專利名稱：襯底傳送裝置以及使用該裝置的襯底加工系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種襯底加工系統(tǒng)，并且尤其涉及一種能夠減少占地面 積(footprint area)同時(shí)提高襯底加工產(chǎn)量的襯底加工系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
集群系統(tǒng)(cluster system)通常被稱作多腔室襯底加工系統(tǒng)，其包括 傳送機(jī)械手(或處理器)和多個(gè)設(shè)置在傳送機(jī)械手周圍的處理模塊。近 年來，具有批處理功能的集群系統(tǒng)的需求持續(xù)增長，其用于液晶顯示器 (LCDs)、等離子體顯示板(PDPs)、半導(dǎo)體制造裝置等。集群系統(tǒng)例 如包括傳送腔室和可在傳送腔室中旋轉(zhuǎn)的傳送機(jī)械手。處理模塊、例如 處理腔室可安裝在傳送腔室的的每一側(cè)。
然而，傳統(tǒng)的集群系統(tǒng)包括構(gòu)造成每次只能傳送一個(gè)物體(例如襯 底)的傳送機(jī)械手和其中只能處理一個(gè)物體的處理腔室。這導(dǎo)致在系統(tǒng) 中加工襯底所需的整體加工時(shí)間的增加。結(jié)果，生產(chǎn)速度降低，并且最 終產(chǎn)品的成本增加。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的示例性實(shí)施例給出了一種用于將襯底傳送至處理腔室的襯 底傳送裝置。在一示例性實(shí)施例中，襯底傳送裝置可包括第一和第二葉
片，其被構(gòu)造成分別以不同高度支撐襯底；與該第一和第二葉片相連以 移動(dòng)該第一和第二葉片的臂部；驅(qū)動(dòng)單元，其被構(gòu)造成用于驅(qū)動(dòng)該第一 和第二葉片以及該臂部，其中當(dāng)圍繞該臂部的同一軸線旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第一 和第二葉片被疊合或展開。
本發(fā)明的示例性實(shí)施例給出了一種襯底加工裝置。在一示例性實(shí)施 例中，該襯底加工裝置可包括至少一個(gè)帶有其上裝載襯底的基座的處理 腔室；與該處理腔室相連的傳送腔室；以及安裝于該傳送腔室內(nèi)部的襯 底傳送裝置，以用于同時(shí)將襯底傳送至該處理腔室的基座。
在另一個(gè)示例性實(shí)施例中，襯底傳送裝置可包括傳送腔室；分別具 有基座的一對處理腔室，該對處理腔室并列設(shè)置在該傳送腔室的一側(cè)； 以及安裝于該傳送腔室內(nèi)部的襯底傳送裝置，以用于同時(shí)將襯底傳送至 該對處理腔室的基座。


圖1是俯視圖，示出了根據(jù)本發(fā)明的襯底加工系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)。 圖2是圖1所示襯底加工系統(tǒng)的加工單元的透視圖。 圖3是圖2所示加工單元的側(cè)向剖面圖，圖示了安裝在傳送腔室處的 襯底傳送裝置。
圖4是示例性驅(qū)動(dòng)單元的側(cè)向剖面圖，其被構(gòu)造成用于旋轉(zhuǎn)第一和第
二葉片、上臂以及下臂。
圖5A和圖5B是加工單元的俯視圖和側(cè)向剖面圖，其中襯底傳送裝置 的第一和第二葉片彼此重疊。
圖6A和圖6B是加工單元的俯視圖和側(cè)向剖面圖，其中襯底傳送裝置 的第一和第二葉片展開。
圖7示出了加工單元，其中分別具有基座的腔室并列設(shè)置。 圖8是示出了上臂的示意圖，其中安裝有第一和第二葉片的驅(qū)動(dòng)單元。
具體實(shí)施例方式
