外殼結構，光學掃描裝置，和成像設備的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及外殼結構，光學掃描裝置，和成像設備。外殼結構包含：外殼，所述外殼被配置成在其中收容成像設備要使用的部件并且具有開口；蓋構件，所述蓋構件被配置成覆蓋所述外殼的所述開口并且包含粘附體部分；和密封構件，所述密封構件被放置在所述外殼的開口端和所述蓋構件之間，并且被配置成當所述蓋構件被附接到所述外殼時，通過被壓縮而在所述蓋構件和所述外殼之間密封，所述密封構件粘附到所述蓋構件的所述粘附體部分，并且至少一個凹槽被形成在所述蓋構件的所述粘附體部分中。
【專利說明】外殼結構，光學掃描裝置，和成像設備
[0001]相關申請的交叉引用
[0002]本申請要求2015年2月10日在日本提交的第2015-023939號日本專利申請的優(yōu)先權，并且通過引用合并其全部內容。
技術領域
[0003]本發(fā)明一般地涉及外殼結構，光學掃描裝置，和成像設備。
【背景技術】
[0004]典型的電子照相成像設備如下形成圖像。光學掃描裝置按照預先被均勻充電的諸如感光體的圖像載體上的圖像數(shù)據(jù)，光學地形成靜電潛像。靜電潛像利用調色劑通過顯影裝置被顯影成可見圖像。可見圖像直接地或者經(jīng)由諸如中間轉印帶的中間構件被轉印在諸如轉印紙的記錄介質上。定影裝置例如利用壓力和/或熱量，將還沒有被定影的調色劑圖像定影在記錄介質上。光學掃描裝置的質量和圖像質量正在通過采用激光二極管陣列(在下文中，“LDA”)、垂直腔表面發(fā)射激光器(在下文中，“VCSEL”)等等，通過多通道的發(fā)光點而被提尚O
[0005]已經(jīng)已知，成像設備的這種光學掃描裝置的光學元件等等沾污有灰塵、異物等等可能導致異常圖像(具有白斑等等)。
[0006]已知了一種配置，用于通過將充當密封構件的泡沫材料以壓縮泡沫材料的方式放置在光學外殼和覆蓋光學外殼的開口的蓋構件兩者之間，從而防止異物等等的進入，來避免這種問題。這個配置的實例在日本的特開第2014-12368號專利申請中被揭示。
[0007]然而，日本的特開第2014-12368號專利申請中所描述的成像設備的光學掃描裝置的不利之處在于，因為光學外殼壓縮密封構件或者彈性構件，所以出現(xiàn)光學外殼的變形，借此光學特性可能被降低。此外，光學掃描裝置的不利之處在于，因為必須將復雜形狀給予密封構件或彈性構件，或者將密封構件或彈性構件分割成多個部件，所以紙張材料產量不期望地減少，導致成本增加。
[0008]因此，存在有對能夠可靠地密封外殼的簡單的外殼結構的需要。
【發(fā)明內容】
[0009]本發(fā)明的目的是至少部分地解決常規(guī)技術中的問題。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的不范性的實施例，提供有一種外殼結構，包括:外殼，所述外殼被配置成在其中收容成像設備要使用的部件并且具有開口；蓋構件，所述蓋構件被配置成覆蓋所述外殼的所述開口并且包含粘附體部分;和密封構件，所述密封構件被放置在所述外殼的開口端和所述蓋構件之間，并且被配置成當所述蓋構件被附接到所述外殼時，通過被壓縮而在所述蓋構件和所述外殼之間密封，所述密封構件粘附到所述蓋構件的所述粘附體部分，并且至少一個凹槽被形成在所述蓋構件的所述粘附體部分中。
