進(jìn)料口 111放入粉碎室1內(nèi)，壓縮機(jī)工作時(shí)氧含量 〈lOOppm、露點(diǎn)為-38°C(常溫，0.5MPa)、氮?dú)鈿饬鲝膫?cè)噴嘴113(壓力為0.5MPa)和底噴嘴121 (壓力為0 · 4MPa)進(jìn)入粉碎室1，在粉碎室壓力為0 · 14MPa的條件下對(duì)試料進(jìn)行氣流粉碎，不 能被上升氣流帶動(dòng)到分選輪2附近的粗粉粒在重力的作用下，回落到粉碎室下部(這一部分 粗顆粒簡(jiǎn)稱為失重粗顆粒），被上升氣流帶動(dòng)的細(xì)粉隨氣流一起運(yùn)動(dòng)到上部的氣流出口 112 處設(shè)置的分選輪2,在分選輪2所產(chǎn)生的流場(chǎng)內(nèi)，細(xì)粉中的粗顆粒在離心力作用下被拋向筒 壁附近(這一部分粗顆粒簡(jiǎn)稱為離心粗顆粒），離心粗顆?；芈涞椒鬯槭蚁虏浚?xì)粉的細(xì)顆 粒則通過分選輪2進(jìn)入旋風(fēng)分離器。
[0082]制粉裝置的工作時(shí)間為3小時(shí)。
[0083 ]用馬爾文激光粒度測(cè)試儀檢測(cè)各實(shí)施例和對(duì)比例的粉末粒度分布。
[0084] 用U=±(D9Q-D1Q)/(2*D5())來表示粒度均勻性，對(duì)比例1的粒度均勻性U>0.65,實(shí) 施例1至實(shí)施例7的U<0.6。
[0085] 在粉碎后的粉末中添加作為成形劑使用的辛酸甲酯，其添加量為稀土合金磁性粉 末的重量〇. 1 %，再用V型混料機(jī)充分混合。
[0086] 磁場(chǎng)中成形工序:使用直角取向型的磁場(chǎng)成型機(jī)，在1.2T的取向磁場(chǎng)中，將上述添 加了成形助劑的粉末成形成邊長(zhǎng)為40mm的立方體，成形后在0.2T的磁場(chǎng)中退磁。
[0087]燒結(jié)工序：各成形體搬運(yùn)至燒結(jié)爐進(jìn)行燒結(jié)，燒結(jié)在H^Pa的真空下，在200°C和 800°C的溫度下各保持2小時(shí)后，以1020°C的溫度燒結(jié)，之后通入Ar氣體至0.1 MPa后，冷卻至 室溫。
[0088] 熱處理工序:燒結(jié)體在高純度Ar氣中，以560°C溫度進(jìn)行1小時(shí)熱處理后，冷卻至室 溫后取出。
[0089]磁性能評(píng)價(jià)工序:燒結(jié)磁鐵使用中國(guó)計(jì)量院的N頂-10000H大塊稀土永磁無損檢測(cè) 系統(tǒng)進(jìn)行磁性能檢測(cè)，測(cè)定溫度為20°C。
[0090] 表4為本發(fā)明實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表。
[0091] 表4實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表
[0092]
[0093] 表4中的n2為粉碎室1直徑相對(duì)底噴嘴直徑的倍數(shù)，n3為粉碎室1直徑相對(duì)側(cè)噴嘴 直徑的倍數(shù)。n2和n3越大，直徑越小。
[0094] 從表4中可以看到，在底噴嘴和側(cè)噴嘴的直徑增大時(shí)，氣流交匯處3的碰撞面積增 加，因此，可以大幅度地提高粉碎效率。但是，在n2〈20和n3〈25之時(shí)，噴嘴的直徑過大，雖然 粉碎效率得到提高，但所制得的磁鐵磁性能下降。而在n2>35和n3>50之時(shí)，噴嘴的直徑過 小，粉碎效率過低。
[0095] 實(shí)施例三
[0096]實(shí)施例三與實(shí)施例二的區(qū)別在于，n2的值為22，n3的值為30。而底噴嘴和側(cè)噴嘴的 壓力為變量。
[0097] 粉碎室的直徑為500mm。
[0098] 用馬爾文激光粒度測(cè)試儀檢測(cè)各實(shí)施例和對(duì)比例的粉末粒度分布。
[0099] 用U=±(D9Q-D1Q)/(2*D5())來表示粒度均勻性，對(duì)比例1的粒度均勻性U>0.65,實(shí) 施例1至實(shí)施例7的U<0.6。
[0100] 表5為本發(fā)明實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表。
[0101] 表5實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表
[0102]
[0103] 從表5中可以看到，在底噴嘴和側(cè)噴嘴的壓力增大時(shí)，可以大幅度地提高粉碎效 率。但是，在底噴嘴壓力〈0 · 20MPa和側(cè)噴嘴壓力〈0 · 35MPa之時(shí)，噴嘴壓力過小，粉碎效率過 低。而底噴嘴壓力>〇 · 65MPa和側(cè)噴嘴壓力>0 · 65MPa之時(shí)，雖然粉碎效率得到提高，但所制得 的磁鐵磁性能下降。
[0104] 實(shí)施例四
[0105] 實(shí)施例四與實(shí)施例二的區(qū)別在于，配制了共計(jì)60Kg的原料，并將氫破粉碎后的試 料，均分成6份。
[0106] 圓筒11內(nèi)設(shè)有位于不同高度的兩組側(cè)噴嘴，每組側(cè)噴嘴具有各4個(gè)側(cè)噴嘴113,各 側(cè)噴嘴113以中心對(duì)稱的方式設(shè)置在粉碎室1的側(cè)壁上。具體結(jié)構(gòu)如圖7中所示。
[0107] n2 的值為 25。
[0108] 粉碎室的直徑為1000mm。
[0109] 下組側(cè)噴嘴113與底噴嘴121在下氣流交匯處31處發(fā)生碰撞，上組側(cè)噴嘴113與底 噴嘴121在上氣流交匯處32處發(fā)生碰撞，上氣流交匯處32的中心在下氣流交匯處31的中心 至分選輪2的垂直距離的下1/7~2/5處，下氣流交匯處31的中心至分選輪2的垂直距離為粉 碎室直徑的4.5倍。