下面將參考附圖對本發(fā)明進(jìn)行更充分的描述，其中這些附圖給出了 本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。然而，本發(fā)明可以通過多種不同形式實(shí)施，且不 應(yīng)理解為限于這里所給出的具體實(shí)施例。相反，這些實(shí)施例被提供，以 使得所公開的內(nèi)容完全、詳盡，并能夠?qū)⒈景l(fā)明的范圍充分傳達(dá)給本領(lǐng) 域的技術(shù)人員。在附圖中，為清楚起見，層和區(qū)域的厚度被夸大。在所 有附圖中，相同的數(shù)字表示相同的元件。
圖1是俯視圖，示出了根據(jù)本發(fā)明的襯底加工系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，圖2是 圖1所示的襯底加工系統(tǒng)的加工單元的透視圖。圖3是圖2所示加工單 元的側(cè)向剖面圖，圖示了安裝在傳送腔室中的襯底傳送裝置。
參考圖1至圖3，稱作設(shè)備前端模塊(EFEM)的分度頭(index) 110 被安裝于襯底傳送系統(tǒng)中。分度頭110包括框架112和裝載臺(tái)(或FOUP 開啟器)114，其被構(gòu)造成打開和關(guān)閉FOUP (所謂的"載體")的蓋。 分別含有襯底W的兩個(gè)FOUP 104通過物流自動(dòng)化系統(tǒng)(如OHT、 AGV、 RGV等)被裝載于裝載臺(tái)114上。FOUP 104為用于制造的典型批量載 體。
在框架112內(nèi)部安裝有傳送機(jī)械手/自動(dòng)機(jī)械(robot) 118，以用于 在位于裝載臺(tái)114上的FOUP 104和加工單元120之間傳送襯底W。也 就是說，當(dāng)操作一次時(shí)，傳送機(jī)械手118從位于裝載臺(tái)114上的FOUP 104
中取出至少一個(gè)襯底w,并將取出的襯底w送至負(fù)載鎖定腔室/鎖料腔
室(loadlockchamber) 122的緩沖臺(tái)124。安裝在分度頭110處的傳送機(jī) 械手118可以為用于半導(dǎo)體制造過程中的多種機(jī)械手中的一種。
如圖1所示，加工單元120位于分度頭110的后面。加工單元120 包括兩個(gè)負(fù)載鎖定腔室122、傳送腔室130、處理腔室140和襯底傳送裝 置150。
傳送腔室130為多邊形腔室，其位于加工單元120的中央。每個(gè)負(fù) 載鎖定腔室122也位于分度頭110和傳送腔室130之間，并包括緩沖臺(tái) 124，待處理或處理過的襯底置于該緩沖臺(tái)124上。通常，負(fù)載鎖定腔室 122起到兩種不同環(huán)境之間、例如大氣環(huán)境和真空環(huán)境之間的緩沖空間的 作用。待處理襯底(或在處理腔室中處理過的襯底)在負(fù)載鎖定腔室122 中放置一段時(shí)間。
處理腔室140位于傳送腔室130的各側(cè)，以分別對兩個(gè)襯底執(zhí)行預(yù) 定處理。第一和第二基座142a和142b并列設(shè)置在處理腔室140內(nèi)部， 以同時(shí)對兩個(gè)襯底進(jìn)行處理。第一和第二基座142a和142b面對襯底入 口設(shè)置。雖然未在圖中示出，但可以理解，第一和第二基座142a和142b 具有以下基本功能，例如從襯底傳送裝置150接受襯底或向襯底傳送裝 置150傳送襯底(其通常通過安裝在基座處的提升頂桿組件完成)、在 加工襯底的同時(shí)保持襯底、以及根據(jù)加工溫度為襯底提供均一的熱環(huán)境。
處理腔室140可以被構(gòu)造成用于執(zhí)行多種襯底加工操作。例如，處 理腔室可以為構(gòu)造成利用等離子體去除光致抗蝕劑的灰化腔室、構(gòu)造成 沉積絕緣層的CVD腔室、構(gòu)造成蝕刻絕緣層的孔或開口以形成互連結(jié)構(gòu) 的蝕刻腔室、構(gòu)造成沉積載體層的PVD腔室或構(gòu)造成沉積金屬層的PVD 腔室。
如圖7所示，兩個(gè)處理腔室140'并列設(shè)置在傳送腔室130的每一側(cè)。
