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一種智能集成光學(xué)頻譜分析器的制造方法

文檔序號(hào):9014353閱讀:338來(lái)源:國(guó)知局
一種智能集成光學(xué)頻譜分析器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于光電子信息技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種智能集成光學(xué)頻譜分析器。
【背景技術(shù)】
[0002]目前,在現(xiàn)代戰(zhàn)爭(zhēng)的電子支援措施中,聲光頻譜分析器作為關(guān)鍵的接收技術(shù),日益受到重視,集成光學(xué)聲光頻譜分析器是用于現(xiàn)代電子戰(zhàn)中電子對(duì)抗時(shí),對(duì)雷達(dá)信號(hào)等進(jìn)行實(shí)時(shí)處理的設(shè)備,與相應(yīng)的電子計(jì)算機(jī)方法相比較,具有體積小,速度快,堅(jiān)固等優(yōu)點(diǎn)。由于一般聲光頻譜分析器動(dòng)態(tài)范圍小,不能滿足實(shí)戰(zhàn)要求,并且頻譜分析器在使用的過(guò)程中容易被雷達(dá)發(fā)現(xiàn),容易遭到摧毀。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題而提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、安裝使用方便、提高工作效率的智能集成光學(xué)頻譜分析器。
[0004]本實(shí)用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題所采取的技術(shù)方案是:
[0005]該智能集成光學(xué)頻譜分析器包括:底座、光束探測(cè)器、透鏡、激光發(fā)射器、光束發(fā)射器、軌道、檢測(cè)單元;
[0006]底座后端安裝有檢測(cè)單元,激光發(fā)射器和光束發(fā)射器并排安裝在底座前端,底座中部安裝有軌道,軌道上活動(dòng)安裝有透鏡,與透鏡相對(duì)應(yīng)的底座后端安裝有光束探測(cè)器,光束探測(cè)器與檢測(cè)單元相連接。
[0007]本實(shí)用新型還可以采用如下技術(shù)措施:
[0008]所述的檢測(cè)單元包括:AD轉(zhuǎn)換器、光電信號(hào)放大器、微處理器、顯示模塊、打印模塊;
[0009]微處理器用于數(shù)據(jù)的運(yùn)算和處理;
[0010]與微處理器相連接,用于將光束檢測(cè)器檢測(cè)到的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào),并傳輸?shù)焦怆娦盘?hào)放大器中的AD轉(zhuǎn)換器;
[0011]與微處理器相連接,用于將AD轉(zhuǎn)換器中的數(shù)字信號(hào)進(jìn)行濾波放大的光電信號(hào)放大器;
[0012]與微處理器相連接,用于將檢測(cè)的信號(hào)進(jìn)行實(shí)時(shí)顯示的顯示模塊;
[0013]與微處理器相連接,用于將顯示數(shù)據(jù)進(jìn)行打印的打印模塊。
[0014]所述的底座自上而下依次包括:反射層、吸收層、散射層、織物基層。
[0015]所述的反射層采用金屬銀鍍層;所述的吸收層內(nèi)設(shè)置有中空縫隙,吸收層的中空縫隙內(nèi)填充有乙醇溶液;所述的散射層采用介電纖維編織物;所述的織物基層采用一種與篷布外法向呈現(xiàn)同方向取向分布的介電纖維編織物;所述的織物基層采用雙面涂覆PVC糊樹(shù)脂的滌綸長(zhǎng)絲織物。
[0016]激光發(fā)射器和光束發(fā)射器發(fā)出的光速映射到透鏡上,根據(jù)光束探測(cè)器檢測(cè)到光束映射的情況,調(diào)整透鏡在軌道上的距離,以便取得較好的檢測(cè)信號(hào),光束信號(hào)經(jīng)AD轉(zhuǎn)換器變?yōu)閿?shù)字信號(hào)后進(jìn)入信號(hào)放大器,將信號(hào)進(jìn)行濾波放大,通過(guò)顯示模塊和打印模塊進(jìn)行輸出。
[0017]反射層采用金屬銀鍍層,反射層采用化學(xué)鍍或者真空鍍的方法將金屬銀覆于吸收層表面,即可阻隔底座上各裝置產(chǎn)生的熱輻射信號(hào),還可避免外部雷達(dá)波通過(guò)底座;吸收層內(nèi)設(shè)置有中空縫隙,吸收層的中空縫隙內(nèi)填充有乙醇溶液,乙醇溶液能夠有效的吸收雷達(dá)波,使雷達(dá)波透過(guò)吸收層的能力減弱;散射層采用介電纖維編織物,介電纖維與篷布外法向呈現(xiàn)同方向取向分布,當(dāng)雷達(dá)波傳至散射層時(shí),將產(chǎn)生向散射效應(yīng),將雷達(dá)波能量散開(kāi)并減弱;所述的織物基層采用雙面涂覆PVC糊樹(shù)脂的滌綸長(zhǎng)絲織物,織物基層具有較高的抗拉強(qiáng)度與撕裂強(qiáng)度,為其它隔層提供物理支撐。