[0110]上側(cè)噴嘴與下側(cè)噴嘴的壓力相同。
[0111] 制粉裝置的工作時(shí)間為2小時(shí)。
[0112] 用馬爾文激光粒度測(cè)試儀檢測(cè)各實(shí)施例和對(duì)比例的粉末粒度分布。
[0113] 用U=±(D9Q-D1Q)/(2*D5())來表示粒度均勻性，對(duì)比例1的粒度均勻性U>0.65,實(shí) 施例1至實(shí)施例7的U<0.6。
[0114] 表6為本發(fā)明實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表。
[0115] 表6實(shí)施例和對(duì)比例的磁性能對(duì)照表
[0116]
[0117] 表6中的n31為粉碎室1直徑相對(duì)下側(cè)噴嘴直徑的倍數(shù)，n32為粉碎室1直徑相對(duì)上 側(cè)噴嘴直徑的倍數(shù)。n31和n32越大，直徑越小。m為下氣流交匯處31的中心至上氣流交匯處 32的中心相對(duì)于下氣流交匯處31的中心至分選輪2的垂直距離的比值。
[0118] 上述實(shí)施例僅用來進(jìn)一步說明本發(fā)明的幾種具體的實(shí)施例，但本發(fā)明并不局限于 實(shí)施例，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾， 均落入本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種氣流磨粉碎機(jī)，包括設(shè)置有側(cè)噴嘴、底噴嘴和分級(jí)處的粉碎室，所述粉碎室直徑 為80mm~1000mm，位于同一高度的所述側(cè)噴嘴噴出的氣流和所述底噴嘴噴出的氣流在氣流 交匯處碰撞，其特征在于:所述氣流交匯處的中心至所述分級(jí)處的下沿的垂直距離為所述 粉碎室直徑的3~15倍。2. 根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:所述氣流交匯處的中心至 所述分級(jí)處的下沿的垂直距離為所述粉碎室直徑的5~12倍。3. 根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:所述粉碎室的直徑為所述 底噴嘴直徑的20~35倍，以及所述粉碎室直徑為最下方的所述側(cè)噴嘴直徑的25~50倍。4. 根據(jù)權(quán)利要求3中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:所述粉碎室直徑為100mm ~500mm，所述分級(jí)處設(shè)置有分級(jí)器。5. 根據(jù)權(quán)利要求4中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:所述粉碎室的直徑為所述 底噴嘴直徑的22~28倍，以及所述粉碎室直徑為最下方的所述側(cè)噴嘴直徑的30~36倍。6. 根據(jù)權(quán)利要求5中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:所述氣流磨粉碎機(jī)設(shè)置有 至少3個(gè)的側(cè)噴嘴，并以中心對(duì)稱的方式設(shè)置在所述粉碎室側(cè)壁的同一高度處。7. 根據(jù)權(quán)利要求4中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:所述氣流磨粉碎機(jī)設(shè)置有 位于不同高度的兩組側(cè)噴嘴，所述每組側(cè)噴嘴具有至少3個(gè)的側(cè)噴嘴，并以中心對(duì)稱的方式 設(shè)置在所述粉碎室的側(cè)壁上，位于上方的所述氣流交匯處的中心位于位于下方的所述氣流 交匯處的中心至所述分級(jí)處下沿的下1/3段垂直距離之內(nèi)，位于下方的所述側(cè)噴嘴的壓力 和直徑各自小于等于位于上方的所述側(cè)噴嘴的壓力和直徑。8. 根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種氣流磨粉碎機(jī)，其特征在于:所述側(cè)噴嘴均設(shè)置斜向下 的出口，所述出口的傾角為15°~75°。9. 一種氣流粉碎的方法，其特征在于，其使用權(quán)利要求1、2、3、4、5、6、7或8的所述氣流 磨粉碎機(jī)，所述氣流粉碎的物料為Nd-Fe-B系粉末，所述氣流為惰性氣體的氣流或者氮?dú)獾?氣流。10. 根據(jù)權(quán)利要求9中所述的一種氣流粉碎的方法，其特征在于:所述Nd-Fe-B系粉末為 Nd-Fe-B系急冷合金經(jīng)過氫破碎處理、所獲得的Nd-Fe-B系粉末。11. 根據(jù)權(quán)利要求10中所述的一種氣流粉碎的方法，其特征在于:所述側(cè)噴嘴的壓力為 0 · 35MPa~0 · 65MPa，所述底噴嘴的壓力為0 · 20MPa~0 · 65MPa。12. 根據(jù)權(quán)利要求11中所述的一種氣流粉碎的方法，其特征在于:所述粉碎室的壓力為 0 · 13MPa~0 · 5MPa，且小于底噴嘴壓力和側(cè)噴嘴壓力。13. 根據(jù)權(quán)利要求10中所述的一種氣流粉碎的方法，其特征在于:所述Nd-Fe-B系粉末 所制得磁鐵的方形度在90%以上，Hej在14k0e以上。
【文檔編號(hào)】B02C19/06GK105855012SQ201610200246
【公開日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年4月1日
【發(fā)明人】劉煒燁, 永田浩
【申請(qǐng)人】廈門鎢業(yè)股份有限公司