每個(gè)處理腔室140'包括基座142a。同樣的處理可以在并列設(shè)置在傳送腔 室130的每一側(cè)的處理腔室140'中進(jìn)行。在工藝條件應(yīng)當(dāng)被精密控制的 蝕刻(或沉積)工藝中，優(yōu)選在每個(gè)處理腔室140'內(nèi)處理一個(gè)襯底(見 圖7)。在工藝條件不需要精密控制的灰化工藝中，可以在一個(gè)處理腔室 140中處理多個(gè)襯底(見圖1)。
圖5A和圖5B是加工單元的俯視圖和側(cè)向剖面圖，其中襯底傳送裝 置的第一和第二葉片彼此重疊/交迭(overlap)。圖6A和圖6B是加工單 元的俯視圖和側(cè)向剖面圖，其中襯底傳送裝置的第一和第二葉片展開。
如圖1至圖4所示，襯底傳送裝置150安裝于傳送腔室130中。襯 底傳送裝置150具有特定結(jié)構(gòu)，以在每次操作中傳送兩個(gè)襯底。
襯底傳送裝置150包括第一和第二葉片，其被構(gòu)造成同時(shí)將兩個(gè)襯 底裝載到處理腔室140的第一和第二基座142a， 142b中或?qū)⑵鋸奶幚砬?室140的第一和第二基座142a， 142b中卸載。尤其是，襯底傳送裝置150 具有適于將襯底傳送至包括并排設(shè)置的第一和第二基座142a和142b的 處理腔室140的結(jié)構(gòu)。
此外，襯底傳送裝置150包括第一和第二葉片152， 154、臂部160、 旋轉(zhuǎn)體170和驅(qū)動(dòng)單元180。
旋轉(zhuǎn)體170為位于傳送腔室130的中央的圓柱體。驅(qū)動(dòng)單元180位 于旋轉(zhuǎn)體170內(nèi)。旋轉(zhuǎn)體170可通過旋轉(zhuǎn)部件172和提升部件174圍繞
自身軸線旋轉(zhuǎn)和提升。
臂部160包括水平旋轉(zhuǎn)的上臂162和下臂164。上臂162的一端與第 一和第二葉片152， 154相連，下臂164的一端與上臂162的另一端相連。 下臂164的另一端與旋轉(zhuǎn)體170相連。第一和第二葉片152， 154圍繞上 臂162的同一 (單一)軸線旋轉(zhuǎn)。上臂162可相對于下臂164旋轉(zhuǎn)。此 外，下臂164可相對于旋轉(zhuǎn)體170旋轉(zhuǎn)。第一和第二葉片152， 154順序堆疊并可旋轉(zhuǎn)地安裝在上臂162的一 端。第一和第二葉片152, 154中的每一個(gè)具有一側(cè)敞開的孔。支撐部153 分別安裝在第一和第二葉片152， 154的頂面上。襯底的邊緣裝載于支撐 部153上。襯底傳送裝置150可包括構(gòu)造成選擇性地將襯底真空吸入到 第一和第二葉片152， 154的支撐部153的真空管線(未示出)或構(gòu)造成 機(jī)械夾持襯底邊緣的邊緣夾具(未示出)。
第一和第二葉片152， 154通過圍繞上臂162的同一軸線的旋轉(zhuǎn)操作 疊合或展開(打開)。第一和第二葉片152， 154的旋轉(zhuǎn)方向彼此相反。 如圖5A和圖5B所示，第一葉片152和第二葉片154從負(fù)載鎖定腔室122 的緩沖臺(tái)124取出襯底W，同時(shí)它們彼此重疊。如圖6A和圖6B所示， 第一葉片152和第二葉片154將襯底W輸送到處理腔室140的第一和第 二基座142a和142b，同時(shí)它們被展開。如上所述，襯底傳送裝置可以一 次傳送兩個(gè)襯底，同時(shí)第一和第二葉片的方向在它們被疊合時(shí)可以改變。 這樣，傳送腔室的空間可以減小。
驅(qū)動(dòng)單元180包括構(gòu)造成用于分別水平旋轉(zhuǎn)上臂和下臂162， 164的 第一和第二臂驅(qū)動(dòng)單元182， 184以及構(gòu)造成用于反向旋轉(zhuǎn)第一和第二葉 片152， 154的第一和第二葉片驅(qū)動(dòng)單元186， 188。
圖4是一示例性驅(qū)動(dòng)單元170的側(cè)向剖面圖，其被構(gòu)造成用于旋轉(zhuǎn) 第一和第二葉片152， 154以及上臂162和下臂164。
