剝離膜及剝離膜的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種具有平滑性且耐粘連性優(yōu)良的剝離膜及剝離膜的制造方法。本發(fā)明的剝離膜(1)具有由聚酯薄膜構(gòu)成的基材(11)、和在基材(11)的一表面(11a)上涂敷剝離劑層形成用組成物而設(shè)置的剝離劑層(12)，基材(11)的算術(shù)平均粗糙度(Ra)為5nm以上且40nm以下，最大突起高度(Rp)為50nm以上且1000nm以下，剝離劑層(12)的厚度為0.05μm以上且0.35μm以下，由使用原子間力顯微鏡測(cè)定的力曲線算出的剝離劑層(12)的粘合能量為15mJ/m2以上且35mJ/m2以下。
【專利說(shuō)明】
剝離膜及剝離膜的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及剝離膜及剝離膜的制造方法，詳細(xì)地，涉及以聚酯薄膜為基材的剝離 膜及剝離膜的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 具有剝離劑層的剝離膜為了保護(hù)粘接材料的粘接面而在粘接劑層上層積，或作用 用于將樹(shù)脂膜及陶瓷基材多層板(ceramic green sheet)成膜的載體而使用（例如參照專 利文獻(xiàn)1)。該專利文獻(xiàn)1記載的剝離膜中，在聚酯薄膜的一表面上設(shè)置的脫模層包含二氧化 硅粒子等不活性微粒子。該剝離膜由于通過(guò)脫模層中包含的不活性微粒子使脫模層的表面 粗糙度適當(dāng)變得粗糙，故而能夠防止在將剝離膜卷成輥狀時(shí)產(chǎn)生的剝離膜的表背緊密貼合 的粘附現(xiàn)象（以下、也稱為"粘連"（文口5/導(dǎo)^夕''))。
[0003] 專利文獻(xiàn)1:(日本)特開(kāi)2004 - 255704號(hào)公報(bào)
[0004] 但是，在專利文獻(xiàn)1記載的剝離膜中，由于在脫模層中含有不活性微粒子，故而表 面粗糙度提高，耐粘連性優(yōu)良，另一方面，作為相對(duì)于粘接劑的剝離力，在不活性微粒子的 影響下剝離力增加，難以實(shí)現(xiàn)對(duì)應(yīng)于目的的剝離力的控制和耐粘連性兩方面。因此，在專利 文獻(xiàn)1記載的剝離膜中，脫模層的形成使用的脫模層形成用組成物的種類受到限制，具有作 為剝離膜不能夠得到足夠的性能的情況。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明是鑒于這樣的情況而設(shè)立的，其目的在于提供一種具有平滑性且耐粘連性 優(yōu)良的剝離膜及剝離膜的制造方法。
[0006] 本發(fā)明的剝離膜具有：由聚酯薄膜構(gòu)成的基材;在所述基材的一表面上涂敷剝離 劑層形成用組成物而設(shè)置的剝離劑層，所述基材的算術(shù)平均粗糙度Ra為5nm以上且40nm以 下，最大突起高度Rp為50nm以上且lOOOnm以下，所述剝離劑層的厚度為0.05μηι以上且0.35μ m以下，由使用原子間力顯微鏡測(cè)定的力曲線算出的所述剝離劑層的粘合能量為15mJ/m2以 上且35mJ/m2以下。
[0007]根據(jù)該剝離膜，由于算術(shù)平均粗糙度Ra為5nm以上且40nm以下，最大突起高度Rp為 50nm以上且lOOOnm以下，故而基材的表面及剝離劑層的表面粗糙度為適當(dāng)?shù)姆秶軌蚴?在基材上設(shè)置的剝離劑層的表面平滑，并且可得到適當(dāng)?shù)哪驼尺B性。而且，由于剝離劑層的 厚度為0.05μπι以上且0.35μπι以下，故而能夠降低由剝離劑層的厚度不均導(dǎo)致的剝離力的偏 差，并且不損害剝離劑層表面的外觀(涂覆面狀態(tài)），耐粘連性提高。另外，由于剝離劑層的 粘合能量為15mJ/m2以上且35mJ/m2以下，故而為適當(dāng)?shù)恼硰椥泽w，在剝離劑層中不含有不活 性微粒子，耐粘連性提高。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)具有平滑性且耐粘連性優(yōu)良的剝離膜。