[0011]本發(fā)明的示范性的實施例還提供一種光學掃描裝置，包括:光源，所述光源被配置成發(fā)射出光束;偏轉器，所述偏轉器被配置成使所述光源發(fā)射出的所述光束偏轉，從而使得所述光束在主掃描方向上掃描;和外殼，所述外殼被配置成在其中收容多個光學元件，所述多個光學元件用于使得由所述偏轉器偏轉的所述光束撞擊要被掃描的表面，所述外殼具有上述外殼結構。
[0012]本發(fā)明的示范性的實施例還提供一種成像設備，包括上述外殼結構和上述光學掃描裝置。
[0013]當與附圖結合考慮時，通過閱讀本發(fā)明的目前較佳實施例的以下具體描述，這個發(fā)明的上述和其他的目的、特征、優(yōu)點、以及技術和工業(yè)上的意義將被更好地理解。
【附圖說明】
[0014]圖1是示意性地圖解根據(jù)本發(fā)明的實施例的成像設備的配置圖；
[0015]圖2是示意性地圖解圖1中所示的成像設備的輸入光學系統(tǒng)的配置圖；
[0016]圖3是示意性地圖解圖1中所示的成像設備的掃描光學系統(tǒng)的配置圖；
[0017]圖4是示意性地圖解圖1中所示的成像設備的偏轉器的配置圖；
[0018]圖5是圖解圖1中所示的成像設備的棱鏡分束器的說明圖；
[0019]圖6是圖解圖1中所示的成像設備的密封配置的說明圖；
[0020]圖7是圖解常規(guī)的外殼結構的密封配置的說明圖；
[0021]圖8是圖解圖1中所示的成像設備的蓋構件的說明圖；
[0022]圖9是圖解圖1中所示的成像設備的外殼結構的密封配置的說明圖；
[0023]圖10是圖解圖1中所示的成像設備的外殼結構的密封配置的說明圖；和
[0024]圖11是圖解圖1中所示的成像設備的外殼結構的密封配置的說明圖。
【具體實施方式】
[0025]下面參考附圖描述本發(fā)明的示范性實施例。在本發(fā)明的實施例參考其而被描述的每個附圖中，功能或者形狀相同的諸如構件和部件的元件用類似的參考數(shù)字表示，只要它們是可區(qū)別的，并且省略了重復描述。
[0026]下面參考圖1描述根據(jù)實施例的外殼結構可適用的成像設備I的配置。圖1是圖解作為成像設備的實例的全彩色打印機的示意性的配置圖。
[0027]圖1中所示的成像設備I包含電子照相成像單元。成像單元包含用10a、10b、10c和1d表示的四個成像裝置。除了要被使用的調色劑的顏色以外，第一到第四成像裝置10a、10b、1c和1d的配置是相同的。例如，成像裝置10a、10b、1c和1d可以分別形成洋紅調色劑圖像、黃色調色劑圖像、黑色調色劑圖像和青色調色劑圖像。因為除了顯影劑(調色劑)的顏色以外，成像裝置的配置是相同的，所以在下面給出的描述中，被附上以識別每個顏色的參考字母a、b、c或者d適當?shù)乇皇÷浴?br>[0028]作為圖像載體的鼓形的感光體30被布置在成像裝置10中。充電構件32、顯影裝置33和清潔裝置31被布置在感光體30周圍。感光體30被配置成被驅動以順時針轉動。感光體30被配置成，當預定偏壓被施加到充電構件32時，正在轉動的感光體30的表面被均勻地充電。雖然利用電暈放電等等的非接觸式充電構件被采用作為充電構件32，但是要被與感光體30接觸的輥式構件可以替代地被采用作為充電構件32。
[0029]光學掃描裝置60被布置在四個成像裝置10之上。光學掃描裝置60包含進行感光體30a和30b的掃描曝光的M-Y單元60-1，和進行感光體30c和30d的掃描曝光的Bk-C單元60-2。光學掃描裝置60利用掃描光照射感光體30的每個表面，同時按照圖像數(shù)據(jù)進行掃描光的打開/關閉控制，從而在表面上形成相應的靜電潛像。當感光體30轉動時，通過光學掃描裝置60被形成在感光體30上的靜電潛像經(jīng)過顯影裝置33，相應顏色的調色劑在顯影裝置33處被施加到靜電潛像。從而，靜電潛像被顯影成可見圖像。
