旋流式沉降器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及沉降器領(lǐng)域，具體涉及一種襯底加工行業(yè)磨液、切削液用沉降器領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展，各種襯底片材料需求量激增，尤其是集成電路用單晶硅片的得到了快速發(fā)展，在單晶硅片加工處理各個(gè)環(huán)節(jié)擁有諸多漿料，諸如:多線切割漿料、研磨漿料、拋光漿料等。為了降低硅片加工成本，其漿料一般經(jīng)過(guò)沉降過(guò)濾處理，分離出漿料中的殘?jiān)?，得到相?duì)清澈的漿料便于二次利用。由于使用后的漿料中存在諸多不同粒徑、不同質(zhì)量的殘?jiān)w粒，同時(shí)漿料含有懸浮劑具有一定的粘度。隨著硅片尺寸的不斷增大，硅片品質(zhì)提出了更高的要求，對(duì)漿料提出了更高的要求，因而傳統(tǒng)的沉降器往往難以較為粘稠的漿料中分離微小的顆粒，分離能力有限。
[0003]諸如專利CN201420067559.1，采用過(guò)濾網(wǎng)的方式，分離漿料與殘?jiān)w粒，過(guò)濾網(wǎng)會(huì)面臨頻繁更換，阻塞的問(wèn)題，不利于大規(guī)模批量化硅片產(chǎn)品的加工處理。同時(shí)，現(xiàn)在的大型硅片加工工廠，均采用漿料集中管理處理、漿料系統(tǒng)在底層而設(shè)備在高層的設(shè)計(jì)，一方面物料的管理與轉(zhuǎn)運(yùn)能力，但現(xiàn)有的技術(shù)不能滿足大規(guī)模批量化生產(chǎn)車(chē)間的需求。
[0004]針對(duì)以上問(wèn)題，本發(fā)明提供一種高效的漿料、廢液處理用旋流式沉降器。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]針對(duì)以上問(wèn)題，本實(shí)用新型專利提供一種高效的漿料或廢液處理用旋流式沉降器，其特征在于圓桶型沉降筒3內(nèi)部設(shè)有一個(gè)器壁帶有孔洞4的圓錐形整流筒2，且沉降器上方的正中央設(shè)有一排漿管5，在沉降器3的側(cè)面設(shè)有與圓桶型沉降筒3相切的進(jìn)漿口 I。
[0006]進(jìn)一步，圓錐形整流筒2的坡度為60?85度。
[0007]進(jìn)一步，所述圓錐形整流筒2的下端開(kāi)口的直徑不小于排漿管5的直徑。
[0008]進(jìn)一步，所述排漿管5插入沉降器3內(nèi)部的末端的深度應(yīng)不低于進(jìn)漿口I。
[0009]更進(jìn)一步，所述排漿管插入沉降器內(nèi)部的末端距離進(jìn)漿口的高度不低于2倍的進(jìn)漿口高度。
[0010]本實(shí)用新型專利的有益效果在于采用圓錐形設(shè)計(jì)，漿料從高度回流到沉降器中因重力具有一定的慣性。在圓錐形整流器作用下，漿料被迫高速旋轉(zhuǎn)，產(chǎn)生離心力，從而使?jié){料中的殘?jiān)w粒甩至圓錐形整流器壁，穿過(guò)孔洞掉落至沉降器底部，或經(jīng)錐形整流器壁滑落至沉降器底部。在圓錐形整流器的分隔作用下，整流器內(nèi)部的漿料流速較快，而外部的漿料相對(duì)靜止，便于殘?jiān)w粒沉降。
【附圖說(shuō)明】
[0011 ]圖1旋流式沉降器主視示意圖
[0012]圖2旋流式沉降器俯視剖面示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。
[0014]在集成電路用單晶硅片生產(chǎn)加工行業(yè)，其生產(chǎn)規(guī)模已進(jìn)入幾十萬(wàn)片/月的時(shí)代，廠房設(shè)計(jì)更為便利、節(jié)能、高效。本使用新型專利特別適用于生產(chǎn)，加工設(shè)備在樓上而漿料處理系統(tǒng)在樓下的生產(chǎn)車(chē)間，硅片加工過(guò)程產(chǎn)生的舊的漿料，經(jīng)重力自動(dòng)回流至底層;通過(guò)進(jìn)漿口 I進(jìn)入圓錐形整流筒2中，在回流慣性和整流筒的作用下，漿料在圓錐形整流筒2中進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，殘?jiān)w粒(如:硅片肩、研磨砂)在離心力的作用下被甩向筒壁，經(jīng)孔洞或整流筒底掉落至沉降器底部，而漿料經(jīng)排漿口和排漿延長(zhǎng)管排出到將為低洼的漿池中。在重力和排漿延長(zhǎng)管的作用下，提高了漿料的流動(dòng)和旋轉(zhuǎn)速度，從而進(jìn)一步提高了漿料處理能力。
