專利名稱：透明雙軸取向聚烯烴薄膜的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及可激光標記的透明取向聚烯烴薄膜。
先有技術公開了標記聚合物材料的方法。這類材料含有輻射敏感添加劑，在該材料暴露于特定波長范圍內的輻射下時該添加劑造成物質褪色。這些添加劑稱為激光顏料。
先有技術還公開了聚烯烴薄膜，為用于某些領域將這些薄膜雙軸取向，且這些聚烯烴薄膜通常具有厚度3至10μm。已知借助合適的添加劑改進雙軸取向薄膜。這類添加劑可改進摩擦、抗靜電性能、熱穩(wěn)定性、外觀或其它薄膜性能。然而，這些添加劑必須不損害透明薄膜的外觀，特別是必須不增加霧度或降低光澤。
因此，本發(fā)明目的是提供一種可激光標記的透明雙軸取向聚丙烯薄膜。特別是，該薄膜可借助合適方法采用各種波長的激光標記。該激光束必須在薄膜中不產(chǎn)生任何穿孔。同時，該薄膜具有高透明性和均勻外觀，同時無魚眼和氣泡。
此目的通過包括至少一含具有不規(guī)則表面結構且無金屬氧化物涂層的層狀硅酸鹽層(以下稱為層’)的透明單或多層取向聚烯烴薄膜實現(xiàn)。從屬權利要求表示優(yōu)選的實施方案。
該薄膜層通常包括至少85wt％的，優(yōu)選90至＜100wt％的，特別是98至＜100wt％的聚烯烴，優(yōu)選丙烯聚合物，在每情況下基于層計。
聚烯烴為，例如，聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯或具有2至8個碳原子的烯烴的共聚物，其中聚乙烯和聚丙烯是優(yōu)選的。
通常，丙烯聚合物包括至少90wt％，優(yōu)選94至100wt％，特別是98至100wt％的丙烯。相應的至多10wt％或0至6wt％或0至2wt％的共聚單體含量(若存在)，通常由乙烯和丁烯構成。每一情況下wt％數(shù)據(jù)都基于丙烯聚合物。
具有熔點140至170℃、優(yōu)選155至165℃，熔體流動指數(shù)(根據(jù)DIN53735在荷載21.6N和230℃下測量)1.0至10g/10min、優(yōu)選1.5至6.5g/10min的全同立構丙烯均聚物是優(yōu)選的。該聚合物的正丁烷可溶含量通常為1至10wt％，優(yōu)選2至5wt％，按起始聚合物計。
丙烯聚合物的分子量分布可根據(jù)應用領域在寬范圍內變化。重均分子量Mw與數(shù)均分子量Mn之比通常為1至15。
在本發(fā)明薄膜的優(yōu)選實施方案中，重均分子量Mw與數(shù)均分子量Mn之比通常為2至10，特別優(yōu)選2至6。這種層中的丙烯均聚物的窄分子量分布例如通過使其過氧化降解或通過借助合適的金屬茂催化劑制備聚丙烯實現(xiàn)。
在本發(fā)明優(yōu)選的實施方案中，使用的聚丙烯為高全同立構的。對于這類高全同立構聚丙烯，聚丙烯的正庚烷不溶含量的鏈全同指數(shù)(通過13C-NMR光譜測定)為至少95％，優(yōu)選96至99wt％。
薄膜的至少一層包括基于具有不規(guī)則表面且無金屬氧化物涂層的一種或多種層狀硅酸鹽的顏料是必需的。
該層通常包括0.01至4wt％，優(yōu)選0.5至2.5wt％，特別是0.8至1.5wt％的顏料，按薄膜總重量計。已發(fā)現(xiàn)，顏料的濃度(wt％)取決于加顏料的一層或多層的相應層厚度。厚層在相當?shù)偷臐舛认嘛@示與較薄層在較高濃度下相同的效果。因此優(yōu)選的是，對于每單位薄膜面積，顔料的濃度為0.1至1.0g/m2，優(yōu)選0.1至0.7g/m2，特別是0.10至0.30g/m2。這種面積濃度足以確保激光束不能通過無阻礙的薄膜，而是打擊加顏料層中的顏料顆粒。此面積濃度范圍與薄膜厚度、層厚度和層數(shù)無關。