參考圖4，下臂旋轉(zhuǎn)軸164a從下臂164的一端豎直向下延伸到旋轉(zhuǎn) 體170。第二臂驅(qū)動(dòng)單元184圍繞下臂旋轉(zhuǎn)軸164a旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)體170上的 下臂164。第二臂驅(qū)動(dòng)單元184包括第一驅(qū)動(dòng)馬達(dá)184a、構(gòu)造成用于將 第一驅(qū)動(dòng)馬達(dá)184a的動(dòng)力傳遞到下臂旋轉(zhuǎn)軸164a的皮帶輪184b和皮帶 (傳動(dòng)帶)184c。
上臂旋轉(zhuǎn)軸162a從上臂162的一端豎直向下延伸到下臂164。第一
臂驅(qū)動(dòng)單元182圍繞上臂旋轉(zhuǎn)軸162a旋轉(zhuǎn)下臂上的上臂162。第一臂驅(qū) 動(dòng)單元182包括第二驅(qū)動(dòng)馬達(dá)182a、構(gòu)造成用于將第二驅(qū)動(dòng)馬達(dá)182a的 動(dòng)力傳遞到上臂旋轉(zhuǎn)軸162a的多個(gè)皮帶輪182b和皮帶182c。
第一葉片旋轉(zhuǎn)軸152a從第一葉片152的一端豎直向下延伸到上臂 162。第一葉片驅(qū)動(dòng)單元186基于第一葉片旋轉(zhuǎn)軸152a轉(zhuǎn)動(dòng)上臂162上 的第一葉片152。第一葉片驅(qū)動(dòng)單元186包括第三驅(qū)動(dòng)馬達(dá)186a、構(gòu)造 成用于將第三驅(qū)動(dòng)馬達(dá)186a的動(dòng)力傳遞到第一葉片旋轉(zhuǎn)軸152a的多個(gè) 皮帶輪186b和皮帶186c。
第二葉片旋轉(zhuǎn)軸154a從第二葉片154的一端豎直向下穿過第一葉片 旋轉(zhuǎn)軸152a延伸到上臂164。第二葉片驅(qū)動(dòng)單元188圍繞第二葉片旋轉(zhuǎn) 軸154a轉(zhuǎn)動(dòng)上臂164上的第二葉片154。第二葉片驅(qū)動(dòng)單元188包括第 四驅(qū)動(dòng)馬達(dá)188a、構(gòu)造成用于將第四驅(qū)動(dòng)馬達(dá)188a的動(dòng)力傳遞到第二葉 片旋轉(zhuǎn)軸154a的多個(gè)皮帶輪188b和皮帶188c。
如圖8中所示，第一和第二葉片驅(qū)動(dòng)單元186， 188安裝于上臂164 處，以分別直接旋轉(zhuǎn)第一和第二葉片152， 154。同樣，在第一和第二葉 片驅(qū)動(dòng)單元186， 188安裝于上臂164處的情況下，有利的是，可以省去 包括多個(gè)皮帶輪、皮帶或類似物的復(fù)雜動(dòng)力傳輸結(jié)構(gòu)。
如上所述，下臂旋轉(zhuǎn)軸164a、上臂旋轉(zhuǎn)軸162a和第一、第二葉片旋 轉(zhuǎn)軸152a， 154a經(jīng)由例如皮帶輪(多個(gè)皮帶輪)和皮帶的機(jī)構(gòu)接受來自 相應(yīng)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)182a， 184a， 186a， 188a的動(dòng)力(旋轉(zhuǎn)力)。
第一和第二驅(qū)動(dòng)馬達(dá)182a， 184a被獨(dú)立控制，以使上臂和下臂162， 164分別位于收縮(疊合)位置和伸展位置。例如，上臂和下臂162， 164 可通過一臂驅(qū)動(dòng)單元控制以進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。第三和第四驅(qū)動(dòng)馬達(dá)186a， 188a 被獨(dú)立控制，以使第一和第二葉片152， 154位于重疊位置(見圖5A) 和雙向展開位置(見圖6A)。
襯底傳送裝置150的驅(qū)動(dòng)馬達(dá)182a， 184a， 186a和188a通過控制器 控制，其利用運(yùn)動(dòng)學(xué)方程編程，以限定將臂162， 164和第一、第二葉片 152， 154定位在目標(biāo)位置所需的多個(gè)步驟。
