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一種核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備及工藝的制作方法

文檔序號:39727680發(fā)布日期:2024-10-22 13:29閱讀:7來源:國知局
一種核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備及工藝的制作方法

本發(fā)明涉及電鍍,特別涉及一種核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備及工藝。


背景技術(shù):

1、導(dǎo)向柱作為導(dǎo)向工具,是堆芯的重要部件,為提高其耐磨性能,一般需對其進(jìn)行鍍鉻處理,目前,堆芯一般配置有兩種型號的導(dǎo)向柱,分別是長度為5.5m的短導(dǎo)向柱以及長度為9.4m的長導(dǎo)向柱,針對這類空心柱體結(jié)構(gòu)件進(jìn)行鍍鉻時,一般會采取兩端外圓定位,使陽極貫穿柱體并位于柱體中心的方式將其吊裝至鍍鉻槽中,但因?qū)蛑w長度較長,若使用常規(guī)的垂直插入式鍍鉻槽,導(dǎo)向柱出入鍍鉻槽需要在槽口以上預(yù)留十米以上的操作空間,且鍍鉻槽的深度也要長度導(dǎo)向柱的長度,建造施工難度大,成本高,故大多采用橫向鍍鉻槽對導(dǎo)向柱進(jìn)行鍍鉻,即采用兩端定位的方式將陽極鉻棒貫穿導(dǎo)向柱,并對導(dǎo)向柱兩端進(jìn)行吊裝,但因?qū)蛑L度較長,且內(nèi)徑較小,因此,需適配小桿徑陽極鉻棒,這就使得桿徑較細(xì)的陽極鉻棒在橫置時受重力作用,中部易產(chǎn)生彎曲,進(jìn)而導(dǎo)致無法在導(dǎo)向柱內(nèi)壁居中,從而使得導(dǎo)向柱內(nèi)壁鍍鉻層薄厚不一,影響導(dǎo)向柱鍍鉻層質(zhì)量,降低其用于核電反應(yīng)堆時的工作穩(wěn)定性,增加核電反應(yīng)堆工作時的安全隱患,因此,本申請?zhí)峁┝艘环N核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備及工藝來滿足需求。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備及工藝以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:

3、一種核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,包括鍍鉻橫槽和安裝在導(dǎo)向柱兩端的兩個連接部件,所述鍍鉻橫槽包括槽體,所述槽體內(nèi)安裝有兩個支撐架,兩個所述支撐架的一側(cè)均設(shè)置有通過電機(jī)驅(qū)動的驅(qū)動齒輪;所述連接部件上設(shè)置有調(diào)節(jié)部件,兩個所述連接部件的中部安裝有與導(dǎo)向柱同軸的鉻棒,兩個所述連接部件上安裝有用于支撐鉻棒的多個支撐板,所述支撐板貫穿兩個連接部件和導(dǎo)向柱,多個所述支撐板呈周圈均勻分布,兩個所述連接部件通過調(diào)節(jié)部件向?qū)蛑膬啥死伟濉?/p>

4、優(yōu)選地,所述連接部件包括與導(dǎo)向柱端部外徑相適配的端板,所述端板靠近導(dǎo)向柱的一側(cè)安裝有外徑與導(dǎo)向柱內(nèi)徑相適配的限位環(huán),所述端板上呈周圈均勻開設(shè)有若干第一通孔和限位通槽,所述第一通孔和限位通槽相錯,所述端板遠(yuǎn)離導(dǎo)向柱的一端安裝有限位套筒,所述鉻棒貫穿限位套筒并與限位套筒套接,所述限位套筒和第一通孔以及限位通槽均位于限位環(huán)內(nèi),所述端板的外側(cè)呈周圈均勻開設(shè)有多個第一調(diào)節(jié)槽,所述第一調(diào)節(jié)槽平行于端板端面的一側(cè)兩邊均為斜邊,所述第一調(diào)節(jié)槽遠(yuǎn)離導(dǎo)向柱軸心的一側(cè)外擴(kuò),所述連接部件還包括套接在導(dǎo)向柱端部的端蓋,所述端蓋的內(nèi)徑與端板的外徑相適配,所述端蓋的端部開設(shè)有第二通孔,所述限位套筒和第一通孔以及限位通槽均位于第二通孔內(nèi),所述端蓋的外側(cè)螺紋連接有多個貫穿端蓋的調(diào)節(jié)銷,所述調(diào)節(jié)銷插入第一調(diào)節(jié)槽內(nèi),所述第二通孔內(nèi)呈周圈均勻安裝有多個引導(dǎo)塊,所述引導(dǎo)塊上開設(shè)有引導(dǎo)斜面,所述限位套筒的外側(cè)呈周圈均勻開設(shè)有若干齒槽,所述驅(qū)動齒輪可與限位套筒上的齒槽嚙合。

