據(jù)實(shí)施例和另一實(shí)施例的上述主軸電機(jī)中的任何一個(gè)，記錄盤D可安裝在主軸電機(jī)520上。
[0160]頭部移送部540將檢測(cè)安裝在主軸電機(jī)520上的記錄盤D的信息的頭部542移送到記錄盤D的將被讀取信息的表面。頭部542設(shè)置在頭部移送部540的支撐部544上。
[0161]上殼560與基座構(gòu)件522裝配，以形成用于將主軸電機(jī)520和頭部轉(zhuǎn)移部540容納在其中的空間。
[0162]如上所述，根據(jù)各種實(shí)施例，防止了潤(rùn)滑流體的分散。
[0163]雖然本公開包括特定示例，但是對(duì)本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將明顯的是，在不脫離權(quán)利要求以及其等同物的精神和范圍的情況下可對(duì)這些示例在形式和細(xì)節(jié)方面做出各種改變。描述于此的示例僅被視為描述性質(zhì)的，而不是出于限制性目的。在每個(gè)示例中的特征或方面的描述被視為適用于其它示例中的類似的特征或方面。如果按照不同的順序執(zhí)行描述的技術(shù)、和/或如果按照不同的方式來組合描述的系統(tǒng)、結(jié)構(gòu)、裝置或電路中的組件、和/或由其它組件或其等同物替換或增補(bǔ)，也會(huì)實(shí)現(xiàn)合理的結(jié)果。因此，本公開的范圍不由【具體實(shí)施方式】限定而是由權(quán)利要求及其等同物限定，并且權(quán)利要求及其等同物的范圍內(nèi)的各種改變也將被理解為包括在本公開中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種液體動(dòng)壓軸承裝置，所述液體動(dòng)壓軸承裝置包括: 定子; 轉(zhuǎn)子，與所述定子一起形成軸承間隙以及與所述軸承間隙連接的密封部，其中，氣-液界面設(shè)置在所述密封部中，所述軸承間隙填充有潤(rùn)滑流體， 其中，所述定子和所述轉(zhuǎn)子形成與所述密封部連接的儲(chǔ)藏空間，用于接收所述潤(rùn)滑流體， 其中，所述儲(chǔ)藏空間具有在所述潤(rùn)滑流體泄漏時(shí)通過毛細(xì)現(xiàn)象使施加到所述氣-液界面的力增大以填充所述軸承間隙的區(qū)域。2.如權(quán)利要求1所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述儲(chǔ)藏空間具有等于或大于填充所述軸承間隙的所述潤(rùn)滑流體的體積的容積。3.如權(quán)利要求1所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，所述儲(chǔ)藏空間包括: 第一儲(chǔ)藏空間，沿軸向方向形成； 第二儲(chǔ)藏空間，與所述第一儲(chǔ)藏空間連接并具有沿軸向方向向上增大的間隙； 第三儲(chǔ)藏空間，與所述第二儲(chǔ)藏空間連接并具有比所述第二儲(chǔ)藏空間的間隙寬的間隙。4.如權(quán)利要求1所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述軸承間隙包括流動(dòng)抑制間隙，所述流動(dòng)抑制間隙具有比所述軸承間隙的其它部分的間隙窄的間隙，以抑制所述潤(rùn)滑流體的流動(dòng)。5.如權(quán)利要求4所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述流動(dòng)抑制間隙形成在所述軸承間隙中并與所述密封部連接。6.一種液體動(dòng)壓軸承裝置，所述液體動(dòng)壓軸承裝置包括: 定子; 轉(zhuǎn)子，與所述定子一起形成軸承間隙和與所述軸承間隙連接的密封部，其中， 氣-液界面設(shè)置在所述密封部中，所述軸承間隙填充有潤(rùn)滑流體， 所述定子和所述轉(zhuǎn)子形成與所述密封部連接的儲(chǔ)藏空間，以接收從所述軸承間隙泄漏的所述潤(rùn)滑流體， 所述軸承間隙包括形成在所述軸承間隙中的密封增強(qiáng)部，所述密封增強(qiáng)部與所述密封部形成迷宮式密封并包括可變尺寸的間隙。7.