基于層狀硅酸鹽的顏料由具有板狀結構的層狀硅酸鹽制備。特別合適的層狀硅酸鹽是云母，其中白云母、黑云母、金云母、蛭石和合成云母是特別優(yōu)選的。這些本身已知的起始物質也用于制備珠光顏料。為改進層狀硅酸鹽的表面結構，將其按照DE4441223中的描述進行干磨工藝。研磨工藝期間的條件按這樣的方式選取，即將原來光滑的層狀硅酸鹽表面結構基本上完全破壞，這樣干磨過的顏料具有粗糙表面結構。
例如，在干磨工藝中，將云母加入攪拌球磨機中并借助例如由剛玉制備的研磨介質連續(xù)粉碎。研磨條件可通過本領域熟練技術人員按照粉碎片狀云母顏料已知的方式確定，而不需要另外的發(fā)明步驟，同時原來的光滑表面被明顯粗糙化。在該工藝中將顏料結構的片狀特性保持在特定程度下。可相應控制的所有已知干磨方法基本上都是合適的。
然后將干磨顏料優(yōu)選通過空氣分級法進行分級。這類方法是已知的。按照現(xiàn)有技術，隨后對顏料設置合適的金屬氧化物涂層或金屬氧化物水合物。由此獲得顏料的高著色密度和高遮蓋能力。這些性能對于很多應用是特別合適的。
作為本發(fā)明部分，已注意到對干膜顏料未設置這類涂層是有利的。包括未涂布激光顏料的取向薄膜是有利的，因為對于使用涂布顏料的情況，薄膜變渾濁越低，在透明薄膜中以白色標記形式的激光標記更容易觀察。此外，包括未涂布顏料的取向薄膜的所需透明度令人吃驚地基本上保持不變。當加入涂布顏料時，該取向薄膜變得非常渾濁。
已發(fā)現(xiàn)，為獲得透明的可激光標記的取向薄膜，必須進行研磨以生成粗糙表面-但不涂布金屬氧化物。認為通過研磨產(chǎn)生的顏料的粗糙和不均勻表面按這樣的方式改進聚合物與顏料表面的粘結力在拉伸工藝期間不發(fā)生分離和形成空泡。在研磨后涂布金屬氧化物的層狀硅酸鹽導致薄膜變得非常渾濁。
作為本發(fā)明部分，已進一步觀察到對于給定激光顏料可在實驗上更容易測定獲得薄膜可激光標記性與光學性能的平衡比例的最佳顆粒尺寸。這里應選取不太小的平均顆粒尺寸。隨著平均顆粒尺寸減小，當?shù)陀谧罴哑骄w粒尺寸時薄膜的渾濁度增加。已進一步發(fā)現(xiàn)，可激光標記性能也取決于此平均顆粒尺寸。若激光波長比顆粒直徑大3個數(shù)量級，則激光的敏感性降低。例如，當使用CO2激光時，干磨云母的最佳平均顆粒尺寸為4.5至5.5μm，由通過電子顯微鏡(SEM-IPS)進行圖像分析測定。
除了本發(fā)明必須的激光顏料外，該層在每一情況還可包括有效量的常規(guī)添加劑如中和劑、穩(wěn)定劑、抗靜電劑和/或潤滑劑。
優(yōu)選的抗靜電劑為堿金屬鏈烷磺酸鹽，聚醚改性的，即乙氧基化和/或丙氧基化聚二有機基硅氧烷(聚二烷基硅氧烷、聚烷基苯基硅氧烷等)，和/或含可被羥(C1-C4)烷基取代的10至20個碳原子的脂族基團的基本上為直鏈并且飽和的脂族叔胺，其中在烷基中具有10至20個碳原子，優(yōu)選12至18個碳原子的N，N-雙(2-羥乙基)烷基胺特別合適?？轨o電劑的有效量為約0.05至0.5wt％。優(yōu)選還將0.03至0.5wt％的甘油單硬脂酸酯用作抗靜電劑。
潤滑劑為高級脂肪酸酰胺、高級脂肪酸酯、石蠟和金屬皂、及聚二甲基硅氧烷。潤滑劑的有效量為0.01至3wt％，優(yōu)選0.02至1wt％。特別合適的是在層中加入0.01至0.25wt％的高級脂肪酸酰胺。特別合適的脂族酸酰胺是芥酸酰胺。聚二甲基硅氧烷，特別是粘度5000至1,000,000mm2/s的聚二甲基硅氧烷的加入量優(yōu)選為0.02至2.0wt％。