下面將詳細(xì)描述利用襯底傳送裝置將襯底從負(fù)載鎖定腔室傳送至處 理腔室的過程。此外，可以理解，本發(fā)明可用于在襯底加工系統(tǒng)中的不 同腔室之間傳送襯底。
圖5A和圖5B示出了襯底傳送裝置從負(fù)載鎖定腔室取出兩個(gè)襯底的 過程。如圖所示，第一和第二葉片152， 154從負(fù)載鎖定腔室122的緩沖 臺(tái)124取出兩個(gè)襯底W，同時(shí)第一和第二葉片152， 154彼此重疊。
圖6A和圖6B示出了襯底傳送裝置將取自負(fù)載鎖定腔室的兩個(gè)襯底 裝載在處理腔室的第一和第二基座上的過程。如圖所示，第一和第二葉 片152， 154移經(jīng)處理腔室140的第一和第二基座142a， 142b，同時(shí)它們 沿兩側(cè)方向展開。襯底W通過從第一和第二基座142a， 142b的上表面 上升的提升頂桿從第一和第二葉片152, 154提升至裝載位置。此時(shí)，第 一和第二葉片152， 154返回到傳送腔室130的待用位置(在該位置上臂 和下臂疊合)。當(dāng)?shù)谝缓偷诙~片152， 154被移出處理腔室140時(shí)，提 升頂桿下降，以將襯底W放置于第一和第二基座142a， 142b上。
根據(jù)本發(fā)明，襯底加工系統(tǒng)能夠減少占地面積同時(shí)提高襯底加工產(chǎn) 量。此外，該襯底加工系統(tǒng)能夠減少傳送和加工襯底所需的時(shí)間。
雖然本發(fā)明已結(jié)合附圖所示的本發(fā)明的具體實(shí)施例進(jìn)行了描述，但 其不限于此。對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，可以在不脫離本發(fā)明的范圍 和精神的情況下做出各種替換、修改和變化。
權(quán)利要求
1.一種用于將襯底傳送至處理腔室的襯底傳送裝置，包括第一和第二葉片，其被構(gòu)造成用于分別以不同高度支撐襯底；臂部，其與該第一和第二葉片相連，以移動(dòng)該第一和第二葉片；以及驅(qū)動(dòng)單元，其被構(gòu)造成用于驅(qū)動(dòng)該第一和第二葉片以及該臂部；其中，在圍繞該臂部的同一軸線旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第一和第二葉片被疊合或展開。
2. 如權(quán)利要求1所述的襯底傳送裝置，其特征在于，該第一和第二 葉片沿相反方向旋轉(zhuǎn)。
3. 如權(quán)利要求1所述的襯底傳送裝置，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)單元包 括第一和第二葉片驅(qū)動(dòng)單元，該第一和第二葉片驅(qū)動(dòng)單元被構(gòu)造成用于 圍繞一連接軸沿相反方向旋轉(zhuǎn)該第一和第二葉片，該第一和第二葉片通 過該連接軸與該臂部相連。
4. 如權(quán)利要求1所述的襯底傳送裝置，其特征在于，該臂部包括 上臂，該第一葉片的一端和該第二葉片的一端與該上臂相連；以及 下臂，其位于該上臂的下方，以與該上臂相連。
5. 如權(quán)利要求4所述的襯底傳送裝置，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)單元包括第一和第二葉片驅(qū)動(dòng)單元，其被構(gòu)造成用于圍繞一連接軸沿相反方向 旋轉(zhuǎn)該第一和第二葉片，該第一和第二葉片通過該連接軸與該臂部相連; 以及至少一個(gè)臂驅(qū)動(dòng)單元，其被構(gòu)造成用于水平地旋轉(zhuǎn)該上臂和該下臂。
6. 如權(quán)利要求1所述的襯底傳送裝置，其特征在于，該第一和第二 葉片中的每一個(gè)具有馬蹄形狀，其具有一側(cè)敞開的孔和其上放置襯底的 邊緣的支撐部。
7. —種襯底加工系統(tǒng)，包括 帶有其上裝載襯底的基座的至少一個(gè)處理腔室； 與該處理腔室相連的傳送腔室；以及襯底傳送裝置，其安裝于該傳送腔室內(nèi)部，以用于同時(shí)將襯底傳送至 該處理腔室的基座。