[0030]被配置作為中間轉印構件的環(huán)形帶式中間轉印帶40被布置成面向各個成像裝置10的感光體30。每個感光體30與中間轉印帶40的外表面接觸。中間轉印帶40被纏繞并且被支撐在多個支撐輥40a、40b和40c上。支撐輥40c被耦接到作為驅動源的驅動馬達。驅動驅動馬達使得中間轉印帶40在圖1中逆時針(圖1中的箭頭所指示的方向)旋轉，并且同時，可轉動的支撐輥40a和40b通過中間轉印帶40的旋轉動作被轉動。初級轉印輥(未顯示)以面向感光體30的方式被布置在中間轉印帶40的內表面上，在初級轉印輥和感光體30之間具有帶。初級轉印偏壓從高壓電源(未顯示)被施加到初級轉印輥，以進行將顯影裝置33顯影的調色劑圖像轉印到中間轉印帶40上的初級轉印。包含在清潔裝置31中的清潔刀片去除初級轉印殘余調色劑，因此感光體30能夠進行下一個作業(yè)的成像操作，初級轉印殘余調色劑是在初級轉印中沒有被轉印的、被遺留在感光體30上的調色劑。
[0031]成像設備I在次級轉印充電器48面向支撐輥40c的位置處，包含作為次級轉印單元的次級轉印充電器48，中間轉印帶40在次級轉印充電器48和支撐輥40c之間。次級轉印充電器48被放置成遠離中間轉印帶40預定距離。具有與充電構件32的極性相反的極性的電壓被施加到次級轉印充電器48。
[0032]除了供紙輥54和要被裝載有記錄介質的供紙盒59之外，成像設備I包含一對對位輥56。定影裝置50在記錄介質的傳送方向上被布置在次級轉印充電器48的下游。定影裝置50包含一對輥，一對輥是按壓輥和加熱輥，以將熱量和壓力施加到記錄介質，從而將調色劑圖像定影在記錄介質上。用于將從定影裝置50離開的記錄介質排出到例如可以是排紙托盤5的記錄介質輸出部上的一對傳送輥52、一對排紙輥58等等在傳送方向上被布置在定影裝置50的下游。
[0033]下面描述成像設備所進行的成像操作。除了調色劑圖像的顏色以外，涉及在每個感光體30上形成調色劑圖像以及將調色劑圖像轉印到中間轉印帶40上的成像操作中的結構在感光體30之中實質上全部相同。因此，被附上以識別每個顏色的參考字母a、b、c或者d適當?shù)乇皇÷浴?br>[0034]剛一接收到來自個人計算機等等的成像信號，驅動源就開始使感光體30順時針轉動。此時，中和裝置利用光來照射感光體30的表面，從而初始化表面電位。表面電位被初始化的感光體30的表面通過充電構件32被均勻地充電到預定極性。利用從光學掃描裝置60發(fā)射出的激光來照射感光體30的被充電的表面。結果，期望的靜電潛像被形成在感光體30的表面上。光學掃描裝置60經(jīng)由光學掃描進行曝光所按照的圖像數(shù)據(jù)是通過將期望的全色圖像分離成每個調色劑顏色的圖像數(shù)據(jù)所獲得的單色圖像數(shù)據(jù)，調色劑顏色是黃色、青色、洋紅和黑色。當靜電潛像經(jīng)過顯影裝置33時，顯影裝置33將相應顏色的調色劑(顯影劑)施加到形成在如上所述的感光體30上的靜電潛像上，從而將靜電潛像顯影成可見的調色劑圖像。