[0015]本實(shí)用新型的另一實(shí)施例，采用兩個(gè)或多個(gè)旋流式沉降器串聯(lián)的方式，逐級(jí)分離漿料中的不同種類或規(guī)格的殘?jiān)w粒。諸如，將硅片加工設(shè)備步驟在三樓，一級(jí)沉降器布置在二樓，二級(jí)沉降器布置在一樓。將硅片加工設(shè)備的漿料的回流管與一級(jí)沉降器的進(jìn)漿口相連接，一級(jí)沉降器的排漿口通過(guò)延長(zhǎng)管與二級(jí)沉降器的進(jìn)漿口相連接，二級(jí)沉降器的排漿口通過(guò)延長(zhǎng)管與一個(gè)漿料栗連接。通過(guò)漿料栗輔助提供漿料在沉降器的旋轉(zhuǎn)流動(dòng)的動(dòng)力。通過(guò)該操作方法可以提高漿料的處理能力，或?qū)崿F(xiàn)殘?jiān)姆旨?jí)處理。因而，本實(shí)用新型專利提供的旋流式沉降器，具有較強(qiáng)的漿料處理能力，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，節(jié)能降耗。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種旋流式沉降器，其特征在于圓桶型沉降筒(3)內(nèi)部設(shè)有一個(gè)器壁帶有孔洞(4)的圓錐形整流筒(2)，且沉降器上方的正中央設(shè)有一排漿管(5)，在沉降器(3)的側(cè)面設(shè)有與圓桶型沉降筒(3)相切的進(jìn)漿口(I)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋流式沉降器，其特征在于所述圓錐形整流筒(2)的坡度為60?85度。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋流式沉降器，其特征在于所述圓錐形整流筒(2)的下端開(kāi)口的直徑不小于排漿管(5)的直徑。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋流式沉降器，其特征在于所述排漿管(5)插入沉降器(3)內(nèi)部的末端的深度應(yīng)不低于進(jìn)漿口( I)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的旋流式沉降器，其特征在于所述排漿管插入沉降器內(nèi)部的末端距離進(jìn)漿口的高度不低于2倍的進(jìn)漿口高度。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種旋流式沉降器，其特征在于采用底部鏤空的圓錐形整流筒，進(jìn)水口與圓錐形整流筒相切的布局，同時(shí)在圓錐形整理筒的內(nèi)壁鉆有孔洞。借助圓錐形整流筒的導(dǎo)流作用和廢水或漿料的自重，使廢水或漿料在沉降器中旋轉(zhuǎn)，從而產(chǎn)生離心力，使殘?jiān)Τ隹锥椿驁A錐底部出口，而沉降至沉降器底部。該技術(shù)提高了傳統(tǒng)沉降器的處理能力，增強(qiáng)了沉降器的應(yīng)用性。
【IPC分類】B01D21/02, B01D21/26
【公開(kāi)號(hào)】CN205307887
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521056439
【發(fā)明人】李秦霖, 宋洪偉
【申請(qǐng)人】上海超硅半導(dǎo)體有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月15日
【申請(qǐng)日】2015年12月17日