可使用的穩(wěn)定劑為對乙烯、丙烯的聚合物和其它烯烴聚合物具有穩(wěn)定作用的常規(guī)化合物。其加入量為0.05至2wt％。特別合適的是酚穩(wěn)定劑、堿金屬或堿土金屬硬脂酸鹽和/或堿金屬或堿土金屬碳酸鹽。酚穩(wěn)定劑優(yōu)選為0.1至0.6wt％，特別是0.15至0.3wt％并具有分子量大于約500g/mol。四-3-(3，5-二叔丁基-4-羥苯基)丙酸季戊四醇酯和1，3，5-三甲基-2，4，6-三(3，5-二叔丁基-4-羥芐基)苯是特別有利的。
中和劑優(yōu)選為dihydrotalcite、硬脂酸鈣和/或碳酸鈣，其具有平均顆粒尺寸至多0.7m、絕對顆粒尺寸低于10μm和比表面積至少40m2/g。
上述各％數(shù)據(jù)按層重量計。
在優(yōu)選的實施方案中，本發(fā)明的聚烯烴薄膜包括涂于含激光顏料層或中間層的一面或兩面上的具有2至10個碳原子的烯烴的聚合物頂層。
頂層的這類烯烴聚合物的例子為丙烯均聚物，乙烯與丙烯或乙烯與1-丁烯或丙烯與1-丁烯的共聚物，乙烯與丙烯和1-丁烯的三元聚合物，或所述均聚物、共聚物和三元聚合物中兩種或多種的混合物，或所述均聚物、共聚物和三元聚合物中兩種或多種(若需要)與所述均聚物、共聚物和三元聚合物中一種或多種的共混物；其中特別優(yōu)選具有乙烯含量1至10wt％、優(yōu)選2.5至8wt％的無規(guī)乙烯-丙烯共聚物，或具有丁烯含量2至25wt％、優(yōu)選4至20wt％的無規(guī)丙烯-1-丁烯共聚物，每一情況下都按共聚物的總重量計，或具有乙烯含量1至10wt％、優(yōu)選2至6wt％和1-丁烯含量2至20wt％、優(yōu)選4至20wt％的無規(guī)乙烯-丙烯-1-丁烯三元聚合物，在每一情況下都按三元聚合物總重量計，或具有乙烯含量0.1至7wt％及丙烯含量50至90wt％和1-丁烯含量10至40wt％的乙烯-丙烯-1-丁烯三元聚合物與丙烯-1-丁烯共聚物的共混物，在每一情況下按聚合物共混物的總重量計。
用于頂層中的上述共聚物和/或三元聚合物通常具有熔體流動指數(shù)1.5至30g/10min，優(yōu)選3至15g/10min。熔點為120至140℃。上述共聚物與三元聚合物的共混物具有熔體流動指數(shù)5至9g/10min和熔點120至150℃。所有上述熔體流動指數(shù)在230℃和力21.6N下(DIN53735)下測量。
若需要，所有上述頂層聚合物可按與上述層相同的方式基本使用相同的過氧化物進行過氧化降解。頂層聚合物的降解因子通常為3至15，優(yōu)選6至10。
若需要，可將上述用于層的添加劑如抗靜電劑、中和劑、潤滑劑和/或穩(wěn)定劑和若需要另外的抗結塊劑加入頂層中。但wt％數(shù)據(jù)按相應的頂層重量計。
合適的抗結塊劑為無機添加劑如二氧化硅、碳酸鈣、硅酸鎂、硅酸鋁、磷酸鈣等，和/或不相容有機聚合物如聚酰胺、聚酯、聚碳酸酯等，優(yōu)選苯并胍胺-甲醛聚合物、二氧化硅和碳酸鈣?？菇Y塊劑的有效量為0.1至2wt％，優(yōu)選0.1至0.8wt％。平均粒徑為1至6μm，特別是2至5μm，其中球形顆粒(如EP-A-0236945和DE-A-3801535中描述的)是特別合適的。
本發(fā)明的薄膜包括至少一層含激光顏料的層。該含激光顏料的層優(yōu)選為三-或五-層的實施方案的底層。若需要，該含顏料的層也可為四-或五層的實施方案的中間層。在另一實施方案中，將顏料同時加入底層和中間層中。本發(fā)明的另一變化是其中除含顏料的底層和/或中間層外頂層也包括激光顏料的結構。
頂層的厚度大于0.1μm，優(yōu)選為0.3至3μm，特別是0.4至1.5μm，其中兩面上的頂層可具有相同或不同的厚度。