[0035]在圖1中，中間轉印帶40被驅動以逆時針旋轉。具有與形成在感光體30上的調色劑圖像的電荷的極性相反的極性的初級轉印電壓被施加到初級轉印輥。初級轉印電壓在感光體30和中間轉印帶40之間感應初級轉印電場。因此，將感光體30上的調色劑圖像靜電地轉印到中間轉印帶40上的初級轉印被進行，中間轉印帶40被驅動，以便與感光體30同步旋轉。以這種方式經(jīng)受初級轉印的各個顏色的調色劑圖像在中間轉印帶40的傳送方向上從上游到下游一個接一個地在各自適當?shù)臅r刻被疊加在中間轉印帶40上，以便在中間轉印帶40上形成期望的全色圖像。
[0036]同時，被放置在供紙盒59上的各自要在其上形成圖像的一捆記錄介質紙適當?shù)赝ㄟ^諸如供紙輥54的適當?shù)膫魉蜆嫾灰粡堃粡埛蛛x，并且被分離的紙張被順序地傳送到一對對位棍56。如此被分離的一張記錄介質被傳送到還沒有開始轉動的一對對位棍56之間的夾緊區(qū)域。被傳送的記錄介質的前端接觸一對對位輥56之間的夾緊區(qū)域，并且形成一般可以被稱為“對位環(huán)”的東西。結果，進行記錄介質的對位。
[0037]此后，從為了與中間轉印帶40有關的全色圖像(S卩，疊加的調色劑圖像)而調整的時刻，開始了使一對對位輥56轉動的驅動。記錄介質被遞送到由支撐輥40c和次級轉印充電器48形成的次級轉印部，次級轉印充電器48面向支撐輥40c并且遠離支撐輥40c預定間隙，中間轉印帶40在次級轉印充電器48和支撐輥40c之間。預定轉印電壓被施加到次級轉印充電器48，以將形成在中間轉印帶40的表面上的全色圖像(S卩，疊加的調色劑圖像)一起轉印到記錄介質上。
[0038]調色劑圖像被轉印到其上的記錄介質被傳送到定影裝置50。當記錄介質經(jīng)過定影裝置以將調色劑圖像作為半永久性的全色圖像定影到記錄介質上時，熱量和壓力被施加到調色劑圖像。圖像通過定影裝置50被定影到其上的記錄介質例如經(jīng)由一對傳送輥52、一對排紙輥58等等被排出到記錄介質輸出部上，記錄介質輸出部可以是排紙托盤5。中間轉印帶清潔裝置去除和收集遺留在中間轉印帶40上的而沒有在次級轉印部處被轉印的殘余調色劑，次級轉印充電器48被布置在次級轉印部處。
[0039]下面描述光學掃描裝置60的配置。光學掃描裝置60包含進行感光體30a和30b的掃描曝光的M-Y單元60-1，和進行感光體30c和30d的掃描曝光的Bk-C單元60-2。因為M-Y單元60-1和Bk-C單元60-2的光學布局相同，所以下面描述Bk-C單元60-2，并且關于M-Y單元60-1的描述被省略。
[0040]圖2是示意性地圖解Bk-C單元60-2的輸入光學系統(tǒng)的配置圖。發(fā)射出激光的光源單元61包含發(fā)射出作為線偏振光的激光的光源61-1，將激光轉換成圓偏振光的四分之一波片61-4，將通過四分之一波片轉換其偏振的激光準直成平行光的準直透鏡61-5，以及切斷一部分準直激光的光闌61-6。光源61 -1例如可以是LD (激光二極管)、LDA (激光二極管陣列)、或者VCSEL(垂直腔表面發(fā)射激光器)，并且具有多個發(fā)光點。這些光學元件與此成整塊地被組裝到光源保持器上。從光源單元61發(fā)射出的激光經(jīng)由輸入光學系統(tǒng)撞擊作為光偏轉器的偏轉器72。發(fā)光點不局限于本實施例的那些發(fā)光點；包含一個以上的發(fā)光點的任何光源能夠被用作光源61-1。
