本發(fā)明涉及顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置、方法和檢測(cè)設(shè)備。

背景技術(shù)：

MM(宏觀微觀)測(cè)試設(shè)備是TFT-LCD面板領(lǐng)域在宏觀檢測(cè)段主要設(shè)備。隨著面板尺寸的大型化，高分辨率，輕薄化，和低功耗的發(fā)展，玻璃基板越來越薄，其中像素也越來越小，在工藝制程中出現(xiàn)顯示不均勻缺陷幾率也逐漸增大，因此顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)就顯得越發(fā)重要，其可以攔截不良，同時(shí)提高產(chǎn)品良率，但是現(xiàn)有的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置中存在以下問題：

第一:雖然能檢測(cè)出Mura(顯示不均勻)缺陷，但無法準(zhǔn)確的定位和描述形貌，只能靠人工簡(jiǎn)單粗略的記錄，這樣就存在不能準(zhǔn)確的反饋顯示不均勻缺陷的位置和形貌的問題；

第二：在人工記錄過程后，再反饋給工藝科室匹配接觸點(diǎn)，無形中會(huì)有大量產(chǎn)品仍然在生產(chǎn)和產(chǎn)生不良，增大了產(chǎn)品的不良率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的主要目的在于提供一種顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置、方法和檢測(cè)設(shè)備，解決現(xiàn)有的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置雖然能檢測(cè)出顯示不均勻缺陷，但無法準(zhǔn)確的定位和描述形貌，只能靠人工簡(jiǎn)單粗略的記錄，不能準(zhǔn)確的反饋顯示不均勻缺陷的位置和形貌的問題。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供了一種顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置，用于顯現(xiàn)顯示基板上的顯示不均勻缺陷，所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括激光發(fā)射源、激光感應(yīng)器、運(yùn)動(dòng)支撐單元、顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元以及位置檢測(cè)單元，其中，

所述激光發(fā)射源用于被控制而向所述顯示基板上的顯示不均勻缺陷處發(fā)射激光信號(hào)，并被控制而描繪出所述顯示不均勻缺陷的形貌；

所述運(yùn)動(dòng)支撐單元，與所述激光感應(yīng)器連接，用于支撐所述激光感應(yīng)器，并控制所述激光感應(yīng)器運(yùn)動(dòng)至能夠接收到所述激光發(fā)射源發(fā)射的激光的位置；

所述激光感應(yīng)器，用于接收并記錄所述激光發(fā)射源發(fā)射的激光信號(hào)；

所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元，與所述激光感應(yīng)器連接，用于將所述激光感應(yīng)器接收到的激光信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)，以模擬出顯示不均勻缺陷的形貌；

所述位置檢測(cè)單元，與所述運(yùn)動(dòng)支撐單元連接，用于通過檢測(cè)所述運(yùn)動(dòng)支撐單元支撐的激光感應(yīng)器與所述顯示基板的相對(duì)坐標(biāo)，而得到所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)。

實(shí)施時(shí)，所述運(yùn)動(dòng)支撐單元還用于控制所述激光感應(yīng)器的表面與所述顯示基板之間的角度小于預(yù)定角度。

實(shí)施時(shí)，所述顯示基板設(shè)置于機(jī)臺(tái)上；

所述運(yùn)動(dòng)支撐單元包括固定軌道、伸縮桿、旋轉(zhuǎn)支撐模組和動(dòng)力機(jī)構(gòu)，其中，

所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)分別與所述伸縮桿和所述旋轉(zhuǎn)支撐模組連接；

所述固定軌道沿第一方向固定設(shè)置于所述機(jī)臺(tái)的一側(cè)邊；

所述伸縮桿沿著第二方向設(shè)置，所述伸縮桿包括固定端和伸縮端；

所述伸縮桿的固定端設(shè)置于所述固定軌道上，所述伸縮桿能夠被所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而沿著所述固定軌道滑動(dòng)；

所述伸縮桿的伸縮端能夠被所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而沿著第二方向運(yùn)動(dòng)；

所述旋轉(zhuǎn)支撐模組設(shè)置于所述伸縮桿的伸縮端；

所述旋轉(zhuǎn)支撐模組與所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)連接，用于支撐所述激光感應(yīng)器，并能夠被所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而帶動(dòng)所述激光感應(yīng)器旋轉(zhuǎn)；