[0018]本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:該智能集成光學(xué)頻譜分析器結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,通過(guò)光束探測(cè)器和檢測(cè)單元的配合使用即可精確的完成聲光頻譜的分析,將各裝置安裝在防偽底座上,極大程度的提高了光學(xué)頻譜分析器的安全性能,在惡劣的氣候和環(huán)境條件下均具有良好的偽裝性能。
【附圖說(shuō)明】
[0019]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種智能集成光學(xué)頻譜分析器的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0020]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的檢測(cè)單元的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0021]圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的底座的結(jié)構(gòu)不意圖;
[0022]圖中:1、底座;1_1、反射層;1_2、吸收層;1_3、散射層;1_4、織物基層;2、光束探測(cè)器;3、透鏡;4、激光發(fā)射器;5、光束發(fā)射器;6、軌道;7、檢測(cè)單元;7-l、AD轉(zhuǎn)換器;7_2、光電信號(hào)放大器;7-3、微處理器;7-4、顯不模塊;7-5、打印模塊。
【具體實(shí)施方式】
[0023]為能進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的
【發(fā)明內(nèi)容】
、特點(diǎn)及功效,茲例舉以下實(shí)施例,并配合附圖詳細(xì)說(shuō)明如下:本實(shí)用新型所用到的模塊或單元都屬于已知模塊或單元,在購(gòu)買模塊或單元時(shí),已經(jīng)安裝有軟件。本實(shí)用新型不存在軟件或方法的創(chuàng)新。
[0024]請(qǐng)參閱圖1至圖3所示:該智能集成光學(xué)頻譜分析器包括:底座1、光束探測(cè)器2、透鏡3、激光發(fā)射器4、光束發(fā)射器5、軌道6、檢測(cè)單元7 ;
[0025]底座I后端安裝有檢測(cè)單元7,激光發(fā)射器4和光束發(fā)射器5并排安裝在底座I前端,底座I中部安裝有軌道6,軌道6上活動(dòng)安裝有透鏡3,與透鏡3相對(duì)應(yīng)的底座I后端安裝有光束探測(cè)器2,光束探測(cè)器2與檢測(cè)單元7相連接。
[0026]所述的檢測(cè)單元7包括:AD轉(zhuǎn)換器7-1、光電信號(hào)放大器7_2、微處理器7_3、顯示模塊7-4、打印模塊7-5 ;
[0027]微處理器7-3用于數(shù)據(jù)的運(yùn)算和處理;
[0028]與微處理器7-3相連接,用于將光束檢測(cè)器檢測(cè)到的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào),并傳輸?shù)焦怆娦盘?hào)放大器7-2中的AD轉(zhuǎn)換器7-1 ;
[0029]與微處理器7-3相連接,用于將AD轉(zhuǎn)換器7_1中的數(shù)字信號(hào)進(jìn)行濾波放大的光電信號(hào)放大器7-2 ;
[0030]與微處理器7-3相連接,用于將檢測(cè)的信號(hào)進(jìn)行實(shí)時(shí)顯示的顯示模塊7-4 ;
[0031]與微處理器7-3相連接,用于將顯示數(shù)據(jù)進(jìn)行打印的打印模塊7-5。
[0032]所述的底座I自上而下依次包括:反射層1-1、吸收層1-2、散射層1-3、織物基層1-4。
[0033]所述的反射層1-1采用金屬銀鍍層;所述的吸收層1-2內(nèi)設(shè)置有中空縫隙,吸收層1-2的中空縫隙內(nèi)填充有乙醇溶液;所述的散射層1-3采用介電纖維編織物;所述的織物基層1-4采用一種與篷布外法向呈現(xiàn)同方向取向分布的介電纖維編織物,所述的織物基層1-4采用雙面涂覆PVC糊樹(shù)脂的滌綸長(zhǎng)絲織物。
[0034]激光發(fā)射器4和光束發(fā)射器5發(fā)出的光速映射到透鏡3上,根據(jù)光束探測(cè)器2檢測(cè)到光束映射的情況,調(diào)整透鏡3在軌道6上的距離,以便取得較好的檢測(cè)信號(hào),光束信號(hào)經(jīng)AD轉(zhuǎn)換器7-1變?yōu)閿?shù)字信號(hào)后進(jìn)入信號(hào)放大器,將信號(hào)進(jìn)行濾波放大,通過(guò)顯示模塊7-4和打印模塊7-5進(jìn)行輸出。