[0041]限定光束輪廓的輸入光學系統(tǒng)包含棱鏡分束器(PBS)73、四分之一波片74和柱面透鏡(CYL) 75，棱鏡分束器73在沿副掃描方向延伸的橫截面上，將光源單元61發(fā)射出的激光分裂成不同偏振的兩個光束，四分之一波片74將被分裂成不同偏振的兩個光束的光從線偏振光轉換成圓偏振光。CYL 75具有僅僅在沿副掃描方向延伸的橫截面上的倍率(power)，并且使得被轉換成圓偏振光的激光在被安裝在偏轉器72上的旋轉多面鏡72b的小鏡面(mirror facet)上形成圖像。
[0042]其輪廓通過輸入光學系統(tǒng)被限定的激光在偏轉器72的旋轉多面鏡72b的小鏡面上形成圖像。偏轉器72以期望的轉速來穩(wěn)定地驅動旋轉多面鏡72b ο使得激光以在主掃描方向被掃描的方式撞擊旋轉多面鏡72b的小鏡面。
[0043]圖3是示意性地圖解掃描光學系統(tǒng)的配置圖。入射在旋轉多面鏡72b的上層72-2上的激光在經(jīng)過第一出射透鏡(LI )81、第二出射透鏡(L2)82和防塵玻璃85之后，以恒定速度掃描感光鼓30 (30d、30c)的表面，從而在表面上形成靜電潛像。用于使激光改方向的反射鏡83a、83b和83c被布置在光路上。
[0044]入射在旋轉多面鏡72b的下層72-1上的激光在經(jīng)過第一出射透鏡81、第二出射透鏡82和防塵玻璃85之后，以恒定速度掃描感光鼓30 (30d、30c)的表面，從而在表面上形成靜電潛像。用于使激光改方向的反射鏡84被布置在光路上。如上所述的掃描光學系統(tǒng)、輸入光學系統(tǒng)和偏轉器被固定到光學外殼90，光學外殼90是與此成整塊的外殼，以確保光學掃描裝置60的特性。
[0045]如圖4中所示，偏轉器72包含被安裝在其上的旋轉多面鏡72b，并且被組裝到電機板72a上。多面鏡72b是兩個層的層疊，每個層具有四個小鏡面。旋轉多面鏡72b的上層72-2和下層72-1旋轉地彼此位移角Θ。雖然在本實施例中，角Θ被設定為45度，但是Θ的值不局限于此。旋轉多面鏡72b的上層72-2掃描感光鼓30d，同時旋轉多面鏡72b的下層72-1掃描感光鼓30c。這個結構允許按照各個圖像數(shù)據(jù)對于每個位置進行掃描曝光，而不是同時幾何地進行掃描。
[0046]圖5是圖解棱鏡分束器73的說明圖，棱鏡分束器73將激光分裂成兩束。從光源單元61發(fā)射出的激光(激光束A)經(jīng)受由光源單元61中的四分之一波片61-4所進行的從線偏振光到圓偏振光的轉換。當具有圓偏振光性質的激光(光束A)到達棱鏡分束器73的偏振分裂面73a時，只有圓偏振光成分的S偏振成分傳輸經(jīng)過偏振分裂面73a，S偏振成分是垂直于旋轉多面鏡72b的小鏡面(反射表面)的成分。
[0047]另一方面，當具有圓偏振光性質的激光(光束A)到達棱鏡分束器73的偏振分裂面73a時，圓偏振光成分的P偏振成分被反射出偏振分裂面73a，P偏振成分是與旋轉多面鏡72b的小鏡面(反射表面)平行的成分。被反射出偏振分裂面73a的激光進一步被反射出棱鏡分束器73的小反射鏡面73b。單個激光束以這種方式被分裂成不同偏振的兩個激光束(在下文中，“分束”)。經(jīng)由棱鏡分束器73通過分束并且因此出射所獲得的的每個激光束通過四分之一波片74被轉換回到圓偏振光。
[0048]下面具體描述光學掃描裝置60的作為本發(fā)明的特征的密封配置。圖6是圖解光學掃描裝置60的密封配置的說明圖。蓋構件91和92被組裝到光學外殼90的開口上，光學元件被收容在光學外殼90中。通過將粘彈性構件B放置在蓋構件91、92和光學外殼90的開口端之間產生的每個間隙中，來實現(xiàn)可靠的密封，粘彈性構件B是由樹脂、合成橡膠等等制成的密封構件。蓋構件的數(shù)目不局限于本實施例的數(shù)目，并且能夠是等于或者大于一個的任何數(shù)目。