所述激光感應(yīng)器位于所述機(jī)臺(tái)和所述顯示基板之間。

實(shí)施時(shí)，所述旋轉(zhuǎn)支撐模組包括支撐旋轉(zhuǎn)球和支撐部；

所述支撐旋轉(zhuǎn)球，設(shè)置于所述伸縮桿的伸縮端，與所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)連接，能夠被動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而旋轉(zhuǎn)；

所述支撐部與所述支撐旋轉(zhuǎn)球連接，并用于支撐所述激光感應(yīng)器，能夠隨著所述支撐旋轉(zhuǎn)球旋轉(zhuǎn)而帶動(dòng)所述激光感應(yīng)器相應(yīng)旋轉(zhuǎn)。

實(shí)施時(shí)，所述位置檢測(cè)單元包括位移傳感器、角度傳感器、顯示基板位置檢測(cè)模塊，相對(duì)位置檢測(cè)模塊，其中，

所述位移傳感器設(shè)置于所述伸縮桿的伸縮端；

所述角度傳感器設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)支撐模組；

所述位移傳感器用于檢測(cè)得到所述伸縮桿的伸縮端的線性位移信號(hào)；

所述角度傳感器用于檢測(cè)當(dāng)所述旋轉(zhuǎn)支撐模組被所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而旋轉(zhuǎn)至所述激光感應(yīng)器與所述顯示基板平行時(shí)，所述旋轉(zhuǎn)支撐模組需要旋轉(zhuǎn)的角度信息；

所述顯示基板位置檢測(cè)模塊，用于檢測(cè)所述顯示基板的絕對(duì)位置信息；

所述相對(duì)位置檢測(cè)模塊，分別與所述位移傳感器、所述角度傳感器和所述顯示基板位置檢測(cè)模塊連接，用于根據(jù)所述顯示基板的絕對(duì)位置信息，所述線性位移信號(hào)和所述角度信息，計(jì)算得到所述激光感應(yīng)器在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)。

實(shí)施時(shí)，本發(fā)明所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置還包括：

顯示不均勻缺陷存儲(chǔ)單元，分別與所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元和所述位置檢測(cè)單元連接，用于存儲(chǔ)所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)以及顯示不均勻缺陷的形貌。

本發(fā)明還提供了一種顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)方法，應(yīng)用于上述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置，所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)方法包括：

激光發(fā)射源向顯示基板上的顯示不均勻缺陷處發(fā)射激光信號(hào)；

運(yùn)動(dòng)支撐單元控制激光感應(yīng)器運(yùn)動(dòng)至能夠接收到所述激光發(fā)射源發(fā)射的激光的位置，并控制所述激光感應(yīng)器與所述顯示基板之間的角度小于預(yù)定角度；

所述激光發(fā)射源描繪出所述顯示不均勻缺陷的形貌；

所述激光感應(yīng)器接收并記錄所述激光發(fā)射源發(fā)射的激光信號(hào)；

顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元所述激光感應(yīng)器接收到的激光信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)，以模擬出顯示不均勻缺陷的形貌；

位置檢測(cè)單元通過檢測(cè)所述運(yùn)動(dòng)支撐單元支撐的激光感應(yīng)器與所述顯示基板的相對(duì)坐標(biāo)，而得到所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)。

本發(fā)明還提供了一種檢測(cè)設(shè)備，包括機(jī)臺(tái)，還包括如權(quán)利要求1至6中任一權(quán)利要求所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置；

所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置用于檢測(cè)設(shè)置于所述機(jī)臺(tái)上的顯示基板上的顯示不均勻缺陷。

實(shí)施時(shí)，本發(fā)明所述的檢測(cè)設(shè)備還包括接觸點(diǎn)位存儲(chǔ)單元、歷史形貌存儲(chǔ)單元、第一比較單元和第二比較單元；

所述接觸點(diǎn)位存儲(chǔ)單元，用于預(yù)先存儲(chǔ)在生產(chǎn)過程中各工藝設(shè)備分別與所述顯示基板接觸的接觸點(diǎn)位；

所述歷史形貌存儲(chǔ)單元，用于預(yù)先存儲(chǔ)在生成過程中形成的多個(gè)歷史顯示不均勻缺陷的形貌，及形成該歷史顯示不均勻缺陷的工藝原因；

所述第一比較單元，分別與所述接觸點(diǎn)位存儲(chǔ)單元和所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括的位置檢測(cè)單元連接，用于通過比對(duì)來自所述位置檢測(cè)單元的顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)和所述接觸點(diǎn)位，以得到顯示不均勻缺陷位置匹配記錄；