5、優(yōu)選地,所述支撐板遠(yuǎn)離導(dǎo)向柱軸心的一側(cè)開設(shè)有兩個相對稱的第二調(diào)節(jié)槽,所述第二調(diào)節(jié)槽均位于端板遠(yuǎn)離導(dǎo)向柱的一側(cè),所述第二調(diào)節(jié)槽遠(yuǎn)離導(dǎo)向柱的一側(cè)開設(shè)有引導(dǎo)邊;所述調(diào)節(jié)銷通過與第一調(diào)節(jié)槽的斜邊抵觸使端板和端蓋相對轉(zhuǎn)動,從而使引導(dǎo)斜面與引導(dǎo)邊抵觸,并通過該抵觸力的分力向?qū)蛑膬啥死伟宀⑾蚩拷鼘?dǎo)向柱軸心的一側(cè)擠壓支撐板,所述支撐板與限位通槽插接并貫穿限位通槽,所述限位通槽的長度大于支撐板的寬度,所述支撐板靠近導(dǎo)向柱軸心一側(cè)的兩端均開設(shè)有退讓槽,所述支撐板的硬度低于鉻的硬度。

6、優(yōu)選地,所述支撐板靠近導(dǎo)向柱軸心的一側(cè)與鉻棒抵觸時,所述退讓槽平行于導(dǎo)向柱軸線的一側(cè)與限位套筒抵觸。

7、優(yōu)選地,所述引導(dǎo)塊靠近端板的一側(cè)與端板的端面貼觸。

8、優(yōu)選地,所述調(diào)節(jié)銷靠近導(dǎo)向柱軸心的一端設(shè)置有球面。

9、優(yōu)選地,所述調(diào)節(jié)銷位于端蓋外的一端開設(shè)有操作孔。

10、優(yōu)選地,所述限位套筒上開設(shè)有掛槽。

11、優(yōu)選地,所述端蓋內(nèi)側(cè)邊沿的棱角處開設(shè)有倒角,所述限位環(huán)內(nèi)壁的棱角位置處開設(shè)有圓角。

12、優(yōu)選地,鍍鉻過程中,所述引導(dǎo)塊位于相鄰第一通孔之間。

13、一種核電導(dǎo)向柱鍍鉻工藝,應(yīng)用上述核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,包括以下步驟:

14、s1:對導(dǎo)向柱電解除油后水洗;

15、s2:對經(jīng)s1步驟處理的導(dǎo)向柱進(jìn)行鹽酸活化除銹后水洗;

16、s3:將連接部件和調(diào)節(jié)部件和鉻棒以及支撐板安裝在經(jīng)s2步驟處理的導(dǎo)向柱上,并采用吊裝裝置將導(dǎo)向柱放入鍍鉻橫槽內(nèi),通過鍍鉻橫槽內(nèi)的與限位套筒上齒槽嚙合的驅(qū)動齒輪驅(qū)動限位套筒轉(zhuǎn)動,限位套筒通過端板和端蓋帶動導(dǎo)向柱轉(zhuǎn)動鍍鉻,拆除完成鍍鉻后的導(dǎo)向柱上的連接部件和調(diào)節(jié)部件和鉻棒以及支撐板后水洗導(dǎo)向柱。

17、本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比,至少具有如下有益效果:

18、上述方案中,通過設(shè)置連接部件和調(diào)節(jié)部件以及支撐板搭建鉻棒的安裝引導(dǎo)通道,對鉻棒進(jìn)行安裝引導(dǎo)以及鍍鉻過程中的支撐,避免鉻棒在橫向穿過導(dǎo)向柱的過程中與導(dǎo)向柱的內(nèi)壁接觸,避免導(dǎo)向柱的內(nèi)壁產(chǎn)生劃傷,影響鍍鉻效果,保障鉻棒在導(dǎo)向柱內(nèi)孔鍍鉻過程中始終與導(dǎo)向柱保持同軸,保障導(dǎo)向柱內(nèi)壁鍍鉻層薄厚均勻,提高導(dǎo)向柱鍍鉻層質(zhì)量,增加其用于核電反應(yīng)堆時的工作穩(wěn)定性,降低核電反應(yīng)堆工作時的安全隱患。