[0049]蓋構件91和92是粘彈性構件B粘附的粘附體。蓋構件91、92具有盒狀形狀，其一個面被打開以提供開口，并且包含從蓋構件91、92的底部的外周向上延伸的外壁91g、92g。蓋構件91、92進一步包含在外壁918、928內部的內壁9111、9211。
[0050]蓋構件91、92相對于光學外殼90被定位，并且通過定位部和螺釘緊固部被固定到光學外殼90。光學外殼90和蓋構件91、92被配置成，螺旋部的支承面提供公隙(clearance)。因此，蓋構件91和92被附接到光學外殼90，以致光學外殼90的側壁部分被插入外壁91g、92g和內壁91h、92h之間。
[0051 ]每個粘彈性構件B通過熔融器等等被加熱，并且注入由蓋構件91和92的外壁91g、92g、內壁91h、92h和粘附體表面91e、92e所包圍的部分，該部分是被夾在蓋構件91和92的外壁9 Ig、92g和內壁9 Ih、92h之間的底部的部分。然后，粘彈性構件B通過被冷卻而變硬。粘彈性構件B以這種方式被粘附到蓋構件91和92上。粘彈性構件B的粘附體部分是外壁91g和92g、內壁91h和92h、以及粘附體表面91e和92e。更具體地，粘彈性構件B的粘附體部分是由外壁91g、92g、內壁91h、92h、以及粘附體表面91e、92e所包圍的部分。
[0052]同時，因為蓋構件91、92利用粘彈性構件B被組裝到光學外殼90上，粘彈性構件B在粘附體表面91e、92e之間被填滿到粘附體表面91e、92e上，所以反向力從各個粘彈性構件B被施加到光學外殼90。
[0053]更具體地，如圖7中所示的，在蓋構件91、92被組裝到光學外殼90上的狀態(tài)下，光學外殼90的側壁部分的遠端(S卩，開口端)壓縮粘彈性構件B。此時，反向力Fr從粘彈性構件B和蓋構件91、92被施加到光學外殼90。
[0054]當被光學外殼90壓縮時，粘彈性構件B在方向W1和方向W2上移動，在方向W沖，粘彈性構件B前進到外壁91g、92g和光學外殼90的外壁部分之間，在方向W2中，粘彈性構件B前進到內壁91h、92h和光學外殼90的內壁部分之間。因為剪切力通過粘彈性構件B的移動被施加到光學外殼90，所以取決于粘彈性構件B的壓縮量的反向力被施加到光學外殼90。
[0055]作用于光學外殼90的反向力是不均勻的，取決于施加反向力的位置而變化。這個變化起因于光學外殼90的開口端和蓋構件91之間的間隙與開口端和蓋構件92之間的間隙之間的差異、粘彈性構件B的填充高度的變化等等。被不均勻地施加到光學外殼90的反向力使光學外殼90不規(guī)則地變形，從而降低了光學特性。
[0056]然而，在本實施例中，如圖8和9中所示的，像通道的凹槽G在面向光學外殼90的開口端的同時，被形成在蓋構件91、92的粘附體表面9Ie、92e中，并且連續(xù)地延伸在蓋構件91、92的粘附體表面91e、92e的四周。如圖11中所示的，蓋構件91、92的外壁918、928和內壁9111、92h之間的距離LI被設定成大于粘附體表面91e、92e中的凹槽G的開口寬度L2。當粘彈性構件B使用熔融器等等被排出到粘附體表面91e、92e上時，這個尺寸的設定防止了凹槽G被填滿粘彈性構件B。