如權(quán)利要求6所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述儲(chǔ)藏空間具有在所述潤(rùn)滑流體泄漏時(shí)使通過毛細(xì)現(xiàn)象施加到所述氣-液界面的力增大的區(qū)域。8.如權(quán)利要求6所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述密封增強(qiáng)部包括: 流動(dòng)抑制間隙，與所述密封部連接并具有比所述密封部的間隙窄的間隙； 間隙擴(kuò)張部，與所述流動(dòng)抑制間隙連接并具有比所述流動(dòng)抑制間隙的間隙寬的間隙。9.如權(quán)利要求8所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述間隙擴(kuò)張部形成為從所述間隙擴(kuò)張部的與所述流動(dòng)抑制間隙連接的部分傾斜。10.如權(quán)利要求9所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述流動(dòng)抑制間隙具有比所述軸承間隙的其它部分的間隙窄的間隙。11.一種主軸電機(jī)，所述主軸電機(jī)包括: 基座構(gòu)件； 下推力構(gòu)件，連接到所述基座構(gòu)件； 軸，連接到所述下推力構(gòu)件并包括從所述軸的上端部處的法蘭部延伸的上推力構(gòu)件； 旋轉(zhuǎn)構(gòu)件，被構(gòu)造為與所述下推力構(gòu)件以及所述軸一起形成軸承間隙，其中， 所述軸承間隙填充有潤(rùn)滑流體， 所述上推力構(gòu)件和所述法蘭部與所述旋轉(zhuǎn)構(gòu)件一起形成用于接收填充所述軸承間隙的所述潤(rùn)滑流體的儲(chǔ)藏空間， 所述上推力構(gòu)件的下表面和所述旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的與所述上推力構(gòu)件的下表面面對(duì)的表面形成流動(dòng)抑制間隙。12.如權(quán)利要求11所述的主軸電機(jī)，其中，所述儲(chǔ)藏空間具有使通過毛細(xì)現(xiàn)象施加到由于所述潤(rùn)滑流體的泄漏而運(yùn)動(dòng)的氣-液界面的力增大的區(qū)域。13.如權(quán)利要求11所述的主軸電機(jī)，其中，所述流動(dòng)抑制間隙設(shè)置在所述軸承間隙中并具有比所述軸承間隙的其它部分的間隙窄的間隙。14.如權(quán)利要求13所述的主軸電機(jī)，其中，所述流動(dòng)抑制間隙與形成在所述軸承間隙的末端的所述密封部連接，所述儲(chǔ)藏空間從所述密封部延伸。15.如權(quán)利要求14所述的主軸電機(jī)，其中，所述軸承間隙包括密封增強(qiáng)部，所述密封增強(qiáng)部包括所述流動(dòng)抑制間隙以及與所述流動(dòng)抑制間隙連接的間隙擴(kuò)張部，所述間隙擴(kuò)張部的間隙具有比所述流動(dòng)抑制間隙的間隙寬，其中， 所述密封增強(qiáng)部與所述密封部連接形成迷宮式密封并包括尺寸變化的間隙。16.如權(quán)利要求11所述的主軸電機(jī)，其中，所述流動(dòng)抑制間隙具有25μπι或更小的間隙，以防止由于2KPa的壓力差而導(dǎo)致所述潤(rùn)滑流體分散。17.如權(quán)利要求11所述的主軸電機(jī)，其中，所述儲(chǔ)藏空間包括: 第一儲(chǔ)藏空間，沿軸向方向形成； 第二儲(chǔ)藏空間，與所述第一儲(chǔ)藏空間連接并具有沿軸向方向向上增大的間隙； 第三儲(chǔ)藏空間，與所述第二儲(chǔ)藏空間連接并具有比所述第二儲(chǔ)藏空間的間隙寬的間隙。18.—種記錄盤驅(qū)動(dòng)裝置，所述記錄盤驅(qū)動(dòng)裝置包括: 權(quán)利要求11的主軸電機(jī)，被構(gòu)造為使記錄盤旋轉(zhuǎn)； 頭部移送部，將用于檢測(cè)安裝在所述主軸電機(jī)上的記錄盤的信息的頭部移送到記錄盤; 上殼，與所述基座構(gòu)件裝配，以形成用于容納所述主軸電機(jī)和所述頭部移送部的空間。19.