所述第二比較單元，分別與所述歷史形貌存儲(chǔ)單元和所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元連接，用于通過比較來自顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元的顯示不均勻缺陷的形貌和所述歷史顯示不均勻缺陷的形貌，以得到形成該顯示不均勻缺陷的工藝原因。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置通過激光發(fā)射源向所述顯示基板上的顯示不均勻缺陷處發(fā)射激光信號(hào)，并描繪出所述顯示不均勻缺陷的形貌、并設(shè)置由運(yùn)動(dòng)支撐單元控制運(yùn)動(dòng)至能接受激光的位置的激光感應(yīng)器，由顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元根據(jù)該激光感應(yīng)器接收到的激光信號(hào)而模擬出顯示不均勻缺陷的形貌，由位置檢測(cè)單元確定所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)，從而可以清楚準(zhǔn)確的檢測(cè)得到顯示基板上的顯示不均勻缺陷的形貌和位置。

并且，本發(fā)明實(shí)施例所述的檢測(cè)設(shè)備通過接觸點(diǎn)位存儲(chǔ)單元預(yù)先存儲(chǔ)在生產(chǎn)過程中各工藝設(shè)備分別與所述顯示基板接觸的接觸點(diǎn)位，之后通過第一比較單元比較顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括的位置檢測(cè)單元檢測(cè)得到的顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)和所述接觸點(diǎn)位，可以得到顯示不均勻缺陷位置匹配記錄，也即可以得到所述顯示不均勻缺陷可能是由那個(gè)設(shè)備造成的；本發(fā)明實(shí)施例所述的檢測(cè)設(shè)備還通過歷史形貌存儲(chǔ)單元預(yù)先存儲(chǔ)在生成過程中形成的多個(gè)歷史顯示不均勻缺陷的形貌，及形成該歷史顯示不均勻缺陷的工藝原因，之后通過第二比較單元比較顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元檢測(cè)得到的顯示不均勻缺陷的形貌和所述歷史顯示不均勻缺陷的形貌，可以得到形成該顯示不均勻缺陷的工藝原因。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置的結(jié)構(gòu)圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括的運(yùn)動(dòng)支撐單元13的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括的運(yùn)動(dòng)支撐單元中的旋轉(zhuǎn)支撐模組的結(jié)構(gòu)圖；

圖4是本發(fā)明另一實(shí)施例所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置的結(jié)構(gòu)圖；

圖5是本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)方法的流程圖；

圖6是本發(fā)明實(shí)施例所述的檢測(cè)設(shè)備包括的機(jī)臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7是本發(fā)明實(shí)施例所述的檢測(cè)設(shè)備的結(jié)構(gòu)圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

如圖1所示，本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置，用于顯現(xiàn)顯示基板10上的顯示不均勻缺陷，所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括激光發(fā)射源11、激光感應(yīng)器12、運(yùn)動(dòng)支撐單元13、顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元14以及位置檢測(cè)單元15，其中，

所述激光發(fā)射源11用于被控制而向所述顯示基板10上的顯示不均勻缺陷處發(fā)射激光信號(hào)，并被控制而描繪出所述顯示不均勻缺陷的形貌；

所述運(yùn)動(dòng)支撐單元13，與所述激光感應(yīng)器12連接，用于支撐所述激光感應(yīng)器12，并控制所述激光感應(yīng)器12運(yùn)動(dòng)至能夠接收到所述激光發(fā)射源11發(fā)射的激光的位置；

所述激光感應(yīng)器12，用于接收并記錄所述激光發(fā)射源11發(fā)射的激光信號(hào)；

所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元14，與所述激光感應(yīng)器12連接，用于將所述激光感應(yīng)器12接收到的激光信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)，以模擬出顯示不均勻缺陷的形貌；

所述位置檢測(cè)單元15，與所述運(yùn)動(dòng)支撐單元13連接，用于通過檢測(cè)所述運(yùn)動(dòng)支撐單元13支撐的激光感應(yīng)器12與所述顯示基板10的相對(duì)坐標(biāo)，而得到所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板10上的位置坐標(biāo)。

本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置通過激光發(fā)射源11向所述顯示基板10上的顯示不均勻缺陷處發(fā)射激光信號(hào)，并描繪出所述顯示不均勻缺陷的形貌、并設(shè)置由運(yùn)動(dòng)支撐單元13控制運(yùn)動(dòng)至能接受激光的位置的激光感應(yīng)器12，由顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元14根據(jù)該激光感應(yīng)器12接收到的激光信號(hào)而模擬出顯示不均勻缺陷的形貌，由位置檢測(cè)單元15確定所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板10上的位置坐標(biāo)，從而可以清楚準(zhǔn)確的檢測(cè)得到顯示基板10上的顯示不均勻缺陷的形貌和位置。

