專利名稱：二氧化錫基納米晶氣敏材料及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于二氧化錫基納米晶氣敏材料及其制造方法，涉及一種二氧化錫(SnO2)納米晶復(fù)合粉體及其SnO2基厚膜甲烷(CH4)氣敏材料的制備方法。
目前制作SnO2基厚膜CH4氣敏材料，通常用化學共沉淀法和溶膠凝膠法。其主要缺點是SnO2晶粒結(jié)晶性、表面活性及配合料均一性較差，因而對CH4氣體的靈敏度低于同濃度乙醇(C2H5OH)、一氧化碳(CO)和氫氣(H2)的靈敏度，長期穩(wěn)定性受到限制。
本發(fā)明的目的在于克服上述兩種方法制備SnO2納米晶及SnO2基厚膜甲烷氣敏材料的缺點，研究一種直接獲得結(jié)晶性良好、晶粒尺寸為7-20nm、對CH4靈敏度高選擇性良好的厚膜材料制備方法。本方法的基本原理是將超細微粉三氧化二鋁(Al2O3)、二氧化硅(SiO2)和鈀催化劑，加入到四氯化錫(SnCl4)溶液中，并放入高壓釜內(nèi)進行水熱化學反應(yīng)和活化處理，從而可獲得SnO2納米晶與Al2O3、SiO2和鈀催化劑的混合粉體。本發(fā)明的特點在于可直接獲得結(jié)晶性良好輕度團聚的納米級(7-20nm)的SnO2混合粉體。用這種粉體制作的厚膜敏感材料其熱處理溫度比傳統(tǒng)工藝方法低200-300℃，對CH4具有非常高的靈敏度和選擇性。
權(quán)利要求
1 二氧化錫納米晶及其SnO2基厚膜甲烷敏感材料的制造方法，其特征是將超微粉Al2O3、SiO2和鈀催化劑分別按重量百分比1-2％、1-4％和0.5-1％分散于PH值為4-6的四氯化錫溶液中(SnO295-98％)。
2 將這種混合物放入高壓釜內(nèi)，加入有機分散劑，在5-10MPa的壓力及120℃-250℃的超臨界或亞臨界狀態(tài)下水熱化學反應(yīng)和活化處理6-24小時，自然冷卻至室溫。
3 將經(jīng)洗滌、固液分離和干燥后的粉體產(chǎn)物置于450℃-600℃預(yù)燒后，制成厚膜漿料。
4 將這種漿料涂覆于具有金電極的載體上，在600℃-700℃熱處理1-3小時，即獲得對甲烷靈敏度高、選擇性好的厚膜敏感材料。
全文摘要
本發(fā)明是關(guān)于二氧化錫納米晶及其二氧化錫厚膜基甲烷氣敏材料的制造方法。按比例把超細微粉體Al
文檔編號H01L49/02GK1284474SQ9911584
公開日2001年2月21日 申請日期1999年8月17日 優(yōu)先權(quán)日1999年8月17日
發(fā)明者惠春, 徐愛蘭 申請人:惠春