一種液體動(dòng)壓軸承裝置，所述液體動(dòng)壓軸承裝置包括: 定子，包括下推力構(gòu)件和軸； 轉(zhuǎn)子，形成軸承間隙和與所述軸承間隙連接的第一密封部，其中， 氣-液界面與所述定子一起設(shè)置在所述第一密封部中，所述軸承間隙填充有潤(rùn)滑流體， 所述定子和所述轉(zhuǎn)子形成與所述第一密封部連接的儲(chǔ)藏空間，用于接收所述潤(rùn)滑流體， 所述軸的上推力構(gòu)件的下表面和所述轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的與所述上推力構(gòu)件的下表面面對(duì)的面對(duì)表面形成流動(dòng)抑制間隙， 所述第一密封部形成在所述上推力構(gòu)件與所述旋轉(zhuǎn)構(gòu)件之間， 所述下推力構(gòu)件與所述旋轉(zhuǎn)構(gòu)件之間形成有第二密封部， 當(dāng)壓力Pl被施加到設(shè)置在所述第二密封部中的第一氣-液界面以及壓力P2被施加到設(shè)置在所述第一密封部中的第二氣-液界面時(shí)，Pl與P2之間的壓力差限定為P1-P2。20.如權(quán)利要求19所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述儲(chǔ)藏空間包括比填充所述軸承間隙的所述潤(rùn)滑流體的體積大的容積。21.如權(quán)利要求19所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，當(dāng)Pl大于P2時(shí)，在所述第二氣-液界面中壓力被施加到所述軸承間隙的外部，使得所述第二氣-液界面朝向所述第一密封部的外部向上運(yùn)動(dòng)。22.如權(quán)利要求19所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述流動(dòng)抑制間隙與所述第一密封部連接并設(shè)置在所述軸承間隙中。23.如權(quán)利要求19所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述流動(dòng)抑制間隙包括比所述軸承間隙的其它部分的間隙窄的間隙。24.如權(quán)利要求19所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，隨著所述潤(rùn)滑流體泄漏到所述儲(chǔ)藏空間，通過毛細(xì)現(xiàn)象而施加到所述氣-液界面的力逐漸地增大。25.如權(quán)利要求24所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，所述潤(rùn)滑流體從所述軸承間隙泄漏，直到沿與所述潤(rùn)滑流體通過所述流動(dòng)抑制間隙的流動(dòng)方向相反的方向作用的力和通過毛細(xì)現(xiàn)象沿與所述潤(rùn)滑流體的流動(dòng)方向相反的方向?qū)\(yùn)動(dòng)到所述儲(chǔ)藏空間的氣-液界面作用的力的壓力差變得與施加到所述潤(rùn)滑流體的力相等為止。26.如權(quán)利要求19所述的液體動(dòng)壓軸承裝置，其中，隨著所述潤(rùn)滑流體穿過密封增強(qiáng)部并被引入到所述儲(chǔ)藏空間，所述潤(rùn)滑流體的泄漏速度減小。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種液體動(dòng)壓軸承裝置、主軸電機(jī)以及記錄盤驅(qū)動(dòng)裝置。所述液體動(dòng)壓軸承裝置包括定子和轉(zhuǎn)子。所述轉(zhuǎn)子與所述定子一起形成軸承間隙和與所述軸承間隙連接的密封部。氣-液界面設(shè)置在所述密封部中，所述軸承間隙填充有潤(rùn)滑流體。所述定子和所述轉(zhuǎn)子形成與所述密封部連接的儲(chǔ)藏空間，用于接收所述潤(rùn)滑流體。所述儲(chǔ)藏空間具有在所述潤(rùn)滑流體泄漏時(shí)使通過毛細(xì)現(xiàn)象施加到氣-液界面的力增大而填充所述軸承間隙的區(qū)域。
【IPC分類】G11B19/20, F16C17/00
【公開號(hào)】CN105090234
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510232708
【發(fā)明人】張浩慶, 鄭景文, 金勇植, 金在赫
【申請(qǐng)人】三星電機(jī)株式會(huì)社
【公開日】2015年11月25日
【申請(qǐng)日】2015年5月8日
【公告號(hào)】US20150323002