[0057]凹槽G的結構不局限于實施例的結構，在實施例中，凹槽G在面向開口端的同時，被形成在粘附體表面91e、92e中，并且連續(xù)地延伸在粘附體表面91e、92e的四周。例如，凹槽G可以在面向開口端的同時，被形成在粘附體表面91e、92e中，并且斷續(xù)地延伸在粘附體表面91e、92e的四周。進一步替代地，凹槽G可以被形成在粘附體表面91e、92e的至少一部分中。凹槽的G的結構不局限于實施例的結構，在實施例中，單個凹槽G在面向開□端的同時，被形成在粘附體表面91e、92e中，并且連續(xù)地延伸在粘附體表面91e、92e的四周。例如，多個凹槽G可以被鄰近地形成。凹槽G不必被形成在粘附體表面91e、92e中。例如，凹槽G可以被形成在外壁91g、92g或者內壁91h、92h中。
[0058]如圖9中所示的，因為粘彈性構件B通過熔融器等等被排出到粘附體表面91e、92e上，所以粘彈性構件B在沒有填滿凹槽G的情況下，通過被冷卻而變硬。
[0059]如圖10中所示的，當通過光學外殼90被壓縮時，粘彈性構件B在方向W3上移動，方向W3是朝向被形成在蓋構件91、92中的凹槽G的方向。結果，粘彈性構件B的壓縮量能夠被減少。因此，當蓋構件91、92被組裝到光學外殼90上時，被施加到光學外殼90的反向力能夠被減少，并且同時，光學外殼90能夠被可靠地密封。因為粘彈性構件B的填充高度的變化通過凹槽G被減幅，所以被施加到光學外殼90的反向力將不會變得不均勻。因此，光學特性的下降能夠被減少。
[0060]如圖11中所示的，外壁91g、92g的高度Dl較佳地可以大于被形成在外壁91g、92g和光學外殼90之間的粘彈性構件B的高度D2。內壁91h、92h的高度D3較佳地可以大于被形成在內壁91h、92h和光學外殼90之間的粘彈性構件B的高度D4。當如此被構造時，因為蓋構件91、92和光學外殼90之間的干擾將不會出現(xiàn)，所以光學外殼90以及蓋構件91和92的變形量能夠被減少。同時，在蓋構件91、92被組裝到光學外殼90上的狀態(tài)下，光學外殼90的開口端與粘附體表面91 e、92e分開距離(間隙)DO，其中D0>0。
[0061 ] 期望地，蓋構件91、92的外壁918、928和內壁9111、9211之間的距離1^大于光學外殼的外壁部分的厚度t，以實現(xiàn)可靠的密封。
[0062]同時，在使用偏轉器的成像設備中，偏轉器和光源(例如，可以是LD(激光二極管)、LDA(激光二極管陣列)或者VCSEL(垂直腔表面發(fā)射激光器))由于可用壽命的到期、老化等等而經(jīng)常被替換。必須去除與本實施例中的蓋構件91、92相對應的構件，以替換偏轉器和/或光源。在蓋構件91、92的去除處，可能出現(xiàn)粘彈性構件B粘到光學外殼90上并且與作為粘附體的蓋構件91、92分離的情形。在這種情況下，因為難以將與蓋構件91、92分離的粘彈性構件B再次粘附到蓋構件91、92，所以替換整個成像單元的需求上升，從用戶的成本負擔的視角出發(fā)，是不可取的。
[0063]然而，在本實施例中，因為粘彈性構件B被截留(entrapped)在凹槽G中，粘彈性構件B與作為粘附體的蓋構件91、92的分離能夠被減少。因此，可以利用再次粘到其上的粘彈性構件B，來使用從光學外殼90被去除的蓋構件91、92。
[0064]雖然上面已經(jīng)描述了本發(fā)明的實施例，但是本發(fā)明的實施例不局限于此。例如，本發(fā)明適用于蓋構件不包含內壁的配置。應當注意，在實施例中描述的部件的材料和尺寸僅僅是示范性的，并且其他的各種材料和尺寸能夠被選擇，只要本發(fā)明的優(yōu)點是能實現(xiàn)的。