在實(shí)際操作時(shí)，所述激光發(fā)射源11即相當(dāng)于一只激光筆，工作人員可以操作該激光發(fā)射源11描繪顯示不均勻缺陷的形貌。

在實(shí)際操作時(shí)，所述激光感應(yīng)器12與所述激光發(fā)射源11通信連接。

在實(shí)際操作時(shí)，所述顯示基板10設(shè)置于機(jī)臺(tái)(圖1中未示出)上，所述顯示基板10由設(shè)置于所述機(jī)臺(tái)上的多個(gè)吸附支撐柱101支撐。

在具體實(shí)施時(shí)，所述運(yùn)動(dòng)支撐單元還用于控制所述激光感應(yīng)器的表面與所述顯示基板之間的角度小于預(yù)定角度。

在檢測(cè)過程中，運(yùn)動(dòng)支撐單元還需要控制激光感應(yīng)器與顯示基板平行(由于在實(shí)際操作時(shí)比較難控制兩者精確的平行，因此限定兩者之間的角度小于預(yù)定角度，所述預(yù)定角度例如可以為1度)，以便確定顯示不均勻缺陷在顯示基板上的坐標(biāo)。

在實(shí)際操作時(shí)，所述顯示基板可以設(shè)置于機(jī)臺(tái)上；

如圖2所示，所述運(yùn)動(dòng)支撐單元13包括固定軌道131、伸縮桿132、旋轉(zhuǎn)支撐模組133和動(dòng)力機(jī)構(gòu)(圖2中未示出)，其中，

所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)(圖2中未示出)分別與所述伸縮桿和所述旋轉(zhuǎn)支撐模組連接；

所述固定軌道131沿第一方向固定設(shè)置于所述機(jī)臺(tái)(圖2中未示出)的一側(cè)邊；

所述伸縮桿132沿著第二方向設(shè)置，所述伸縮桿132包括固定端和伸縮端；

所述伸縮桿132的固定端設(shè)置于所述固定軌道131上，所述伸縮桿132能夠被所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而沿著所述固定軌道131滑動(dòng)；

所述伸縮桿132的伸縮端能夠被所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而沿著第二方向運(yùn)動(dòng)；

所述旋轉(zhuǎn)支撐模組133設(shè)置于所述伸縮桿132的伸縮端；

所述旋轉(zhuǎn)支撐模組133與所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)(圖2中未示出)連接，用于支撐所述激光感應(yīng)器(圖2中未示出)，并能夠被所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而帶動(dòng)所述激光感應(yīng)器旋轉(zhuǎn)；

所述激光感應(yīng)器(圖2中未示出)位于所述機(jī)臺(tái)(圖2中未示出)和所述顯示基板之間。

在實(shí)際操作時(shí)，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)可以包括多個(gè)馬達(dá)或者其他任何可以驅(qū)動(dòng)物體線性運(yùn)動(dòng)并旋轉(zhuǎn)的動(dòng)力器件，所述動(dòng)力器件的設(shè)置位置可以在任何方便驅(qū)動(dòng)伸縮桿132沿著固定軌道131滑動(dòng)的位置、方便驅(qū)動(dòng)伸縮桿132的伸縮端沿著第二方向運(yùn)動(dòng)的位置，以及方便驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)支撐模組133旋轉(zhuǎn)的位置。

如圖2所示，所述第一方向例如可以為前后方向(Y方向)，所述第二方向例如可以為左右方向(X方向)；所述旋轉(zhuǎn)支撐模組133設(shè)置于所述伸縮桿132的伸縮端，并所述伸縮桿132的固定端設(shè)置于所述固定軌道131上，因此隨著伸縮桿132沿著固定軌道131前后移動(dòng)可以控制旋轉(zhuǎn)支撐模組133帶動(dòng)激光感應(yīng)器(圖2中未示出)前后移動(dòng)，隨著伸縮桿132的伸縮端左右移動(dòng)，可以控制旋轉(zhuǎn)支撐模組133帶動(dòng)激光感應(yīng)器(圖2中未示出)左右移動(dòng)，從而通過伸縮桿132的伸縮端的沿著X方向的移動(dòng)距離和伸縮桿132沿著固定軌道131的沿著Y方向的移動(dòng)距離，可以得到旋轉(zhuǎn)支撐模組133支撐的激光感應(yīng)器12的線性位移信號(hào)；之后再結(jié)合旋轉(zhuǎn)支撐模組133控制激光感應(yīng)器旋轉(zhuǎn)的角度(旋轉(zhuǎn)支撐模組133控制激光感應(yīng)器旋轉(zhuǎn)至其表面與顯示基板平行)，以及旋轉(zhuǎn)后旋轉(zhuǎn)支撐模組133支撐的激光感應(yīng)器與顯示基板之間的固定距離，通過計(jì)算和補(bǔ)償，可以得到所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)。