[0008] 在本發(fā)明的剝離膜中，優(yōu)選的是，所述剝離劑層形成用組成物含有有機(jī)聚硅氧烷。 通過(guò)該構(gòu)成，相對(duì)于粘接劑可得到適當(dāng)?shù)膭冸x性。
[0009] 在本發(fā)明的剝離膜中，優(yōu)選的是，所述基材的厚度為ΙΟμπι以上且150μπι以下。雖然 依賴于使用用途，但通過(guò)該構(gòu)成，能夠提高基材的加工性并且降低基材的成本。
[0010] 本發(fā)明的剝離膜的制造方法具有如下的工序，即，在算術(shù)平均粗糙度Ra為5nm以上 且40nm以下、最大突起高度Rp為50nm以上且lOOOnm以下的由聚酯薄膜構(gòu)成的基材上涂敷剝 離劑層形成用組成物而設(shè)置厚度為〇.〇5μπι以上且0.35μπι以下的剝離劑層，得到由使用原子 間力顯微鏡測(cè)定的力曲線算出的所述剝離劑層的粘合能量為15mJ/m2以上且35mJ/m2以下的 剝離膜。
[0011] 根據(jù)該剝離膜的制造方法，由于算術(shù)平均粗糙度Ra為5nm以上且40nm以下，最大突 起高度Rp為50nm以上且lOOOnm以下，故而基材的表面及剝離劑層的表面粗糙度為適當(dāng)?shù)姆?圍，能夠使在基材上設(shè)置的剝離劑層的表面平滑，并且可得到適當(dāng)?shù)哪驼尺B性。而且，由于 剝離劑層的厚度為〇.〇5μπι以上且0.35μπι以下，故而能夠降低由剝離劑層的厚度不均導(dǎo)致的 剝離力的偏差，并且不損害剝離劑層表面的外觀，耐粘連性提高。另外，由于剝離劑層的粘 合能量為15mJ/m2以上且35mJ/m2以下，故而為適當(dāng)?shù)恼硰椥泽w，在剝離劑層中不含有不活性 微粒子，耐粘連性提高。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)具有平滑性且耐粘連性優(yōu)良的剝離膜。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明，能夠?qū)崿F(xiàn)具有平滑性且耐粘連性優(yōu)良的剝離膜及剝離膜的制造方 法。
【附圖說(shuō)明】
[0013] 圖1是本發(fā)明一實(shí)施方式的剝離膜的示意剖面圖。
[0014] 標(biāo)記說(shuō)明
[0015] 1:剝離膜
[0016] 11:基材
[0017] 11a:表面
[0018] 12:剝離劑層
[0019] 12a:表面
【具體實(shí)施方式】
[0020] 以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的一實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。另外，本發(fā)明不限于以下 的實(shí)施方式，能夠適當(dāng)變更進(jìn)行實(shí)施。
[0021] (剝離膜1)
[0022] 圖1是本發(fā)明一實(shí)施方式的剝離膜1的示意剖面圖。如圖1所示，本實(shí)施方式的剝離 膜1具有：由聚酯薄膜構(gòu)成的基材11、在該基材11的一主面11a上涂覆剝離劑層形成用組成 物而設(shè)置的剝離劑層12。該剝離膜1能夠在芯材上輥狀地卷繞而進(jìn)行保管。
