專(zhuān)利名稱(chēng)：一種晶片腐蝕裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電子產(chǎn)品加工機(jī)械，特別是一種晶片腐蝕裝置。
背景技術(shù)：
目前晶體頻率的腐蝕是完全人工操作，按照如下步驟進(jìn)行1.測(cè)試腐蝕前晶體的頻率；2.根據(jù)目標(biāo)頻率計(jì)算要腐蝕的時(shí)間；3.放入腐蝕槽進(jìn)行腐蝕；4.腐蝕后取出，測(cè)試頻率；5.如果頻率達(dá)到目標(biāo)值；直接到8步驟；6.如果頻率低于目標(biāo)頻率，腐蝕量不夠，返回到2步驟；7.如果頻率高于目標(biāo)頻率，則作廢；8.清洗液清洗；9.離子水清洗；10.脫水烤干。以上的每一步驟都是經(jīng)過(guò)人工完成；這其中生產(chǎn)如下幾個(gè)問(wèn)題1.腐蝕液是強(qiáng)酸性的，對(duì)人體有害；很多人不愿意從事這個(gè)工作。2.工人往往根據(jù)直接的經(jīng)驗(yàn)來(lái)直接設(shè)置腐蝕時(shí)間，這樣就造成合格率不高；3.清洗要花費(fèi)工人很多時(shí)間，而且清洗不干凈；4.人工要求多，在現(xiàn)在人力資源緊缺的情況下，增加了人工成本； 5.生產(chǎn)效率低。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種晶片腐蝕裝置，它全程無(wú)需人工直接操作，人工成本低，工作效率高。實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的的技術(shù)方案是一種晶片腐蝕裝置，包括并行排布的腐蝕液槽、清洗液清洗槽以及離子水清洗槽，其特征在于在腐蝕液槽、清洗液清洗槽以及離子水清洗槽的上方具有一個(gè)由動(dòng)力源驅(qū)動(dòng)的偏心輪，該偏心輪的一端與動(dòng)力源的輸出端連接， 另一端通過(guò)連桿與晶片收納筐連接，所述的偏心輪固定在一由舉升裝置支撐的導(dǎo)軌上。而且所述的舉升裝置包括升降桿以及驅(qū)動(dòng)它的升降電機(jī)。而且所述的導(dǎo)軌底部的兩端分別設(shè)置有主動(dòng)電機(jī)以及從軸。而且所述的動(dòng)力源是低速電機(jī)。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于1.全程無(wú)需人工直接操作，安全，對(duì)操作人員的專(zhuān)業(yè)知識(shí)要求低。2.工作效率高。3.所需人工少，生產(chǎn)成本低。

圖1是晶片腐蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
參見(jiàn)圖1以下將結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明。一種電子產(chǎn)品加工機(jī)械，特別是一種晶片腐蝕裝置，包括并行排布的腐蝕液槽 1、清洗液清洗槽2以及離子水清洗槽3，其特征在于在腐蝕液槽1、清洗液清洗槽2以及離子水清洗槽3的上方具有一個(gè)由動(dòng)力源8驅(qū)動(dòng)的偏心輪7，該偏心輪7的一端與動(dòng)力源8的輸出端連接，另一端通過(guò)連桿12與晶片收納筐6連接，所述的偏心輪7固定在一由舉升裝置支撐的導(dǎo)軌5上。工作時(shí)，導(dǎo)軌5帶動(dòng)偏心輪7移動(dòng)到當(dāng)前工序?qū)?yīng)的槽的上方，這時(shí)升降機(jī)構(gòu)開(kāi)始下降，當(dāng)偏心輪7通過(guò)連桿12連接的晶片收納筐6下降至相應(yīng)的槽內(nèi)后，動(dòng)力源8開(kāi)始驅(qū)動(dòng)偏心輪7轉(zhuǎn)動(dòng)，此時(shí)晶片收納筐6在偏心輪7的帶動(dòng)下在槽內(nèi)開(kāi)始做不規(guī)則的運(yùn)動(dòng)，這樣晶片在晶片收納筐6內(nèi)被盡可能分開(kāi)，腐蝕以及清洗的效果好。當(dāng)當(dāng)前槽內(nèi)的工序完成后，升降機(jī)構(gòu)開(kāi)始上升，晶片收納筐6被帶出槽體，然后在導(dǎo)軌5的帶動(dòng)下行進(jìn)至下一工序?qū)?yīng)的槽上方，升降機(jī)構(gòu)開(kāi)始下降，進(jìn)入下一道工序。全程無(wú)需人工直接操作，安全，生產(chǎn)效率高。而且所述的舉升裝置包括升降桿10以及驅(qū)動(dòng)它的升降電機(jī)11。升降桿10在升降電機(jī)11的驅(qū)動(dòng)下工作，從而帶動(dòng)導(dǎo)軌5下上升或下降。進(jìn)一步的技術(shù)方案可以是所述的導(dǎo)軌5底部的兩端分別設(shè)置有主動(dòng)電機(jī)4以及從軸9。導(dǎo)軌5鋪設(shè)在主動(dòng)電機(jī)4以及從軸9上，并在主動(dòng)電機(jī)4的驅(qū)動(dòng)下平動(dòng)。而且所述的動(dòng)力源8是低速電機(jī)。低速電機(jī)帶動(dòng)偏心輪7轉(zhuǎn)動(dòng)，從而通過(guò)連接在偏心輪7上的連桿12帶動(dòng)晶片收納筐6做不規(guī)則運(yùn)動(dòng)。
權(quán)利要求1.一種晶片腐蝕裝置，包括并行排布的腐蝕液槽、清洗液清洗槽以及離子水清洗槽，其特征在于在腐蝕液槽、清洗液清洗槽以及離子水清洗槽的上方具有一個(gè)由動(dòng)力源驅(qū)動(dòng)的偏心輪，該偏心輪的一端與動(dòng)力源的輸出端連接，另一端通過(guò)連桿與晶片收納筐連接，所述的偏心輪固定在一由舉升裝置支撐的導(dǎo)軌上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片腐蝕裝置，其特征在于所述的舉升裝置包括升降桿以及驅(qū)動(dòng)它的升降電機(jī)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片腐蝕裝置，其特征在于所述的導(dǎo)軌底部的兩端分別設(shè)置有主動(dòng)電機(jī)以及從軸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶片腐蝕裝置，其特征在于所述的動(dòng)力源是低速電機(jī)。
專(zhuān)利摘要一種電子產(chǎn)品加工機(jī)械，特別是一種晶片腐蝕裝置，包括并行排布的腐蝕液槽、清洗液清洗槽以及離子水清洗槽，其獨(dú)到之處在于:在腐蝕液槽、清洗液清洗槽以及離子水清洗槽的上方具有一個(gè)由動(dòng)力源驅(qū)動(dòng)的偏心輪，該偏心輪的一端與動(dòng)力源的輸出端連接，另一端通過(guò)連桿與晶片收納筐連接，所述的偏心輪固定在一由舉升裝置支撐的導(dǎo)軌上。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:它全程無(wú)需人工直接操作，人工成本低，工作效率高。
文檔編號(hào)H01L21/00GK202159647SQ20112019727
公開(kāi)日2012年3月7日 申請(qǐng)日期2011年6月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月13日
發(fā)明者葉光奇, 秦濤, 秦玉林 申請(qǐng)人:湖北致源電子股份有限公司