具體的，所述第一方向可以為沿著所述機(jī)臺(tái)的該側(cè)邊的方向，所述第二方向優(yōu)選為垂直于所述第一方向，但是在實(shí)際操作時(shí)所述第二方向也可以為其他的方向，但是需保證所述第二方向與所述第一方向不同。

在本發(fā)明如圖2所示的運(yùn)動(dòng)支撐單元的具體實(shí)施例中，運(yùn)動(dòng)支撐單元包括固定軌道、伸縮桿、旋轉(zhuǎn)支撐模組和動(dòng)力機(jī)構(gòu)，以能夠方便準(zhǔn)確的控制激光感應(yīng)器線性位移及旋轉(zhuǎn)至能夠接收到激光發(fā)射源發(fā)射的激光的位置，并激光感應(yīng)器與顯示基板近似平行，以便通過激光感應(yīng)器接收到的激光信號(hào)描繪出顯示不均勻缺陷形貌，并得到顯示不均勻缺陷在顯示基板上的坐標(biāo)。

在優(yōu)選情況下，運(yùn)動(dòng)支撐單元能夠控制激光感應(yīng)器與顯示基板平行。

具體的，所述旋轉(zhuǎn)支撐模組可以包括支撐旋轉(zhuǎn)球和支撐部；

所述支撐旋轉(zhuǎn)球，設(shè)置于所述伸縮桿的伸縮端，與所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)連接，能夠被動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而旋轉(zhuǎn)；

所述支撐部與所述支撐旋轉(zhuǎn)球連接，并用于支撐所述激光感應(yīng)器，能夠隨著所述支撐旋轉(zhuǎn)球旋轉(zhuǎn)而帶動(dòng)所述激光感應(yīng)器相應(yīng)旋轉(zhuǎn)。

根據(jù)一種具體實(shí)施方式，如圖3所示，所述旋轉(zhuǎn)支撐模組可以包括支撐旋轉(zhuǎn)球31和支撐部；

所述支撐旋轉(zhuǎn)球31，設(shè)置于所述伸縮桿132的伸縮端，與所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)(圖3中未示出)連接，能夠被動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而旋轉(zhuǎn)；

所述支撐部包括支撐桿321和支撐圓盤322；

所述支撐圓盤322通過所述支撐桿321與所述支撐旋轉(zhuǎn)球31連接，并用于支撐所述激光感應(yīng)器12，能夠隨著所述支撐旋轉(zhuǎn)球31旋轉(zhuǎn)而帶動(dòng)所述激光感應(yīng)器12相應(yīng)旋轉(zhuǎn)。

在實(shí)際操作時(shí)，所述支撐圓盤也可以被替換為其他的形狀，只需能夠支撐激光感應(yīng)器12即可。

在實(shí)際操作時(shí)，所述位置檢測(cè)單元可以包括位移傳感器、角度傳感器、顯示基板位置檢測(cè)模塊，相對(duì)位置檢測(cè)模塊，其中，

所述位移傳感器設(shè)置于所述伸縮桿的伸縮端；

所述角度傳感器設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)支撐模組；

所述位移傳感器用于檢測(cè)得到所述伸縮桿的伸縮端的線性位移信號(hào)；

所述角度傳感器用于檢測(cè)當(dāng)所述旋轉(zhuǎn)支撐模組被所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制而旋轉(zhuǎn)至所述激光感應(yīng)器與所述顯示基板平行時(shí)，所述旋轉(zhuǎn)支撐模組需要旋轉(zhuǎn)的角度信息；

所述顯示基板位置檢測(cè)模塊，用于檢測(cè)所述顯示基板的絕對(duì)位置信息；

所述相對(duì)位置檢測(cè)模塊，分別與所述位移傳感器、所述角度傳感器和所述顯示基板位置檢測(cè)模塊連接，用于根據(jù)所述顯示基板的絕對(duì)位置信息，所述線性位移信號(hào)和所述角度信息，計(jì)算得到所述激光感應(yīng)器在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)。