[0023]就本實(shí)施方式的剝離膜1而言，由使用原子間力顯微鏡測(cè)定的力曲線算出的剝離 劑層12的粘合能量為15mJ/m2以上且35mJ/m2以下。在該剝離膜1中，由于剝離劑層12的粘合 能量為15mJ/m2以上且35mJ/m2以下，故而剝離劑層12成為適當(dāng)?shù)恼硰椥泽w，在剝離劑層12中 不含有不活性微粒子，耐粘連性提高。因此，剝離膜1具有平滑性且耐粘連性優(yōu)良，能夠適合 用作輥狀使用的剝離膜。從可得到上述的效果的方面來(lái)看，剝離劑層12的粘合能量為15mJ/ m2以上，優(yōu)選為16m J/m2以上，更優(yōu)選為18m J/m2以上，另外，為3 5m J/m2以下，優(yōu)選為30m J/m2以 下，更優(yōu)選為25mJ/m2以下?？紤]以上方面，剝離劑層12的粘合能量為15mJ/m2以上且35mJ/m 2 以下，優(yōu)選為16mJ/m2以上且30mJ/m2以下，更優(yōu)選為18mJ/m2以上且25mJ/m 2以下。
[0024]在本實(shí)施方式中，剝離劑層12的粘合能量例如在原子間力顯微鏡即探針顯微鏡 (商品名：SPM-9700、島津制作所社制造)上安裝硅探針(Team nanotec制造、LRCH曲率半徑 為250nm、彈簧常量為0.2N/m)，基于以600m/s實(shí)施自攻而得到的力曲線，以JKR 2點(diǎn)法為基 準(zhǔn)而算出的。以下，對(duì)本實(shí)施方式的剝離膜1的各種構(gòu)成要素進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。
[0025] 作為剝離膜1的厚度，優(yōu)選為ΙΟμπι以上，更優(yōu)選為15μηι以上，并且優(yōu)選為200μηι以 下，更優(yōu)選為125μπι以下。
[0026] (基材11)
[0027] 作為基材11，可使用各種聚酯薄膜。聚酯薄膜的耐熱性優(yōu)良，另外，ΡΡ(聚丙烯)及 ΡΕ(聚乙烯)那樣的縮孔少，品質(zhì)優(yōu)良。作為聚酯薄膜，例如優(yōu)選聚對(duì)苯二甲酸乙酯、聚對(duì)苯 二甲酸丁二醇酯及聚萘乙烯等聚酯薄膜。另外，作為聚酯薄膜，更加優(yōu)選雙軸延伸聚對(duì)苯二 甲酸乙酯膜。
[0028]作為基材11，使用算術(shù)平均粗糙度Ra為5nm以上且40nm以下的材料。由于基材11的 算術(shù)平均粗糙度Ra為5nm以上，基材11的表面及剝離劑層12的表面適當(dāng)變得粗糙，耐粘連性 提高。另外，由于基材11的算術(shù)平均粗糙度Ra為40nm以下，基材11的表面及剝離劑層12的表 面適度變得平滑，故而能夠使在基材11上設(shè)置的剝離劑層12的表面平滑。從得到上述的效 果方面來(lái)看，作為基材11的算術(shù)平均粗糙度Ra，為5nm以上，優(yōu)選為10nm以上，更優(yōu)選為15nm 以上，并且為40nm以下，優(yōu)選為38nm以下，更優(yōu)選為37nm以下?？紤]以上方面，作為基材11的 算術(shù)平均粗糙度Ra，為5nm以上且40nm以下，優(yōu)選為10nm以上且38nm以下，更優(yōu)選為15nm以 上且37nm以下。
[0029]另外，作為基材11，使用最大突起高度Rp為50nm以上且lOOOnm以下的材料。由于基 材11的最大突起高度Rp為50nm以上，基材11的表面及剝離劑層12的表面適度變得粗糙，耐 粘連性提高。另外，由于基材11的最大突起高度Rp為lOOOnm以下，基材11的表面及剝離劑層 12的表面適度變得平滑，故而能夠使在基材11上設(shè)置的剝離劑層12的表面平滑。由得到上 述的效果的觀點(diǎn)來(lái)看，作為基材11的最大突起高度Rp，為50nm以上，優(yōu)選為lOOnm以上，更優(yōu) 選為150nm以上，并且為lOOOnm以下，優(yōu)選為500nm以下，更優(yōu)選為300nm以下?？紤]以上方 面，作為基材11的最大突起高度Rp，為50nm以上且lOOOnm以下，優(yōu)選為lOOnm以上且500nm以 下，更優(yōu)選為150nm以上且300nm以下。