8. 如權(quán)利要求7所述的襯底加工系統(tǒng)，其特征在于，該處理腔室包 括朝向襯底通過的入口并列設(shè)置的第一基座和第二基座，該襯底傳送裝 置包括第一和第二葉片，該第一和第二葉片被構(gòu)造成用于以不同高度支 撐襯底并傳送襯底，同時(shí)通過圍繞同一軸線的旋轉(zhuǎn)操作使它們疊合或展 開。
9. 如權(quán)利要求7所述的襯底加工系統(tǒng)，其特征在于，還包括 帶有至少兩個(gè)其上裝載襯底的堆疊緩沖臺(tái)的負(fù)載鎖定腔室， 其中該襯底傳送裝置從該負(fù)載鎖定腔室的緩沖臺(tái)取出襯底或?qū)⒁r底放置到該負(fù)載鎖定腔室的緩沖臺(tái)上，同時(shí)該第一和第二葉片彼此重疊。
10. 如權(quán)利要求8所述的襯底加工系統(tǒng)，其特征在于，該第一和第二 葉片沿相反方向旋轉(zhuǎn)。
11. 如權(quán)利要求8所述的襯底加工系統(tǒng)，其特征在于，該襯底傳送裝 置包括臂部，其與該第一和第二葉片相連，以移動(dòng)該第一和第二葉片；以及 驅(qū)動(dòng)單元，其被構(gòu)造成用于驅(qū)動(dòng)該第一和第二葉片以及該臂部。
12. 如權(quán)利要求ll所述的襯底加工系統(tǒng)，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)單元 包括第一和第二葉片驅(qū)動(dòng)單元，該第一和第二葉片驅(qū)動(dòng)單元被構(gòu)造成圍繞一連接軸沿相反方向旋轉(zhuǎn)該第一和第二葉片，該第一和第二葉片通過 該連接軸與該臂部相連。
13. 如權(quán)利要求ll所述的襯底加工系統(tǒng)，其特征在于，該臂部包括: 上臂，該第一葉片的一端和該第二葉片的一端與該上臂相連；以及 下臂，其位于該上臂的下方，以與該上臂相連。
14. 如權(quán)利要求13所述的襯底加工系統(tǒng)，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)單元 還包括至少一個(gè)臂驅(qū)動(dòng)單元，其被構(gòu)造成用于水平地旋轉(zhuǎn)該上臂和該下
15. —種襯底加工系統(tǒng)，包括 傳送腔室；一對分別具有基座的處理腔室，該對處理腔室并列設(shè)置在該傳送腔室 的一側(cè)；以及襯底傳送裝置，其安裝于該傳送腔室內(nèi)部，以用于同時(shí)將襯底傳送至 該對處理腔室的基座。
16. 如權(quán)利要求15所述的襯底加工系統(tǒng)，其特征在于，該襯底傳送 裝置包括第一和第二葉片，該第一和第二葉片被構(gòu)造成以不同高度支撐 襯底并傳送襯底，同時(shí)通過圍繞同一軸線的旋轉(zhuǎn)操作使它們疊合或展開。
17. 如權(quán)利要求16所述的襯底加工系統(tǒng)，其特征在于，該對處理腔室被構(gòu)造成用于執(zhí)行同樣的處理。
全文摘要
一種襯底傳送裝置，包括構(gòu)造成分別以不同高度支撐襯底的第一和第二葉片；與該第一和第二葉片相連以移動(dòng)該第一和第二葉片的臂部；構(gòu)造成用于驅(qū)動(dòng)該第一和第二葉片以及該臂部的驅(qū)動(dòng)單元，其中在圍繞該臂部的同一(單一)軸線旋轉(zhuǎn)時(shí)，該第一和第二葉片被疊合或展開。根據(jù)該襯底傳送裝置，相對于系統(tǒng)占地面積，襯底加工產(chǎn)量增加，且傳送和處理襯底所需的時(shí)間減少。
文檔編號(hào)H01L21/67GK101101888SQ20071008853
公開日2008年1月9日 申請日期2007年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月4日
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