[0035]反射層1-1采用金屬銀鍍層,反射層1-1采用化學(xué)鍍或者真空鍍的方法將金屬銀覆于吸收層1-2表面,即可阻隔底座I上各裝置產(chǎn)生的熱輻射信號(hào),還可避免外部雷達(dá)波通過(guò)底座I ;吸收層1-2內(nèi)設(shè)置有中空縫隙,吸收層1-2的中空縫隙內(nèi)填充有乙醇溶液,乙醇溶液能夠有效的吸收雷達(dá)波,使雷達(dá)波透過(guò)吸收層1-2的能力減弱;散射層1-3采用介電纖維編織物,介電纖維與篷布外法向呈現(xiàn)同方向取向分布,當(dāng)雷達(dá)波傳至散射層1-3時(shí),將產(chǎn)生向散射效應(yīng),將雷達(dá)波能量散開(kāi)并減弱;所述的織物基層1-4采用雙面涂覆PVC糊樹(shù)脂的滌綸長(zhǎng)絲織物,織物基層1-4具有較高的抗拉強(qiáng)度與撕裂強(qiáng)度,為其它隔層提供物理支撐。
[0036]本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:該智能集成光學(xué)頻譜分析器結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,通過(guò)光束探測(cè)器和檢測(cè)單元的配合使用即可精確的完成聲光頻譜的分析,將各裝置安裝在防偽底座上,極大程度的提高了光學(xué)頻譜分析器的安全性能,在惡劣的氣候和環(huán)境條件下均具有良好的偽裝性能。
[0037]以上所述僅是對(duì)本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制,凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改,等同變化與修飾,均屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種智能集成光學(xué)頻譜分析器,其特征在于,該智能集成光學(xué)頻譜分析器包括:底座、光束探測(cè)器、透鏡、激光發(fā)射器、光束發(fā)射器、軌道、檢測(cè)單元; 底座后端安裝有檢測(cè)單元,激光發(fā)射器和光束發(fā)射器并排安裝在底座前端,底座中部安裝有軌道,軌道上活動(dòng)安裝有透鏡,與透鏡相對(duì)應(yīng)的底座后端安裝有光束探測(cè)器,光束探測(cè)器與檢測(cè)單元相連接。2.如權(quán)利要求1所述的智能集成光學(xué)頻譜分析器,其特征在于,所述的檢測(cè)單元包括:AD轉(zhuǎn)換器、光電信號(hào)放大器、微處理器、顯不模塊、打印模塊; 微處理器用于數(shù)據(jù)的運(yùn)算和處理; 與微處理器相連接,用于將光束檢測(cè)器檢測(cè)到的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號(hào),并傳輸?shù)焦怆娦盘?hào)放大器中的AD轉(zhuǎn)換器; 與微處理器相連接,用于將AD轉(zhuǎn)換器中的數(shù)字信號(hào)進(jìn)行濾波放大的光電信號(hào)放大器; 與微處理器相連接,用于將檢測(cè)的信號(hào)進(jìn)行實(shí)時(shí)顯示的顯示模塊; 與微處理器相連接,用于將顯示數(shù)據(jù)進(jìn)行打印的打印模塊。3.如權(quán)利要求1所述的智能集成光學(xué)頻譜分析器,其特征在于,所述的底座自上而下依次包括:反射層、吸收層、散射層、織物基層。4.如權(quán)利要求3所述的智能集成光學(xué)頻譜分析器,其特征在于,所述的反射層采用金屬銀鍍層;所述的吸收層內(nèi)設(shè)置有中空縫隙,吸收層的中空縫隙內(nèi)填充有乙醇溶液;所述的散射層采用介電纖維編織物;所述的織物基層采用一種與篷布外法向呈現(xiàn)同方向取向分布的介電纖維編織物。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種智能集成光學(xué)頻譜分析器,底座后端安裝有檢測(cè)單元,激光發(fā)射器和光束發(fā)射器并排安裝在底座前端,底座中部安裝有軌道,軌道上活動(dòng)安裝有透鏡,與透鏡相對(duì)應(yīng)的底座后端安裝有光束探測(cè)器,光束探測(cè)器與檢測(cè)單元相連接。該智能集成光學(xué)頻譜分析器結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,通過(guò)光束探測(cè)器和檢測(cè)單元的配合使用即可精確的完成聲光頻譜的分析,將各裝置安裝在防偽底座上,極大程度的提高了光學(xué)頻譜分析器的安全性能,在惡劣的氣候和環(huán)境條件下均具有良好的偽裝性能。
【IPC分類】G01S7/02
【公開(kāi)號(hào)】CN204666809
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520297440
【發(fā)明人】王芳, 趙建軍, 李強(qiáng)
【申請(qǐng)人】王芳
【公開(kāi)日】2015年9月23日
【申請(qǐng)日】2015年5月11日
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