[0030] 基材11的厚度T1可根據(jù)用途適當(dāng)變更?；?1的厚度T1從維持剝離膜1的強(qiáng)度的 觀點(diǎn)、以及在剝離膜1上層積的層的沖裁加工適用性及確保其他使用時(shí)的處理性的觀點(diǎn)來(lái) 看，優(yōu)選為lOwn以上，更優(yōu)選為20μηι以上，最好為30μηι以上，并且優(yōu)選為200μηι以下，更優(yōu)選 為150μπι以下，最好為125μπι以下?？紤]以上方面，基材11的厚度Τ1優(yōu)選為ΙΟμπι以上且200μπι 以下，更優(yōu)選為20μηι以上且150μηι以下，最好為30μηι以上且125μηι以下。
[0031] (剝離劑層12)
[0032] 剝離劑層12例如由包含脫模劑的剝離劑層形成用組成物的固化物形成。作為剝離 劑層形成用組成物，若能夠?qū)冸x劑層12賦予將在剝離劑層12上層積的任意的層從剝離膜 10剝離的功能，則不作特別限制。作為脫模劑，例如列舉硅樹(shù)脂、長(zhǎng)鏈烷基樹(shù)脂以及醇酸樹(shù) 脂等。
[0033] 作為硅酮類脫模劑，列舉附加反應(yīng)型硅酮、縮合反應(yīng)型硅酮、能量線固化性硅酮。 另外，為了調(diào)節(jié)剝離力，可以將無(wú)官能的聚二甲基硅氧烷、苯氧改性硅酮、硅酮樹(shù)脂、二氧化 硅、纖維類化合物作為添加劑使用。
[0034]在剝離膜1中，優(yōu)選的是，剝離劑層形成用組成物含有有機(jī)聚硅氧烷。由此，相對(duì)于 粘合劑可得到適度的剝離性。
[0035] 剝離劑層12的厚度T2為0.05μπι以上且0.35μπι以下。由于剝離劑層12的厚度T2為 0.05μπι以上，故而能夠降低由剝離劑層12的厚度不均引起的剝離力的偏差，并且將剝離劑 層12的表面的平滑性適度地提高而使剝離膜1的外觀提高。另外，由于剝離劑層12的厚度Τ2 為0.35μπι以下，故而剝離劑層12的表面粗糙度適度地變得粗糙，剝離膜1的耐粘連性提高。 由得到上述效果的觀點(diǎn)來(lái)看，剝離劑層12的厚度Τ2為0.05μπι以上，優(yōu)選為0.075μπι以上，更 加優(yōu)選為〇 · 1〇_以上，并且，為0 · 35μηι以下，優(yōu)選為0 · 325μηι以下，更加優(yōu)選為0 · 30μηι以下。 考慮以上方面，剝離劑層12的厚度Τ2為0 · 05μπι以上且0 · 35μπι以下，優(yōu)選為0 · 075μπι以上且 0.325μπι以下，更加優(yōu)選為0. ΙΟμπι以上且0.30μπι以下。
[0036]另外，作為剝離劑層形成用組成物，能夠使用在利用甲苯等有機(jī)溶劑以成為規(guī)定 濃度的方式將市場(chǎng)銷售產(chǎn)品即含有乙烯基甲基硅氧烷單元的有機(jī)聚硅氧烷(商品名:VDT - 163、VDT - 954、Gelest社制造）、氧化甲硅烷基甲基硅氧烷重復(fù)單元即有機(jī)聚硅氧烷(商品 名:HMS - 993、Gelest社制造）以及具有乙烯基的MQ樹(shù)脂(東麗道瓊斯康寧有限公司制造、商 品名"SD7292"、固形量71質(zhì)量％ )等稀釋的溶液中添加了規(guī)定量的白金類催化劑（固形量2 質(zhì)量％、商品名：cata PL-50T、信越化學(xué)社制造)的材料。
[0037](剝離膜的制造方法）
[0038]本實(shí)施方式的剝離膜的制造方法包含如下的工序，即，在算術(shù)平均粗糙度Ra為5nm 以上且40nm以下、最大突起高度Rp為50nm以上且lOOOnm以下的由聚酯薄膜構(gòu)成的基材11上 涂敷剝離劑層形成用組成物而設(shè)置厚度為〇. 〇5μπι以上且0.35μπι以下的剝離劑層12，得到由 使用原子間力顯微鏡測(cè)定的力曲線算出的剝離劑層12的粘合能量為15mJ/m2以上且35mJ/m2以下的剝離膜1。
[0039] 在本實(shí)施方式的剝離膜的制造方法中，剝離劑層12例如在將剝離劑層形成用組成 物利用目前公知的涂敷方法涂敷在基材11的一面上之后，以規(guī)定的溫度加熱并使其干燥及 固化而形成。在此，剝離劑層形成用組成物也可以將由有機(jī)溶劑稀釋后的材料涂敷在基材 11上。作為有機(jī)溶劑，可列舉甲苯及二甲苯等芳香族烴、醋酸乙酯及醋酸丁酯等脂肪酸酯、 甲基乙基酮及甲基異丁基酮等酮、己烷及庚烷等脂肪族烴等。
