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干式渦流研磨機的制作方法

文檔序號:3351041閱讀:274來源:國知局
專利名稱:干式渦流研磨機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及生產(chǎn)機械領(lǐng)域,特別涉及一種用于珠寶手飾品加工的 干式渦流研磨機。
技術(shù)背景研磨機是我們飾品珠寶工業(yè)中十分重要的一種機械工具,傳統(tǒng)的 研磨拋光工藝過程需要大量的工人打磨機器,費事費力,工藝損耗 高,生產(chǎn)過程會產(chǎn)生大量的污染物,對員工的身體會造成很大的危 害,并且產(chǎn)生的廢物也不容易回收,造成了嚴重的浪費,由于現(xiàn)在 的研磨機械比較簡單,容易使工件撞傷,在研磨的過程中不能保證 研磨過程的勻速性、整體性、不能提高首飾研磨的效率。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于針對上述問題,提供了一種研磨效能大大提 高并且能夠防止工件碰傷和保證研磨的勻速性和整體性,保產(chǎn)品質(zhì) 量一致性的一種干式渦流研磨機。發(fā)明了一種干式渦流研磨機由研磨上盤、研磨槽、底盤、轉(zhuǎn)盤研磨下盤和機架座組成,用微電腦控制,研磨上盤2通過螺絲23固 定在研磨下盤7上,中間的底部轉(zhuǎn)盤4經(jīng)過下面的軸,軸承5、軸承 座6用螺絲、螺母固定在研磨下盤7底部;軸下端連接電動機、變 頻器,電動機外配有護罩ll;在研磨下盤7的上邊沿左右各配有一 塊支撐板8和12,板上分別連接支撐軸9和13;支撐軸通過軸承座 15支撐在機架16上,軸承座13左右各有一護罩14和17,支承軸 13外端連接倒料電動機、變頻器;通過自動和手動設(shè)置完成向前倒 料程序;支承塊上裝有倒料止動開關(guān)21,通過右支承板13的觸擊控 制倒料回位,到位止動;支承板13支承在支承塊21上。 其特特征是:研磨上盤2內(nèi)面是襯有15毫米厚聚胺脂的研磨槽,研磨上盤2上有研磨槽1,改變壁邊工件,運動方向和角度。 其特特征是:底盤轉(zhuǎn)盤4邊外沿邊有一向外倒角,轉(zhuǎn)盤4內(nèi)表面襯有 一層10毫米厚聚胺脂3,并有6條發(fā)散狀筋條凸起。 其特特征是:研磨下盤7,上面開口的喇叭形整體;壓縮空氣通過研 磨下盤7下部的入氣口 24進入內(nèi)部,通過研磨槽1與轉(zhuǎn)盤槽4之間 的空隙進入研磨槽l內(nèi)。其特特征是:研磨槽1與底盤轉(zhuǎn)盤槽4四周的間隙靠螺釘22來調(diào)節(jié), 間隙用專用塞尺檢查確保四周間隙均勻,并保持在0.2 0.5之間。 研磨下盤7下方有小窗口并有橡膠孔塞IO塞住,是用于觀察有無磨 料漏入研磨下盤7內(nèi)。電氣設(shè)備安裝在配電箱20內(nèi)。本發(fā)明的有益好處是:采用渦流原理,可以產(chǎn)生強力研磨效能, 因有后面主電機配重,支承板13支承在支承塊21上。保證整機的 平衡、穩(wěn)定。研磨上盤2對研磨槽1有定形保護作用聚胺脂制成的 研磨槽1耐磨、減震。防止工件碰傷,且內(nèi)壁呈凸狀目的在于改變 壁邊工件,運動方向和角度,使研磨效能大大提高。用于降低研磨 產(chǎn)生的溫度,消除因溫度過高對工件質(zhì)量的影響??裳娱L磨料的使 用周期,同時可防止機器發(fā)熱而損害。


圖1本發(fā)明干式渦流研磨機結(jié)構(gòu)示意圖;1:聚胺脂研磨槽2:研磨上盤3:聚胺脂轉(zhuǎn)盤槽4:底盤轉(zhuǎn)動 盤5:軸承6:軸承座7:研磨下盤8:左支承板9:左支承 軸10:橡膠孔塞11:電動機護罩12:右支承板13:右支承 軸14:軸承護罩15: P206軸承座 16:機架17:倒料電機軸承座 18:觸摸屏19:配電箱門20:配電箱21:支承塊,倒 料止動22:調(diào)節(jié)螺釘23:鎖緊螺釘24:進氣口具體實施方式
參見附圖1,干式渦流研磨機由研磨上盤2、研磨槽、底盤轉(zhuǎn)盤4研磨下盤7 和機架16座組成,以微電腦控制。研磨上盤2通過螺絲23固定在研磨下盤7上,中間的底部轉(zhuǎn)盤 4經(jīng)過下面的軸,軸承5、軸承座6用螺絲、螺母固定在研磨下盤7 底部。軸下端連接電動機、變頻器,電動機外配有護罩ll。在研磨 下盤7的上邊沿左右各配有一塊支撐板8和12,板上分別連接支撐 軸9和13。支撐軸通過軸承座15支撐在機架16上,軸承座13左右 各有一護罩14和17利于操作人員安全,支承軸13外端連接倒料電 動機、變頻器。通過自動和手動設(shè)置完成向前倒料程序。支承塊上 裝有倒料止動開關(guān)21,通過右支承板13的觸擊控制倒料回位,到位 止動。因有后面主電機配重,支承板13支承在支承塊21上。保證 整機的平衡、穩(wěn)定。電氣設(shè)備安裝在配電箱20內(nèi)。通過微電腦觸摸 屏18控制機器正常工作。取輕便實用的鋁材料鑄造加工而成的研磨上盤2,內(nèi)面是襯有15 毫米厚聚胺脂的研磨槽,研磨上盤2對研磨槽1有定形保護作用聚 胺脂制成的研磨槽1耐磨、減震。