19、通過設(shè)置連接部件和調(diào)節(jié)部件以及支撐板,當(dāng)鉻棒的兩端穿過兩個限位套筒后,再次轉(zhuǎn)動調(diào)節(jié)銷,使得端蓋通過引導(dǎo)塊帶動引導(dǎo)斜面與斜邊抵觸,直至無法轉(zhuǎn)動調(diào)節(jié)銷后,支撐板被拉直且其靠近導(dǎo)向柱軸心的一側(cè)與鉻棒抵觸,在多個支撐板的抵觸支撐下,鉻棒的中部得到有效支撐,避免鉻棒在導(dǎo)向柱鍍鉻過程中彎曲,需要注意的是,當(dāng)支撐板開設(shè)有退讓槽的部分暴露在導(dǎo)向柱外時,支撐板遠(yuǎn)離導(dǎo)向柱軸心的一側(cè)不與導(dǎo)向柱內(nèi)壁接觸,避免遮擋導(dǎo)向柱的內(nèi)壁,保障導(dǎo)向柱內(nèi)壁的鍍鉻效果和鍍鉻質(zhì)量。

20、通過設(shè)置連接部件和調(diào)節(jié)部件以及支撐板,完成鍍鉻后,需要將鉻棒抽出時,可反向轉(zhuǎn)動調(diào)節(jié)銷,使引導(dǎo)斜面與斜邊脫離抵觸,但依舊保持對限位通槽的遮擋,避免抽出鉻棒時,鉻棒與限位套筒的摩擦力將一端端板和端蓋帶出,同時,這樣拆卸還可避免鉻棒抽出時與導(dǎo)向柱內(nèi)壁接觸,避免鉻棒將完成鍍鉻后的導(dǎo)向柱內(nèi)壁劃傷,保障導(dǎo)向柱內(nèi)壁的鍍鉻質(zhì)量。

21、通過設(shè)置連接部件和調(diào)節(jié)部件以及支撐板,拆卸抽出鉻棒后,可再次反轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)銷解除對限位通槽的遮擋,隨后依次將多個支撐板抽出,因支撐板的硬度小于鉻的硬度,且有端板做支撐,可有效降低支撐板接觸導(dǎo)向柱內(nèi)壁并劃傷鍍鉻層的幾率,進(jìn)一步保障導(dǎo)向柱內(nèi)壁鍍鉻層的完整。



技術(shù)特征:

1.一種核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,其特征在于,包括:鍍鉻橫槽和安裝在導(dǎo)向柱兩端的兩個連接部件(1),所述鍍鉻橫槽包括槽體,所述槽體內(nèi)安裝有兩個支撐架,兩個所述支撐架的一側(cè)均設(shè)置有通過電機(jī)驅(qū)動的驅(qū)動齒輪,所述連接部件(1)上設(shè)置有調(diào)節(jié)部件(2),兩個所述連接部件(1)的中部安裝有與導(dǎo)向柱同軸的鉻棒(3),兩個所述連接部件(1)上安裝有用于支撐鉻棒(3)的多個支撐板(4),所述支撐板(4)貫穿兩個連接部件(1)和導(dǎo)向柱,多個所述支撐板(4)呈周圈均勻分布,兩個所述連接部件(1)通過調(diào)節(jié)部件(2)向?qū)蛑膬啥死伟澹?)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,其特征在于,所述連接部件(1)包括與導(dǎo)向柱端部外徑相適配的端板(5),所述端板(5)靠近導(dǎo)向柱的一側(cè)安裝有外徑與導(dǎo)向柱內(nèi)徑相適配的限位環(huán)(6),所述端板(5)上呈周圈均勻開設(shè)有若干第一通孔(8)和限位通槽(9),所述第一通孔(8)和限位通槽(9)相錯,所述端板(5)遠(yuǎn)離導(dǎo)向柱的一端安裝有限位套筒(7),所述鉻棒(3)貫穿限位套筒(7)并與限位套筒(7)套接,所述限位套筒(7)和第一通孔(8)以及限位通槽(9)均位于限位環(huán)(6)內(nèi),所述端板(5)的外側(cè)呈周圈均勻開設(shè)有多個第一調(diào)節(jié)槽(10),所述第一調(diào)節(jié)槽(10)平行于端板(5)端面的一側(cè)兩邊均為斜邊,所述第一調(diào)節(jié)槽(10)遠(yuǎn)離導(dǎo)向柱軸心的一側(cè)外擴(kuò),所述連接部件(1)還包括套接在導(dǎo)向柱端部的端蓋(11),所述端蓋(11)的內(nèi)徑與端板(5)的外徑相適配,所述端蓋(11)的端部開設(shè)有第二通孔(12),所述限位套筒(7)和第一通孔(8)以及限位通槽(9)均位于第二通孔(12)內(nèi),所述端蓋(11)的外側(cè)螺紋連接有多個貫穿端蓋(11)的調(diào)節(jié)銷(13),所述調(diào)節(jié)銷(13)插入第一調(diào)節(jié)槽(10)內(nèi),所述第二通孔(12)內(nèi)呈周圈均勻安裝有多個引導(dǎo)塊(14),所述引導(dǎo)塊(14)上開設(shè)有引導(dǎo)斜面(15),所述限位套筒(7)的外側(cè)呈周圈均勻開設(shè)有若干齒槽,所述驅(qū)動齒輪可與限位套筒(7)上的齒槽嚙合;

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,其特征在于,所述支撐板(4)靠近導(dǎo)向柱軸心的一側(cè)與鉻棒(3)抵觸時,所述退讓槽(16)平行于導(dǎo)向柱軸線的一側(cè)與限位套筒(7)抵觸。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,其特征在于,所述引導(dǎo)塊(14)靠近端板(5)的一側(cè)與端板(5)的端面貼觸。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,其特征在于,所述調(diào)節(jié)銷(13)靠近導(dǎo)向柱軸心的一端設(shè)置有球面(21)。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,其特征在于,所述調(diào)節(jié)銷(13)位于端蓋(11)外的一端開設(shè)有操作孔(22)。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,其特征在于,所述限位套筒(7)上開設(shè)有掛槽(23)。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,其特征在于,所述限位環(huán)(6)內(nèi)壁的棱角位置處開設(shè)有圓角(19),所述端蓋(11)內(nèi)側(cè)邊沿的棱角處開設(shè)有倒角(20)。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,其特征在于,鍍鉻過程中,所述引導(dǎo)塊(14)位于相鄰第一通孔(8)之間。

10.一種核電導(dǎo)向柱的鍍鉻工藝,應(yīng)用權(quán)利要求1-9任意一項所述的核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備,其特征在于,包括以下步驟:


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種核電導(dǎo)向柱鍍鉻設(shè)備及工藝,屬于電鍍技術(shù)領(lǐng)域;包括鍍鉻橫槽和安裝在導(dǎo)向柱兩端的兩個連接部件,所述連接部件上設(shè)置有調(diào)節(jié)部件,兩個所述連接部件的中部安裝有與導(dǎo)向柱同軸的鉻棒,兩個所述連接部件上安裝有用于支撐鉻棒的多個支撐板。本發(fā)明通過設(shè)置連接部件和調(diào)節(jié)部件以及支撐板搭建鉻棒的安裝引導(dǎo)通道,對鉻棒進(jìn)行安裝引導(dǎo)以及鍍鉻過程中的支撐,避免鉻棒在橫向穿過導(dǎo)向柱的過程中與導(dǎo)向柱的內(nèi)壁接觸,避免導(dǎo)向柱的內(nèi)壁產(chǎn)生劃傷,影響鍍鉻效果,保障鉻棒在導(dǎo)向柱內(nèi)孔鍍鉻過程中始終與導(dǎo)向柱保持同軸,保障導(dǎo)向柱內(nèi)壁鍍鉻層薄厚均勻,增加其用于核電反應(yīng)堆時的工作穩(wěn)定性,降低核電反應(yīng)堆工作時的安全隱患。

技術(shù)研發(fā)人員:劉文舉,張晉,朱小雷
受保護(hù)的技術(shù)使用者:鷹普航空科技(南通)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/10/21
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