[0040] 作為剝離劑層形成用組成物的涂敷方法，例如可列舉凹版涂敷法、條形涂敷法、噴 涂涂敷法、旋涂法、空氣刀涂敷法、輥涂敷法、刀片涂敷法、澆輥涂敷法以及金屬模涂敷法 等。其中優(yōu)選的是凹版涂敷法及條形涂敷法。另外，作為剝離劑層形成用組成物的加熱和干 燥方法，例如列舉由熱風(fēng)干燥爐等熱干燥的方法等。干燥溫度例如為90°C以上且150°C以 下。另外，干燥時(shí)間優(yōu)選例如為1 〇秒~5分鐘。
[0041] 剝離劑層形成用組成物的涂敷厚度優(yōu)選為0.05μπι以上且0.35μπι以下。剝離劑層形 成用組成物的涂敷厚度若為0.05μπι以上，則能夠降低由剝離劑層12的厚度不均引起的剝離 力的偏差，并且剝離劑層12的表面的平滑性提高，剝離膜1表面的外觀提高。另外，若剝離劑 層形成用組成物的涂敷量為0.35μπι以下，則耐粘連性提高。
[0042] 如以上說(shuō)明地，根據(jù)上述實(shí)施方式，由于算術(shù)平均粗糙度Ra為5nm以上且40nm以 下、最大突起高度Rp為50nm以上且lOOOnm以下，故而基材11的表面11a及剝離劑層12的表面 粗糙度為適度的范圍，故而能夠使在基材11上設(shè)置的剝離劑層12的表面12a平滑，并且耐粘 連性提高。而且，由于剝離劑層12的厚度為0.05μπι以上且0.35μπι以下，故而能夠降低剝離力 的偏差，并且不損害剝離劑層12的表面12a的外觀，耐粘連性提高。另外，由于剝離劑層12的 粘合能量為15mJ/m2以上且35mJ/m2以下，故而成為適度的粘彈性體，在剝離劑層12中不含有 不活性微粒子，耐粘連性提高。因此，能夠?qū)崿F(xiàn)具有平滑性且耐粘連性優(yōu)良的剝離膜1。 [0043]【實(shí)施例】
[0044] 以下，基于為了明確本發(fā)明的效果而進(jìn)行的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)地說(shuō)明。 另外，本發(fā)明不被以下的實(shí)施例及比較例限定。
[0045] <表面粗糙度>
[0046]表面粗糙度對(duì)算術(shù)平均粗糙度Ra及最大突起高度Rp進(jìn)行測(cè)定并評(píng)價(jià)。算術(shù)平均粗 糙度Ra及最大突起高度Rp使用表面粗糙度測(cè)定機(jī)（商品名：SV3000S4(觸針式）、三豐社制 造），以JIS B0601 -1994為基準(zhǔn)而進(jìn)行了測(cè)定。截止值等設(shè)為以下的條件。Ac = 0.25mm、As =0.0025mm、基準(zhǔn)長(zhǎng)度=2.5mm、評(píng)價(jià)長(zhǎng)度=10mm、范圍= 80、掃描速度=1. Omm/ s
[0047] <粘合能量>
[0048] 剝離劑層12的粘合能量首先將由實(shí)施例及比較例得到的剝離膜利用雙面粘接帶 固定在不銹鋼性的試樣臺(tái)上，在將娃探針(Team nanotec制造、LRCH曲率半徑為250nm、彈簧 常量為0 · 2N/m)安裝在探針顯微鏡(商品名：SPM-9700、島津制造所社制造)之后，以600m/s 實(shí)施自攻而得到力曲線。由得到的力曲線的形狀，以JKR 2點(diǎn)法為基準(zhǔn)算出剝離劑層的粘合 能量。
[0049] <耐粘連性>
[0050] 耐粘連性在將由實(shí)施例及比較例得到的剝離膜卷起成寬1290mm、長(zhǎng)6000m的輥狀 而形成為剝離膜輥并且在40 °C的環(huán)境下保管了 7天之后，目視觀察剝離膜輥的外觀并進(jìn)行 了評(píng)價(jià)。以下表示評(píng)價(jià)基準(zhǔn)。