中間層可由上述用于底層的烯烴聚合物構成。中間層可包括上述用于各層的常規(guī)添加劑，如抗靜電劑、中和劑、潤滑劑和/或穩(wěn)定劑和若需要另外的抗結塊劑。中間層的厚度大于0.3μm，優(yōu)選為1.0至15μm，特別是1.5至10μm。
本發(fā)明聚烯烴薄膜的總厚度可在寬范圍內變化并取決于預定的用途。厚度優(yōu)選為4至60μm，特別是5至50μm，優(yōu)選10至35μm，該層構成總薄膜厚度的約40至100％。
本發(fā)明進一步涉及通過本領域已知的共擠出法生產(chǎn)聚烯烴薄膜的方法。
該方法通過如下步驟進行將相應于薄膜各層的熔體通過平膜模頭共擠出，將所得薄膜從一個或多個輥上取出進行固化，隨后拉伸(取向)該薄膜，對該拉伸薄膜進行熱定型，和若需要對要處理的表面層進行電暈或熱處理。
雙軸拉伸(取向)通常順序或同時進行。順序拉伸通常連續(xù)進行，優(yōu)選其中拉伸首先在縱向(機器方向)，然后在橫向(與機器方向垂直的方向)進行的連續(xù)雙軸拉伸。同時拉伸可通過平膜法或通過吹膜法進行。生產(chǎn)薄膜的進一步描述涉及平膜擠出和隨后進行順序拉伸的例子。
首先，作為常規(guī)共擠出法，將各層的聚合物或聚合物混合物壓制并在擠出機中液化，可以非必要地加入已經(jīng)存在于聚合物或聚合物混合物中的激光顏料和任何其它添加劑。然后將這些熔體同時強制通過平膜模頭(縫口模頭)，然后將擠出的多層薄膜從一個或多個引出輥上引出，在此期間將其冷卻和固化。
然后將按此方式獲得的薄膜在相對于擠出機方向的縱向和橫向拉伸，這樣使分子鏈取向?？v向拉伸借助在對應于目標拉伸比例的不同速度下運轉的兩個輥有利地進行，橫向拉伸借助合適的拉幅架有利地進行?？v向拉伸比為4至8，優(yōu)選5至6。橫向拉伸比為5至10，優(yōu)選7至9。
薄膜拉伸后接著將其進行熱定形(熱處理)，其中將薄膜在100至160℃下保持約0.1至10秒。隨后將該薄膜按常規(guī)方式借助卷繞裝置卷繞。
已證明特別有利的是，將用于冷卻和固化擠出薄膜的一個或多個引出輥，借助加熱和冷卻環(huán)路保持在溫度10至100℃，優(yōu)選20至50℃下。
進行縱向和橫向拉伸時的溫度可在寬范圍內變化并取決于薄膜的所需性能。通常，縱向拉伸優(yōu)選在80至150℃下進行，橫向拉伸優(yōu)選在120至170℃下進行。
雙軸拉伸后，將薄膜的一面或兩面優(yōu)選通過一種已知方法進行電暈-或火焰處理。處理強度通常為37至50mN/m，優(yōu)選39至45mN/m。
這里用電暈處理作為例子描述薄膜的表面處理。
在電暈處理中，有利的工藝是將薄膜在用作電極的兩個導電元件之間通過，其中將通常為交流電壓這樣的高電壓(約5至20kV和約5至30kHz)施于兩個能夠出現(xiàn)濺射或電暈放電的兩個電極之間。由于濺射或電暈放電，薄膜表面上的空氣電離并與薄膜表面分子反應，造成在基本上為非極性聚合物基體上形成極性內含物。
本發(fā)明的薄膜可通過本身已知的方法進行激光書寫。為此，將薄膜引入脈沖激光，優(yōu)選脈沖CO2激光或NdYAG或準分子激光的光束路徑中。選取的激光取決于顏料具有最大可能的吸收截面時的波長。標記的陰影和色彩強度取決于照射時間或照射的能量密度。
原料和薄膜用下面的測量方法表征熔體流動指數(shù)熔體流動指數(shù)按照DIN53735在荷載21.6N和230℃下測量。
平均顆粒尺寸平均顆粒尺寸通過圖像分析測定。為此，將樣品分散于水中以使顆粒分離并涂于玻璃片上。然后將該樣品干燥并在掃描電子顯微鏡下檢測。為此，借助合適設定的亮度和對比度用肉眼觀察呈灰暗圖像的各個顆粒。在10mm2面積內，測量分離顆粒的相應面積，并以等面積的圓的直徑形式給出顆粒直徑。將這些測量值通過尺寸范圍分級并給出顆粒尺寸分布。測定作為分布曲線的平均值的平均顆粒尺寸。
