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下進(jìn)氣扁平式氣流粉碎機(jī)的制作方法

文檔序號:374081閱讀:500來源:國知局
專利名稱:下進(jìn)氣扁平式氣流粉碎機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及超細(xì)粉碎加工設(shè)備,特別是一種下進(jìn)氣扁平式氣流粉碎機(jī)。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的一種扁平式氣流粉碎機(jī),其結(jié)構(gòu)為氣體分配室與氣粉機(jī)分體,氣體 分配室為一環(huán)形圍管,與對應(yīng)的粉碎噴嘴用管道連接,該結(jié)構(gòu)氣粉機(jī),因氣體 分配室大,有均壓作用,故各粉碎噴嘴處壓力相同,出口速度相同,粉碎效果 及分fe效果較好,但因每個噴嘴與氣體分配室都必須用管道連接,對大規(guī)格扁 平式氣粉機(jī)而言,其粉碎噴嘴多達(dá)數(shù)十個,安裝、維修工作量大,對密封要求 高。另有一種側(cè)進(jìn)氣式氣流粉碎機(jī),其結(jié)構(gòu)氣體分配室與氣粉機(jī)為一體,采用 側(cè)進(jìn)汽方式,氣體分配室為一與粉碎噴嘴相通的環(huán)形氣室,該結(jié)構(gòu)氣粉機(jī),結(jié) 構(gòu)緊湊,安裝維修簡便,但因采用側(cè)進(jìn)氣,氣體分配室與噴嘴直接相通,造成各 噴嘴處壓力不均,出口速度不同,粉碎效果及分級效果較差。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型針對以上技術(shù)問題,提供一種能使各粉碎噴嘴處壓力相同,出 口速度相同,粉碎效果及分級效果較好,結(jié)構(gòu)緊湊,安裝維修簡便的新型扁平 式氣流粉碎機(jī)。
本實用新型的具體技術(shù)方案如下
下進(jìn)氣扁平式氣流粉碎機(jī),包括粉碎機(jī)下置氣體分配室l、粉碎機(jī)環(huán)型氣室 2,粉碎機(jī)下置氣體分配室1與粉碎機(jī)環(huán)型氣室2相通。
所述的粉碎機(jī)下置氣體分配室1設(shè)置在粉碎機(jī)環(huán)型氣室2下部,粉碎機(jī)下
置氣體分配室1通過噴射氣孔3與粉碎機(jī)環(huán)型氣室2相通,所述的噴射氣孔3 與環(huán)型氣室噴嘴4位置對應(yīng),粉碎機(jī)下置氣體分配室1底部的中央設(shè)置有進(jìn)氣 孔5。
待碎物料由送料噴嘴噴出的氣流通過文丘里噴嘴,引射入粉碎室,高壓氣 流經(jīng)入口進(jìn)入氣流分配室,分配室與粉碎室相通,氣流在自身壓力下,強(qiáng)行通 過粉碎噴嘴時,產(chǎn)生高達(dá)每秒幾百米至上千米的氣流速度,由于粉碎噴嘴與粉 碎室的相應(yīng)半徑形成一銳角粉碎角,故被粉碎的物料在粉碎噴嘴射出如此高速 的旋流帶動下作循環(huán)運(yùn)動,顆粒間、顆粒與機(jī)體間產(chǎn)生相互沖擊、碰撞、摩擦 而粉碎。粗粉在離心力作用下甩向粉碎室周壁作循環(huán)粉碎,而微粉在向心氣流 帶動下被導(dǎo)入粉碎機(jī)中心出口管進(jìn)入捕集器收集。
本實用新型的積極效果是粉碎強(qiáng)度較高,氣量消耗小,能耗低,粉碎效
率高,分級效果好等優(yōu)點。

圖1是本實用新型的縱剖面結(jié)構(gòu)示意圖
圖2是本實用新型平面結(jié)構(gòu)示意圖
其中,1——粉碎機(jī)下置氣體分配室、2——粉碎機(jī)環(huán)型氣室,3——噴射氣孔, 4——環(huán)型氣室噴嘴、5——進(jìn)氣孔。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型做進(jìn)一步說明。
下進(jìn)氣扁平式氣流粉碎機(jī),包括粉碎機(jī)下置氣體分配室l、粉碎機(jī)環(huán)型氣室 2,粉碎機(jī)下置氣體分配室1與粉碎機(jī)環(huán)型氣室2相通。
所述的粉碎機(jī)下置氣體分配室1設(shè)置在粉碎機(jī)環(huán)型氣室2下部,粉碎機(jī)下
置氣體分配室1通過噴射氣孔3與粉碎機(jī)環(huán)型氣室2相通,所述的噴射氣孔3 與環(huán)型氣室噴嘴4位置對應(yīng),粉碎機(jī)下置氣體分配室1底部的中央設(shè)置有進(jìn)氣 孔5。
權(quán)利要求1、下進(jìn)氣扁平式氣流粉碎機(jī),包括粉碎機(jī)下置氣體分配室(1)、粉碎機(jī)環(huán)型氣室(2),其特征在于粉碎機(jī)下置氣體分配室(1)與粉碎機(jī)環(huán)型氣室(2)相通。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的下進(jìn)氣扁平式氣流粉碎機(jī),其特征在于所述的粉碎 機(jī)下置氣體分配室(1)設(shè)置在粉碎機(jī)環(huán)型氣室(2)下部,粉碎機(jī)下置氣體分 配室(1)通過噴射氣孔(3)與粉碎機(jī)環(huán)型氣室(2)相通,所述的噴射氣孔(3) 與環(huán)型氣室噴嘴(4)位置對應(yīng),粉碎機(jī)下置氣體分配室(1)底部的屮央位置 設(shè)置有進(jìn)氣孔(5)。
專利摘要本實用新型涉及超細(xì)粉碎加工設(shè)備,特別是一種下進(jìn)氣扁平式氣流粉碎機(jī)。本實用新型包括粉碎機(jī)下置氣體分配室(1)、粉碎機(jī)環(huán)型氣室(2),粉碎機(jī)下置氣體分配室(1)與粉碎機(jī)環(huán)型氣室(2)相通。本實用新型的積極效果在于粉碎強(qiáng)度較高,氣量消耗小,能耗低,粉碎效率高,分級效果好等優(yōu)點。
文檔編號B02C19/06GK201183015SQ200820062659

公開日2009年1月21日 申請日期2008年3月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月25日
發(fā)明者泰 張 申請人:泰 張
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