[0051] 〇(無(wú)粘連）：在保管前后，色調(diào)沒(méi)有變化的
[0052] Λ(稍有粘連）：一半以下的區(qū)域的色調(diào)不同的
[0053] Χ(有粘連）：在過(guò)半的區(qū)域，色調(diào)不同的
[0054] <帶電性>
[0055]帶電性在將由實(shí)施例及比較例得到的剝離膜卷起成寬1290mm、長(zhǎng)6000m的輥狀而 形成為剝離膜輥并在40°C的環(huán)境下保管了 7天之后，使用防爆型靜電電位測(cè)定器(商品名： KSD - 0108、春日電機(jī)社制造)對(duì)從剝離膜輥將剝離膜拉出時(shí)的帶電量進(jìn)行了測(cè)定。評(píng)價(jià)基 準(zhǔn)如下所示。
[0056] A:帶電量小于5kV
[0057] B:帶電量為5kV以上且小于10kV
[0058] C:帶電量為10kV以上
[0059] <外觀>
[0060] 觀察剝離劑層表面的外觀對(duì)外觀進(jìn)行了評(píng)價(jià)。在由實(shí)施例及比較例得到的剝離膜 (重面?zhèn)龋┥弦愿稍锖鬄?0μπι的厚度的方式涂敷了丙烯類粘接劑(商品名：BPS5127、東洋化 社制造）后，在105 °C下干燥2分鐘。接著，粘合剝離膜(商品名:ΡΕΤ381130、大東電機(jī)公司制 造），制作了雙面粘接片(非載體膜）。接著，將各自的雙面粘接片的輕面剝離膜(PET381130) 剝離，將露出的剝離劑層貼合在黑丙烯板(三菱商事公司制作）。之后，將重面剝離膜剝離， 使熒光燈的光反射并觀察剝離劑層的表面進(jìn)行了評(píng)價(jià)。如下表示評(píng)價(jià)基準(zhǔn)。
[0061 ]〇:映入的熒光燈的像不變形地被看到 [0062] X :映入的熒光燈的像變形而被看到
[0063] <剝離劑層形成用組成物A的調(diào)制>
[0064]利用甲苯溶劑以固形量濃度為1.0質(zhì)量％的方式將含有0.5mol %的乙烯基甲基硅 氧烷單元的有機(jī)聚硅氧烷(商品名:VDT - 163、Ge 1 e st社制造)30質(zhì)量部、氧化甲硅烷基甲基 硅氧烷重復(fù)單元即有機(jī)聚硅氧烷(商品名:HMS - 993、Gelest社制造)0.35質(zhì)量部稀釋混合。 在該溶液中添加2質(zhì)量部的白金類催化劑（固形量2質(zhì)量％、商品名：cata PL - 50T、信越化 學(xué)社制造），調(diào)制了剝離劑層形成用組成物A。
[0065] <剝離劑層形成用組成物B的調(diào)制>
[0066]利用甲苯溶劑以固形量濃度為1.0質(zhì)量％的方式將含有0.5mol %的乙烯基甲基硅 氧烷單元的有機(jī)聚硅氧烷(商品名:VDT - 163、Ge 1 e st社制造)30質(zhì)量部、氧化甲硅烷基甲基 硅氧烷重復(fù)單元即有機(jī)聚硅氧烷(商品名：HMS - 993、Gelest社制造)0.35質(zhì)量部以及具有 乙烯基的MQ樹(shù)脂（固形量71質(zhì)量％、商品名：SD7292、東麗道瓊斯康寧有限公司制作）以固形 分換算為15質(zhì)量部稀釋混合。在該溶液中添加2質(zhì)量部白金類催化劑(固形量2質(zhì)量％、商品 名：cata PL-50T、信越化學(xué)社制造），調(diào)制剝離劑層形成用組成物B。
[0067] <剝離劑層形成用組成物C的調(diào)制>
[0068]利用甲苯溶劑以固形量濃度為1.0質(zhì)量％的方式將含有12. Omol %的乙烯基甲基 硅氧烷單元的有機(jī)聚硅氧烷(商品名:VDT - 954、Gelest社制造)30質(zhì)量部、氧化甲硅烷基甲 基硅氧烷重復(fù)單元即有機(jī)聚硅氧烷(商品名：HMS - 993、Gelest社制造)4.0質(zhì)量部稀釋混 合。在該溶液中添加2質(zhì)量部的白金類催化劑（固形量2質(zhì)量％、商品名：cata PL-50T、信越 化學(xué)社制造）。
