技術(shù)特征：

1.外延片表面預(yù)處理裝置，包括主體（1），所述主體（1）的頂部依次開設(shè)有一級(jí)清洗池（2）、二級(jí)清洗池（3）和三級(jí)清洗池（4），其特征在于，還包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的外延片表面預(yù)處理裝置，其特征在于：所述放置架（5）包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的外延片表面預(yù)處理裝置，其特征在于：所述放置架（5）還包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的外延片表面預(yù)處理裝置，其特征在于：所述壓緊組件（7）包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的外延片表面預(yù)處理裝置，其特征在于：所述噴淋組件（8）包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的外延片表面預(yù)處理裝置，其特征在于：所述噴淋孔（807）包括第一斜孔（8071）和第二斜孔（8072），所述第一斜孔（8071）和第二斜孔（8072）的噴淋方向相靠近。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的外延片表面預(yù)處理裝置，其特征在于：所述驅(qū)動(dòng)組件（9）包括：

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的外延片表面預(yù)處理裝置，其特征在于：所述泵液組件（11）包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的外延片表面預(yù)處理裝置，其特征在于：還包括干燥組件（12），所述干燥組件（12）包括：

10.外延片表面預(yù)處理方法，應(yīng)用于權(quán)利要求9所述的外延片表面預(yù)處理裝置，其特征在于，包括以下步驟：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了外延片表面預(yù)處理裝置及處理方法，涉及到外延片生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括主體，所述主體的頂部依次開設(shè)有一級(jí)清洗池、二級(jí)清洗池和三級(jí)清洗池，還包括：放置架，其能夠收納放置多個(gè)外延片并通過機(jī)械臂將外延片依次放入一級(jí)清洗池、二級(jí)清洗池和三級(jí)清洗池內(nèi)進(jìn)行清洗。本發(fā)明還公開了外延片表面預(yù)處理方法，包括以下步驟：一級(jí)清洗、二級(jí)清洗、三級(jí)清洗和干燥。本發(fā)明通過浮漂在浮力作用下帶動(dòng)壓板壓在外延片圓周上，避免了外延片在浸泡過程中發(fā)生漂浮的問題，通過噴淋孔處于靠近對應(yīng)外延片圓周的位置處，去離子水通過第一斜孔和第二斜孔以傾斜的方式向外延片兩側(cè)噴淋，增加對外延片的噴淋覆蓋面，提高對外延片的清洗效果。

技術(shù)研發(fā)人員：徐新華
受保護(hù)的技術(shù)使用者：浙江麗水中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/21