防止工件碰傷,且內(nèi)壁呈凸狀目 的在于改變壁邊工件,運動方向和角度,使研磨效能大大提高。底盤轉(zhuǎn)盤4,邊是由鋁材料鑄造而成外沿邊有一向外倒角,利于夾在研磨槽1和轉(zhuǎn)盤4間的磨料脫離表層,避免磨傷機器。轉(zhuǎn)盤4 內(nèi)表面襯有一層10毫米厚聚胺脂3,并有6條發(fā)散狀筋條凸起。防 止工件碰傷和保證研磨的勻速性和整體性,保產(chǎn)品質(zhì)量一致性。研磨下盤7,也是由鋁材料鑄造而成,上面開口的喇叭形整體。 壓縮空氣通過研磨下盤7下部的入氣口 24進入內(nèi)部,通過研磨槽1 與轉(zhuǎn)盤槽4之間的空隙進入研磨槽1內(nèi),用于降低研磨產(chǎn)生的溫度, 消除因溫度過高對工件質(zhì)量的影響??裳娱L磨料的使用周期,同時 可防止機器發(fā)熱而損害。研磨槽1與底盤轉(zhuǎn)盤槽4四周的間隙靠螺釘22來調(diào)節(jié),間隙用 專用塞尺檢査確保四周間隙均勻,并保持在0.2 0.5之間,否則會 造成磨料及工件漏入研磨下盤7內(nèi)而影響正常生產(chǎn)。研磨下盤7下方有小窗口并有橡膠孔塞IO塞住,是用于觀察有 無磨料漏入研磨下盤7內(nèi)。如有蓋過小窗時應(yīng)及時吸出漏入的磨料, 以免影響機器的正常運行。
權(quán)利要求
1. 一種干式渦流研磨機由研磨上盤、研磨槽、底盤、轉(zhuǎn)盤研磨下盤和機架座組成,用微電腦控制,其特征是研磨上盤通過螺絲(23)固定在研磨下盤(7)上,中間的底部轉(zhuǎn)盤(4)經(jīng)過下面的軸,軸承(5)、軸承座(6用螺絲、螺母固定在研磨下盤(7)底部;軸下端連接電動機、變頻器,電動機外配有護罩(11);在研磨下盤(7)的上邊沿左右各配有一塊支撐板(8)和(12),板上分別連接支撐軸(9)和(13);支撐軸通過軸承座(15支撐在機架(16上,軸承座(13左右各有一護罩(14)和(17),支承軸(13)外端連接倒料電動機、變頻器;通過自動和手動設(shè)置完成向前倒料程序;支承塊上裝有倒料止動開關(guān)(21),通過右支承板(13)的觸擊控制倒料回位,到位止動;支承板(13)支承在支承塊(21)上。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式渦流研磨機,其特特征是:研磨 上盤(2)內(nèi)面是襯有15毫米厚聚胺脂的研磨槽,研磨上盤(2)上有研磨槽(1),改變壁邊工件,運動方向和角度。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式渦流研磨機,其特特征是:底盤 轉(zhuǎn)盤(4)邊外沿邊有一向外倒角,轉(zhuǎn)盤(4)內(nèi)表面襯有一 層10毫米厚聚胺脂(3),并有(6)條發(fā)散狀筋條凸起。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式渦流研磨機,其特特征是:研磨 下盤(7),上面開口的喇叭形整體;壓縮空氣通過研磨下盤(7)下部的入氣口 (24)進入內(nèi)部,通過研磨槽(1)與轉(zhuǎn) 盤槽(4之間的空隙進入研磨槽(1)內(nèi)。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式渦流研磨機,其特特征是:研磨 槽(1)與底盤轉(zhuǎn)盤槽(4)四周的間隙靠螺釘(22)來調(diào)節(jié), 間隙用專用塞尺檢査確保四周間隙均勻,并保持在0.2 0.5 之間。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式渦流研磨機,其特特征是:研磨 下盤(7)下方有小窗口并有橡膠孔塞(10)塞住,是用于觀察有無磨料漏入研磨下盤7內(nèi)。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式渦流研磨機,其特特征是電氣 設(shè)備安裝在配電箱(20)內(nèi)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種干式渦流研磨機,由研磨上盤、研磨槽、底盤、轉(zhuǎn)盤研磨下盤和機架座組成,以微電腦控制。研磨上盤2通過螺絲23固定在研磨下盤7上,中間的底部轉(zhuǎn)盤4經(jīng)過下面的軸,軸承5、軸承座6用螺絲、螺母固定在研磨下盤7底部。通過自動和手動設(shè)置完成向前倒料程序。支承塊上裝有倒料止動開關(guān)21,通過右支承板13的觸擊控制倒料回位,到位止動。因有后面主電機配重,支承板13支承在支承塊21上。保證整機的平衡、穩(wěn)定。電氣設(shè)備安裝在配電箱20內(nèi)。通過微電腦觸摸屏18控制機器正常工作。
文檔編號B24B31/02GK101264590SQ20081009458
公開日2008年9月17日 申請日期2008年5月15日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月15日
發(fā)明者林暢偉 申請人:深圳市星光達珠寶首飾實業(yè)有限公司
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