在實(shí)際操作時(shí)，位置檢測(cè)單元包括位移傳感器、角度傳感器、顯示基板位置檢測(cè)模塊，相對(duì)位置檢測(cè)模塊，位移傳感器可以檢測(cè)伸縮桿的伸縮端的線性位移信號(hào)，角度傳感器可以檢測(cè)旋轉(zhuǎn)支撐模組的旋轉(zhuǎn)的角度信號(hào)，然后相對(duì)位置檢測(cè)模塊根據(jù)所述線性位移信號(hào)、所述角度信號(hào)和顯示基板的絕對(duì)位置信息可以計(jì)算得到顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)。

在具體實(shí)施時(shí)，如圖4所示，本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置還包括：

顯示不均勻缺陷存儲(chǔ)單元16，分別與所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元14和所述位置檢測(cè)單元15連接，用于存儲(chǔ)所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)以及顯示不均勻缺陷的形貌。

如圖5所示，本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)方法，應(yīng)用于上述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置，所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)方法包括：

S1：激光發(fā)射源向顯示基板上的顯示不均勻缺陷處發(fā)射激光信號(hào)；

S2：運(yùn)動(dòng)支撐單元控制激光感應(yīng)器運(yùn)動(dòng)至能夠接收到所述激光發(fā)射源發(fā)射的激光的位置，并控制所述激光感應(yīng)器與顯示基板之間的角度小于預(yù)定角度；

S3：所述激光發(fā)射源描繪出所述顯示不均勻缺陷的形貌；

S4：所述激光感應(yīng)器接收并記錄所述激光發(fā)射源發(fā)射的激光信號(hào)；

S5：顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元所述激光感應(yīng)器接收到的激光信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào)，以模擬出顯示不均勻缺陷的形貌；

S6：位置檢測(cè)單元通過檢測(cè)所述運(yùn)動(dòng)支撐單元支撐的激光感應(yīng)器與所述顯示基板的相對(duì)坐標(biāo)，而得到所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)。

本發(fā)明實(shí)施例所述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)方法通過激光發(fā)射源向所述顯示基板上的顯示不均勻缺陷處發(fā)射激光信號(hào)，并描繪出所述顯示不均勻缺陷的形貌、并設(shè)置由運(yùn)動(dòng)支撐單元控制運(yùn)動(dòng)至能接受激光的位置的激光感應(yīng)器，由顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元根據(jù)該激光感應(yīng)器接收到的激光信號(hào)而模擬出顯示不均勻缺陷的形貌，由位置檢測(cè)單元確定所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)，從而可以清楚準(zhǔn)確的檢測(cè)得到顯示基板上的顯示不均勻缺陷的形貌和位置。

本發(fā)明實(shí)施例所述的檢測(cè)設(shè)備，包括機(jī)臺(tái)，還包括上述的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置；

所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置用于檢測(cè)設(shè)置于所述機(jī)臺(tái)上的顯示基板上的顯示不均勻缺陷。

所述檢測(cè)設(shè)備即為MM(宏觀微觀)檢測(cè)設(shè)備，如圖6所示，所述機(jī)臺(tái)60上設(shè)置有多個(gè)真空吸附孔61；所述真空吸附孔61用于吸附顯示基板(圖6中未示出)，所述機(jī)臺(tái)60上還設(shè)置有多個(gè)用于固定顯示基板的定位器62，在所述機(jī)臺(tái)60的一側(cè)邊設(shè)置有固定軌道(圖6中未示出)，伸縮桿132的固定端設(shè)置于所述固定軌道上，所述伸縮桿132能夠沿著所述固定軌道滑動(dòng)；所述伸縮桿132的伸縮端設(shè)置有旋轉(zhuǎn)支撐模組133；

另外，所述機(jī)臺(tái)60上設(shè)置有多個(gè)支撐架63，所述真空吸附孔61設(shè)置于所述支撐架63上；

在檢測(cè)顯示基板上的顯示不均勻缺陷時(shí)，所述顯示基板位于所述伸縮桿132的上方。

優(yōu)選的，如圖7所示，本發(fā)明實(shí)施例所述的檢測(cè)設(shè)備還包括接觸點(diǎn)位存儲(chǔ)單元71、歷史形貌存儲(chǔ)單元72、第一比較單元73和第二比較單元74；

所述接觸點(diǎn)位存儲(chǔ)單元71，用于預(yù)先存儲(chǔ)在生產(chǎn)過程中各工藝設(shè)備分別與所述顯示基板接觸的接觸點(diǎn)位；