熔點DSC測量值，熔化曲線的最大值，加熱速率20℃/min。
霧度薄膜的霧度按照ASTM-D1003-52測量。
光澤光澤按照DIN67530測定。測量反射鏡值作為薄膜表面的光學參數(shù)。按照ASTM-D523-78和ISO2813標準，入射角設定為60℃。將光束以設定的入射角照射到平面試驗表面上并如此反射或散射。顯示作為比例電量的入射到光電子接受器上的光束。測量值為無數(shù)量級值，并且必須與入射角一起說明。
分子量測定平均分子量Mw和Mn及平均分子量分散度Mw/Mn按照DIN55672，Part1，借助凝膠滲透色譜測定。用鄰二氯苯代替THF作為洗脫液。由于要研究的烯烴聚合物在室溫下不溶，整個測量在高溫(≈135℃)下進行。
本發(fā)明通過下面的工作例解釋制備干磨云母將具有片直徑約2cm的天然出現(xiàn)的云母在具有直徑5mm的剛玉研磨元件的工業(yè)攪拌球磨中干磨。然后將該研磨過的物質在空氣分級器中按這樣的方式分級，即獲得具有平均顆粒直徑約5μm和截斷直徑15μm的成份。將按此方式獲得的顏料直接(即不再進行金屬氧化物涂布)加入具有熔點166℃和熔體流動指數(shù)3.4g/10min的丙烯聚合物中。按此方式，獲得包括60wt％丙烯均聚物和40wt％干磨的無金屬氧化物云母(以下稱為激光顏料)的母料。
實施例1通過共擠出接著在縱向和橫向逐步取向生產(chǎn)具有對稱結構和總厚度30μm的透明五層薄膜。各頂層具有厚度0.7μm。各中間層具有厚度5μm。
底層96.74wt％的具有熔點166℃和熔體流動指數(shù)3.4g/10min的全同立構丙烯均聚物，3.00wt％上述包括60wt％丙烯均聚物和40wt％的激光顏料的母料(相當于按該層計激光顏料的含量為1.2wt％)，0.14wt％Armostat和0.12wt％芥酸酰胺。
中間層100wt％具有熔點166℃和熔體流動指數(shù)3.4g/10min的全同立構丙烯均聚物。
頂層98.8wt％具有乙烯含量3wt％和丁烯含量7wt％(余量為丙烯)的乙烯-丙烯-T烯三元無規(guī)聚合物，0.2wt％具有平均顆粒尺寸2μm的抗結塊劑SiO2。
各方法步驟中的生產(chǎn)條件如下
擠出 溫度 底層 260℃中間層 255℃頂層 240℃引出輥溫度 20℃縱向拉伸 溫度 110℃縱向拉伸比 5.5橫向拉伸 溫度 160℃橫向拉伸比 9定形 溫度 150℃聚流 5％實施例2按照實施例1生產(chǎn)薄膜。然而與實施例1相反，該薄膜不合中間層。因此該三層實施方案的薄膜厚度僅為20μm。與實施例1相比，組合物的其余組成和生產(chǎn)條件未改變。
實施例3按照實施例1生產(chǎn)薄膜。與實施例1相反，底層不含激光顏料。取而代之的是，將按該層重量計2.2wt％的激光顏料通過40％的母料(即5.6％母料)加入中間層中。與實施例1相比，組合物的其余組成和生產(chǎn)條件未改變。
實施例4按照實施例1生產(chǎn)薄膜。與實施例1相反，將1.95wt％的40％母料(相當于按底層重量計其含量為0.78wt％)加入底層中。此外，將1.95wt％的40％母料(相當于按相應中間層重量計其含量為0.78wt％)加入相應中間層中。與實施例1相比，組合物的其余組成和生產(chǎn)條件未改變。
實施例5按照實施例1生產(chǎn)薄膜，但底層現(xiàn)在僅包括0.6wt％的激光顏料。與實施例1相比，組合物的其余組成和生產(chǎn)條件未改變。