[0069] <剝離劑層形成用組成物D的調(diào)制>
[0070] 利用甲苯溶劑以固形量濃度為1.0質(zhì)量％的方式將含有0.5mol %的乙烯基甲基硅 氧烷單元的有機(jī)聚硅氧烷(商品名:VDT - 163、Ge 1 e st社制造)30質(zhì)量部、氧化甲硅烷基甲基 硅氧烷重復(fù)單元即有機(jī)聚硅氧烷(商品名:HMS - 993、Gelest社制造)0.35質(zhì)量部、將重剝離 添加劑（固形量30質(zhì)量％、商品名:BY24 - 4980、東麗道瓊斯康寧有限公司制造）由固形分換 算為10質(zhì)量部稀釋混合。在該溶液中添加2質(zhì)量部的白金類催化劑（固形量2質(zhì)量％、商品 名：cata PL-50T、信越化學(xué)社制造）。
[0071] <剝離劑層形成用組成物E(D調(diào)制>
[0072]利用甲苯溶劑以固形量濃度為1.0質(zhì)量％的方式將含有0.5mol %的乙烯基甲基硅 氧烷單元的有機(jī)聚硅氧烷(商品名:VDT - 163、Ge 1 e st社制造)30質(zhì)量部、氧化甲硅烷基甲基 硅氧烷重復(fù)單元即有機(jī)聚硅氧烷(商品名:HMS - 993、Gelest社制造)0.35質(zhì)量部、將重剝離 添加劑（固形量30質(zhì)量％、商品名:BY24 - 4980、東麗道瓊斯康寧有限公司制造）以固形分換 算為5質(zhì)量部稀釋混合。在該溶液中添加2質(zhì)量部的白金類催化劑（固形量2質(zhì)量％、商品名： cata PL-50T、信越化學(xué)社制造）。
[0073](實(shí)施例1)
[0074]作為基材，使用了表面及背面的粗糙度相同的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度 38μπι、算術(shù)平均粗糙度Ra: 20nm、最大突起高度Rp: 200nm)。接著，在該基材的一面上，以干燥 后的厚度為O.Uim的方式利用條紋涂敷涂敷了剝離劑層形成用組成物A，燃耗在120°C下干 燥1分鐘，設(shè)置剝離劑層而得到剝離膜。
[0075](實(shí)施例2)
[0076]除了將基材設(shè)為厚38μπι、算術(shù)平均粗糙度Ra: 9nm、最大突起高度Rp: 95nm之外，與 實(shí)施例1同樣地制作了剝離膜。
[0077](實(shí)施例3)
[0078] 除了代替剝離劑層形成用組成物A而使用剝離劑層形成用組成物B、以及以干燥后 的厚度為〇.15μπι的方式利用條紋涂敷涂敷了剝離劑層形成用組成物B之外，與實(shí)施例1同樣 地制作了剝離膜。
[0079] (實(shí)施例4)
[0080] 除了代替剝離劑層形成用組成物Α而使用了剝離劑層形成用組成物C之外，與實(shí)施 例1同樣地制作了剝離膜。
[0081] (實(shí)施例5)
[0082]除了將剝離劑的涂敷量設(shè)為0.3μπι之外，與實(shí)施例垌樣地制作了剝離膜。
[0083](實(shí)施例6)
[0084]除了將基材設(shè)為厚38μπι、算術(shù)平均粗糙度Ra: 37腦、最大突起高度Rp: 600nm之外， 與實(shí)施例1同樣地制作剝離膜。
[0085](比較例1)
[0086]除了替代剝離劑層形成用組成物A而使用了剝離劑層形成用組成物D之外，與實(shí)施 例1同樣地制作剝離膜。
[0087](比較例2)
[0088]除了將基材設(shè)為厚38μπι、算術(shù)平均粗糙度Ra: 9nm、最大突起高度Rp: 95nm之外，與 比較例例1同樣地制作了剝離膜。
[0089](比較例3)
[0090]除了將基材設(shè)為厚38μπι、算術(shù)平均粗糙度Ra: 4nm、最大突起高度Rp: 22nm之外，與 實(shí)施例1同樣地制作了剝離膜。
[0091] (比較例4)