所述歷史形貌存儲(chǔ)單元72，用于預(yù)先存儲(chǔ)在生成過程中形成的多個(gè)歷史顯示不均勻缺陷的形貌，及形成該歷史顯示不均勻缺陷的工藝原因；

所述第一比較單元73，分別與所述接觸點(diǎn)位存儲(chǔ)單元71和所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括的位置檢測(cè)單元15連接，用于通過比對(duì)來自所述位置檢測(cè)單元15的顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)和所述接觸點(diǎn)位，以得到顯示不均勻缺陷位置匹配記錄；

所述第二比較單元74，分別與所述歷史形貌存儲(chǔ)單元72和所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元14連接，用于通過比較來自顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元14的顯示不均勻缺陷的形貌和所述歷史顯示不均勻缺陷的形貌，以得到形成該顯示不均勻缺陷的工藝原因。

在實(shí)際操作時(shí)，所述接觸點(diǎn)位存儲(chǔ)單元71、所述歷史形貌存儲(chǔ)單元72、所述第一比較單元73和所述第二比較單元74可以設(shè)置于數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)中。

本發(fā)明實(shí)施例所述的檢測(cè)設(shè)備通過接觸點(diǎn)位存儲(chǔ)單元71預(yù)先存儲(chǔ)在生產(chǎn)過程中各工藝設(shè)備分別與所述顯示基板接觸的接觸點(diǎn)位，之后通過第一比較單元73比較顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括的位置檢測(cè)單元15檢測(cè)得到的顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)和所述接觸點(diǎn)位，可以得到顯示不均勻缺陷位置匹配記錄，也即可以得到所述顯示不均勻缺陷可能是由那個(gè)設(shè)備造成的；本發(fā)明實(shí)施例所述的檢測(cè)設(shè)備還通過歷史形貌存儲(chǔ)單元72預(yù)先存儲(chǔ)在生成過程中形成的多個(gè)歷史顯示不均勻缺陷的形貌，及形成該歷史顯示不均勻缺陷的工藝原因，之后通過第二比較單元74比較顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括的顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元14檢測(cè)得到的顯示不均勻缺陷的形貌和所述歷史顯示不均勻缺陷的形貌，可以得到形成該顯示不均勻缺陷的工藝原因。

本發(fā)明實(shí)施例所述的檢測(cè)設(shè)備可以快速匹配顯示不均勻發(fā)生設(shè)備和工藝，從而及時(shí)反饋給相應(yīng)的工藝科室，調(diào)整設(shè)備硬件或參數(shù)，改善顯示不均勻缺陷，提升產(chǎn)品品質(zhì)。

本發(fā)明實(shí)施例在MM(宏觀微觀)檢測(cè)設(shè)備中用于承載顯示基板的機(jī)臺(tái)下方設(shè)計(jì)一種顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置；

在實(shí)際操作時(shí)，所述顯示基板可以為玻璃基板；

所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置包括手持的激光發(fā)射源(激光筆等)、可以前后和左右移動(dòng)的伸縮桿(所述伸縮桿的伸縮端設(shè)置有位移感應(yīng)器)、固定軌道(伸縮桿的固定端設(shè)置于所述固定軌道，并伸縮桿可以沿著所述固定軌道移動(dòng))、線性馬達(dá)、激光感應(yīng)器、用于支撐所述激光感應(yīng)器的運(yùn)動(dòng)支撐單元(所述旋轉(zhuǎn)支撐模組設(shè)置于所述伸縮桿的伸縮端)，以及記錄系統(tǒng)；

所述記錄系統(tǒng)包括顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元以及位置檢測(cè)單元；

所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)單元可以模擬出顯示不均勻缺陷的形貌；

所述位置檢測(cè)單元可以檢測(cè)得到所述顯示不均勻缺陷在所述顯示基板上的位置坐標(biāo)；

包括所述顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置的MM檢測(cè)設(shè)備還包括匹配系統(tǒng)；

所述匹配系統(tǒng)包括接觸點(diǎn)位存儲(chǔ)單元、歷史形貌存儲(chǔ)單元、第一比較單元和第二比較單元；

所述匹配系統(tǒng)通過各個(gè)工位的設(shè)備接觸點(diǎn)和顯示不均勻缺陷發(fā)生記錄，匹配發(fā)現(xiàn)的顯示不均勻缺陷產(chǎn)生工序和顯示不均勻缺陷產(chǎn)生設(shè)備，通過所述匹配系統(tǒng)調(diào)查，告知相關(guān)工藝科室及時(shí)改善，以解決顯示不均勻不良。

在顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)過程中，顯示基板會(huì)進(jìn)行移動(dòng)，因此設(shè)計(jì)了具有位移感應(yīng)器的伸縮固定桿，通過線性馬達(dá)驅(qū)動(dòng)移動(dòng)，記錄行坐標(biāo)和列坐標(biāo)；

在顯示不均勻檢測(cè)過程中，顯示基板會(huì)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，因此設(shè)計(jì)了中心有激光感應(yīng)器的圓盤狀旋轉(zhuǎn)支撐模組，通過角度傳感器記錄旋轉(zhuǎn)角度，根據(jù)旋轉(zhuǎn)后圓盤面和顯示基板之間的固定距離，通過計(jì)算和補(bǔ)償，標(biāo)出激光在顯示基板上的具體坐標(biāo)，也就是顯示不均勻缺陷的位置坐標(biāo)，同時(shí)隨著激光的移動(dòng)，采集一系列坐標(biāo)點(diǎn)，在系統(tǒng)選取(線性、帶狀、條狀等)模擬出顯示不均勻的具體形貌；

建立一個(gè)具有各個(gè)工藝設(shè)備的接觸點(diǎn)位和顯示不均勻缺陷發(fā)生記錄，通過以上的數(shù)據(jù)錄入到系統(tǒng)，進(jìn)行匹配記錄，及時(shí)快速的調(diào)查出原因，反饋給工藝科室調(diào)整改善；

在以上操作過程中，首次設(shè)計(jì)出顯示不均勻缺陷定位和定形貌的裝置，另外還第一次實(shí)現(xiàn)坐標(biāo)上傳顯示不均勻缺陷匹配記錄庫，代替只能粗略記錄大概位置和手動(dòng)畫出簡(jiǎn)單輪廓后，手動(dòng)匹配大體坐標(biāo)。因此很大程度上保證了數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性和原因查找的迅速性，及時(shí)改善，減少損失，提升產(chǎn)品品質(zhì)。

在MM檢測(cè)設(shè)備每日點(diǎn)檢的過程中，主設(shè)備切換到Maintenance(維護(hù))狀態(tài)，檢查顯示不均勻缺陷顯現(xiàn)裝置是否能正常工作，匹配記錄系統(tǒng)是否及時(shí)更新，和正常上傳；

在檢測(cè)顯示基板上的顯示不均勻缺陷狀況時(shí)，移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)顯示基板，通過燈光的照射，發(fā)現(xiàn)宏觀顯示不均勻不良，再手持激光發(fā)射源(激光筆等)照射顯示不均勻缺陷位置，同時(shí)遙控激光感應(yīng)器，使其從初始的位置移動(dòng)至顯示基板下方的激光線能照射到的位置，感應(yīng)到激光存在，記錄移動(dòng)的坐標(biāo)(X1,Y1)；其中，X1為伸縮桿的伸縮端左右位移的行坐標(biāo)，Y1為伸縮桿沿著軌道前后移動(dòng)的列坐標(biāo)；

然后旋轉(zhuǎn)中心點(diǎn)設(shè)置有激光感應(yīng)器的旋轉(zhuǎn)支撐模組，使支撐圓盤面和顯示基板平行，記錄旋轉(zhuǎn)角度α，通過支撐圓盤和顯示基板之間的已知距離，計(jì)算出補(bǔ)償坐標(biāo)(△X,△Y),從而得到顯示不均勻的具體坐標(biāo)(X1+△X,Y1+△Y)；

當(dāng)顯示不均勻缺陷為二維線狀、帶狀等形狀時(shí)，隨著激光筆的移動(dòng)，激光感應(yīng)器也隨之移動(dòng)，記錄一系列的點(diǎn)位和補(bǔ)償點(diǎn)位，通過計(jì)算系統(tǒng)，模擬出顯示不均勻的具體形貌；

開啟顯示不均勻曲線記錄數(shù)據(jù)庫，通過以前上傳的顯示不均勻缺陷坐標(biāo)和顯示不均勻缺陷形貌，匹配數(shù)據(jù)庫的各個(gè)工藝和設(shè)備的接觸點(diǎn)和具體形貌歷史記錄，因此快速的查找到不良產(chǎn)生根因，及時(shí)調(diào)整設(shè)備和工藝，改善不良；

在日常PM(Plant Maintenance，設(shè)備維護(hù))過程中，增加檢查，以使得激光感應(yīng)器能夠正常移動(dòng)、旋轉(zhuǎn)和感應(yīng)。

以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明所述原理的前提下，還可以作出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。