比較例1按照實施例2生產(chǎn)薄膜，與實施例1相反，該薄膜現(xiàn)在包含具有光滑片狀結構的濕磨云母，而非具有粗糙表面且無金屬氧化物涂層的干磨云母。為進行濕磨，將該片狀結構的云母的濕懸浮液在相互相對運動的兩個表面之間研磨。這里將該云母大部分通過剪切力粉碎，同時基本上保持原始片狀。濕磨云母的平均顆粒直徑也為約5μm，截斷直徑為15μm。與實施例1相比，組合物的其余組成和生產(chǎn)條件未改變。
比較例2按照實施例1生產(chǎn)薄膜，與實施例1相反，該薄膜現(xiàn)在包含具有TiO2涂層的干磨云母，而非具有粗糙表面且無金屬氧化物涂層的干磨云母。為此，將云母在(按如上所述)干磨后懸浮于水中并在攪拌下溫熱至約75℃。借助10％鹽酸設定pH為2.2。隨后將TiCl4溶液加入云母懸浮液中，同時借助32％氫氧化鈉溶液使pH保持恒定。當已加入TiCl4溶液時，用氫氧化鈉設定pH7，并繼續(xù)攪拌。然后將該混合物用水洗滌至無氯，并在110℃下干燥。隨后將這些顏料在約700℃下灼燃約1小時。與實施例1相比，組合物的其余組成和生產(chǎn)條件未改變。
將按照這些實施例和比較例生產(chǎn)的薄膜借助CO2激光在波長9.3μm和能量密度5至7J/cm2下照射0.2μsec并用條形碼標記。將來自實施例和比較例的結果在下表中給出。
表
E＝實施例，CE＝比較例
權利要求
1.一種包括至少一層的單-或多層的透明取向聚烯烴薄膜，其特征在于該薄膜在至少一層中包括具有不規(guī)則表面結構且無金屬氧化物涂層的層狀硅酸鹽。
2.根據(jù)權利要求1的聚烯烴薄膜，其特征在于將該片型層狀硅酸鹽進行干磨。
3.根據(jù)權利要求1和/或2的聚烯烴薄膜，其特征在于干磨法按產(chǎn)生粗糙結構表面這樣的方式進行。
4.根據(jù)權利要求1至3一項或多項的聚烯烴薄膜，其特征在于研磨過的層狀硅酸鹽無光澤。
5.根據(jù)權利要求1至4一項或多項的聚烯烴薄膜，其特征在于層狀硅酸鹽為云母，優(yōu)選白云母、黑云母、金云母、蛭石和合成云母。
6.根據(jù)權利要求1至5一項或多項的聚烯烴薄膜，其特征在于云母已非必要地進行灼燃。
7.根據(jù)權利要求1至6一項或多項的聚烯烴薄膜，其特征在于平均顆粒尺寸為1至10μm，優(yōu)選2至8μm。
8.根據(jù)權利要求1至7一項或多項的聚烯烴薄膜，其特征在于層狀硅酸鹽處于底層和/或一層中間層和/或一層頂層中。
9.根據(jù)權利要求1至8一項或多項的聚烯烴薄膜，其特征在于層狀硅酸鹽以濃度0.1至1.0g/m2，優(yōu)選0.1至0.7g/m2，特別是0.10至0.30g/m2存在于薄膜中。
10.根據(jù)權利要求1至9一項或多項的聚烯烴薄膜，其特征在于膜具有厚度3至100μm，優(yōu)選5至50μm。
11.根據(jù)權利要求1至10任何一項的薄膜用于借助激光，優(yōu)選借助CO2激光或借助NdYAG激光或借助準分子激光進行標記的用途。
12.根據(jù)權利要求1至10的取向激光標記薄膜作為包裝膜的用途。
13.一種借助激光標記根據(jù)權利要求1至10的薄膜的方法。
14.一種生產(chǎn)根據(jù)權利要求1的聚烯烴薄膜的方法，其特征在于縱向取向以縱向拉伸比3∶1至9∶1進行，和/或橫向取向以橫向拉伸比4∶1至10∶1進行。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種包括至少一層的單－或多層的透明取向聚烯烴薄膜,在該至少一層中包括具有不規(guī)則表面結構且無金屬氧化物涂層的層狀硅酸鹽。
文檔編號B29L9/00GK1340078SQ00803623
公開日2002年3月13日 申請日期2000年2月3日 優(yōu)先權日1999年2月10日
發(fā)明者W·拉斯普, D·赫特 申請人:特拉絲帕番有限公司