[0092] 除了替代剝離劑層形成用組成物A而使用了剝離劑層形成用組成物E之外，與實(shí)施 例1同樣地制作了剝離膜。
[0093](比較例5)
[0094]除了將剝離劑的涂敷量設(shè)為0.4μπι之外，與實(shí)施例1同樣地制作了剝離膜。
[0095](比較例6)
[0096]除了將基材設(shè)為厚38μπι、算術(shù)平均粗糙度Ra: 70nm、最大突起高度Rp: 1200nm之外， 與實(shí)施例1同樣地制作了剝離膜。
[0097]【表1】
[0098]
[0099] 由表1可知，在基材的算術(shù)平均粗糙度Ra為5nm以上且40nm以下，最大突起高度Rp 為50nm以上且lOOOnm以下，剝離劑層的厚度為0·05μηι以上且0 ·35μηι以下，剝離劑層的粘合 能量為15mJ/m2以上且35mJ/m2以下的情況下，均為優(yōu)良的耐粘連性、帶電性及外觀的評(píng)價(jià) (實(shí)施例1 一 6)。
[0100] 對(duì)此，可知，在剝離劑層的粘合能量超過(guò)35mJ/m2的情況下，耐粘連性均顯著下降 (比較例1、2、4)。其結(jié)果，由于剝離劑層的粘合能量變得過(guò)大，剝離劑層的粘彈特性的平衡 變差，粘性項(xiàng)相對(duì)于彈性項(xiàng)的影響變強(qiáng)，發(fā)生了粘連。另外，可知，在基材的算術(shù)平均粗糙度 Ra小于5nm且最大突起高度Rp小于50nm的情況（比較例3)下，耐粘連性也顯著下降（比較例 3)。其結(jié)果，考慮是由于基材過(guò)于平滑，剝離劑層的表面過(guò)度地平滑，故而發(fā)生了粘連。另 外，可知在剝離劑層的厚度超過(guò)〇.35μπι的情況下，耐粘連性顯著下降（比較例5)。其結(jié)果，考 慮是因?yàn)閯冸x劑層的厚度過(guò)厚，表面過(guò)度地平滑而發(fā)生了粘連。另外，可知在基材的算術(shù)平 均粗糙度Ra超過(guò)40nm且最大突起高度Rp超過(guò)lOOOnm的情況下，耐粘連性變得良好，而外觀 的評(píng)價(jià)變差（比較例6)。其結(jié)果，考慮是因?yàn)閯冸x膜的剝離劑層表面的表面粗糙度過(guò)于粗 糙。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種剝離膜，其特征在于，具有： 由聚酯薄膜構(gòu)成的基材； 在所述基材的一表面上涂敷剝離劑層形成用組成物而設(shè)置的剝離劑層， 所述基材的算術(shù)平均粗糙度(Ra)為5nm以上且40nm以下，最大突起高度(Rp)為50nm以 上且lOOOnm以下， 所述剝離劑層的厚度為〇 .〇5μηι以上且0.35μηι以下， 由使用原子間力顯微鏡測(cè)定的力曲線算出的所述剝離劑層的粘合能量為15mJ/m2以上 且35mJ/m2以下。2. 如權(quán)利要求1所述的剝離膜，其特征在于， 所述剝離劑層形成用組成物包含有機(jī)聚硅氧烷。3. 如權(quán)利要求1或2所述的剝離膜，其特征在于， 所述基材的厚度為1〇Μ?以上且150μηι以下。4. 一種剝離膜的制造方法，其特征在于， 具有如下的工序，即，在算術(shù)平均粗糙度（Ra)為5nm以上且40nm以下、最大突起高度 (Rp)為50nm以上且lOOOnm以下的由聚酯薄膜構(gòu)成的基材上涂敷剝離劑層形成用組成物而 設(shè)置厚度為〇.〇5μπι以上且0.35μπι以下的剝離劑層，得到由使用原子間力顯微鏡測(cè)定的力曲 線算出的所述剝離劑層的粘合能量為15mJ/m 2以上且35mJ/m2以下的剝離膜。
【文檔編號(hào)】C09J7/02GK105838274SQ201610045146
【公開(kāi)日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2016年1月22日
【發(fā)明人】黑川敦史, 高橋亮, 宮本皓史
【申請(qǐng)人】琳得科株式會(huì)社