[0065]根據(jù)本發(fā)明的方面，能夠可靠地密封外殼的簡單的外殼結構能夠被提供。
[0066]雖然為了徹底并且清楚的披露，已經(jīng)相對于具體的實施例描述了本發(fā)明，但是附上權利要求書不因此而被限制，而是被解釋為體現(xiàn)本領域的技術人員可以想到的清楚地落入此處闡明的基本教導之內的所有的修改和替換構造。
【主權項】
1.一種外殼結構，其特征在于，包括: 外殼，所述外殼被配置成在其中收容成像設備要使用的部件，并且所述外殼具有開口 ；蓋構件，所述蓋構件被配置成覆蓋所述外殼的所述開口，并且所述蓋構件包含粘附體部分;和 密封構件，所述密封構件被放置在所述外殼的開口端和所述蓋構件之間，并且被配置成當所述蓋構件被附接到所述外殼時，通過被壓縮而在所述蓋構件和所述外殼之間形成密封， 所述密封構件粘附到所述蓋構件的所述粘附體部分，并且 至少一個凹槽被形成在所述蓋構件的所述粘附體部分中。2.如權利要求1所述的外殼結構， 其特征在于，所述蓋構件包含底部、從所述底部的外周向上延伸的外壁、以及布置在所述外壁內部的內壁，和 所述蓋構件的所述粘附體部分是由所述底部、所述外壁以及所述內壁所包圍的部分。3.如權利要求2所述的外殼結構，其特征在于，所述凹槽被形成在所述外壁和所述內壁之間的所述底部中。4.如權利要求2或3所述的外殼結構，其特征在于， 形成在所述外壁和所述外殼之間的所述密封構件的以所述底部為基準的高度大于所述開口端和所述底部之間的間隙。5.如權利要求2到4中任一項所述的外殼結構，其特征在于， 形成在所述內壁和所述外殼之間的所述密封構件的以所述底部為基準的高度大于所述開口端和所述底部之間的間隙。6.如權利要求1到5中任一項所述的外殼結構，其特征在于，所述密封構件是粘彈性構件。7.如權利要求1到6中任一項所述的外殼結構，其特征在于，所述凹槽被形成為，在面向所述開口端的同時，連續(xù)地延伸。8.如權利要求1到6中任一項所述的外殼結構，其特征在于，所述凹槽被形成為，在面向所述開口端的同時，斷續(xù)地延伸。9.如權利要求1到8中任一項所述的外殼結構，其特征在于，所述蓋構件的數(shù)目至少為110.一種光學掃描裝置，其特征在于，包括: 光源，所述光源被配置成發(fā)射出光束； 偏轉器，所述偏轉器被配置成使所述光源發(fā)射出的所述光束偏轉，從而使得所述光束沿主掃描方向掃描;和 外殼，所述外殼被配置成在其中收容多個光學元件，所述多個光學元件用于使得由所述偏轉器偏轉的所述光束撞擊要被掃描的表面， 所述外殼具有如權利要求1到9中任一項所述的外殼結構。11.如權利要求10所述的光學掃描裝置，其特征在于，所述光源包含至少一個發(fā)光點。12.如權利要求10或11所述的光學掃描裝置，其特征在于，所述光源是表面發(fā)射激光器。13.—種成像設備，其特征在于，包括如權利要求1到9中任一項所述的外殼結構和如權利要求10到12中任一項所述的光學掃描裝置中的任何一個。14.如權利要求13所述的成像設備，其特征在于，所述成像設備被配置成形成光柵圖像。
【文檔編號】G02B26/10GK105866943SQ201610078388
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年2月3日
【發(fā)明人】吉田大輔, 山川健志
【申請人】株式會社理光