一種工業(yè)廢氣處理器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及廢氣處理領(lǐng)域，特別是涉及一種工業(yè)廢氣處理器。
【背景技術(shù)】
[0002]在工業(yè)化生產(chǎn)的過程中經(jīng)常會(huì)產(chǎn)生大量的廢氣，對于產(chǎn)生的廢氣有些企業(yè)只是將其進(jìn)行高空排放，雖然操作廠區(qū)稍微清潔了一些，但是這種做法只是對污染的轉(zhuǎn)移，依然會(huì)使大氣及周邊的環(huán)境受到污染。
[0003]目前常用的工業(yè)廢氣處理方式催化燃燒法、吸附法、吸收法、生物氧化法等。催化燃燒法使用范圍廣，幾乎可以處理所有的烴類有機(jī)廢氣及惡臭氣體，但是其適用于濃度范圍廣、成分復(fù)雜的各種有機(jī)廢氣處理。吸附法是利用某些具有吸附能力的物質(zhì)如活性炭、沸石分子篩等，將廢氣中的污染物組分濃集在吸附劑表面，使之與空氣分開的方法對廢氣進(jìn)行處理，但是活性炭等需要經(jīng)常更換，操作繁瑣且成本較高。生物氧化法只是在處理低濃度、易生物降解的有機(jī)氣時(shí)才具有經(jīng)濟(jì)性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，設(shè)計(jì)出一種工業(yè)廢氣處理器。
[0005]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是:
[0006]—種工業(yè)廢氣處理器，包括殼體，所述殼體具有第一腔室和第二腔室，殼體第一腔室的外壁上固定有風(fēng)機(jī)，風(fēng)機(jī)的下端設(shè)置有水位計(jì)，還包括位于第一腔室上部的第一噴淋裝置、位于第二腔室上部的第二噴淋裝置、位于第一噴淋裝置下方的使水均勻分布的布水器、位于第二噴淋裝置下方的填料層、分別對第一噴淋裝置和第二噴淋裝置進(jìn)行供水的噴淋管道、使噴淋水進(jìn)行循環(huán)利用的循環(huán)栗，所述噴淋管道上設(shè)置有純水補(bǔ)充口和控制閥，純水補(bǔ)充口位于控制閥的上方，所述殼體的下端設(shè)置有排污口。
[0007]所述純水補(bǔ)充口的水平位置高于第一噴淋裝置。
[0008]還包括視鏡，所述視鏡為兩個(gè)，對稱設(shè)置在第一腔室中第一噴淋裝置處的殼壁上。
[0009]還包括擋水槽，所述擋水槽設(shè)置在第一腔室的內(nèi)壁上，擋水槽的上端設(shè)置有淤關(guān)
□ O
[0010]所述擋水槽的底部低于水位計(jì)的頂部，頂部高于風(fēng)機(jī)的底部。
[0011]還包括放空口和手孔，所述放空口和手孔對稱設(shè)置在第一腔室頂部的殼壁上。
[0012]所述控制閥為球閥，循環(huán)栗為離心栗。
[0013]本實(shí)用新型的積極有益效果:本實(shí)用新型通過第一腔室的第一次噴淋，可以處理掉廢氣中能溶于水的有害物質(zhì)，通過第二腔室的第二次噴淋，殘余廢氣得到進(jìn)一步地處理，經(jīng)過兩次處理，廢氣中的污染物能夠得到充分的過濾，避免排放到空氣中對環(huán)境造成污染；而且循環(huán)栗能夠循環(huán)利用噴淋水，節(jié)約水資源，避免造成資源浪費(fèi)；通過設(shè)置視鏡，能夠觀察處理器內(nèi)部的情況；通過設(shè)置手孔，方便對設(shè)備的清洗、檢修。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖
[0015]圖中標(biāo)號的具體含義為:1為殼體，2為第一腔室，3為第二腔室，4為第一噴淋裝置，5為第二噴淋裝置，6為布水器，7為填料層，8為噴淋管道，9為循環(huán)栗，10為風(fēng)機(jī)，11為水位計(jì)，12為純水補(bǔ)充口，13為控制閥，14為排污口，15為視鏡，16為擋水槽，17為淤關(guān)口，18為放空口，19為手孔。
【具體實(shí)施方式】
[0016]參見圖1，一種工業(yè)廢氣處理器，包括殼體I，所述殼體I具有第一腔室2和第二腔室3，殼體第一腔室2的外壁上固定有風(fēng)機(jī)10，風(fēng)機(jī)10的下端設(shè)置有水位計(jì)11，還包括位于第一腔室2上部的第一噴淋裝置4、位于第二腔室3上部的第二噴淋裝置5、位于第一噴淋裝置4下方的使水均勻分布的布水器6、位于第二噴淋裝置5下方的填料層7、分別對第一噴淋裝置4和第二噴淋裝置5進(jìn)行供水的噴淋管道8、使噴淋水進(jìn)行循環(huán)利用的循環(huán)栗9，所述噴淋管道8上設(shè)置有純水補(bǔ)充口 12和控制閥13，純水補(bǔ)充口 12位于控制閥13的上方，所述殼體I的下端設(shè)置有排污口 14。所述純水補(bǔ)充口 12的水平位置高于第一噴淋裝置4，所述控制閥13為球閥，循環(huán)栗為離心栗。
[0017]還包括視鏡15、擋水槽16、放空口 18和手孔19，所述視鏡15為兩個(gè)，對稱設(shè)置在第一腔室2中第一噴淋裝置4處的殼壁上；所述擋水槽16設(shè)置在第一腔室2的內(nèi)壁上，擋水槽16的上端設(shè)置有淤關(guān)口 17，擋水槽16的底部低于水位計(jì)11的頂部，頂部高于風(fēng)機(jī)10的底部；所述放空口 18和手孔19對稱設(shè)置在第一腔室2頂部的殼壁上。第一噴淋裝置4為均勻分布的6個(gè)DN25噴淋球，第二噴淋裝置5為均勻分布的4個(gè)DN25噴淋球。
[0018]在現(xiàn)場進(jìn)行操作時(shí)，打開控制閥13，從純水補(bǔ)充口 12注入水到合適的水位后，停止注水。然后開啟循環(huán)栗9，水經(jīng)過噴淋管道8分別流至第一噴淋裝置4和第二噴淋裝置5，第一噴淋裝置4和布水器6使水分布均勻，對廢氣進(jìn)行第一次噴淋，第二噴淋裝置5和填料層7對廢氣進(jìn)行第二次噴淋，吸收廢氣中殘余的有害物質(zhì)。
[0019]開啟風(fēng)機(jī)10，將生產(chǎn)中產(chǎn)生的廢氣引入廢氣處理器，廢氣通過布水器6和第一噴淋裝置4與水充分接觸，進(jìn)行第一次噴淋，吸收廢氣中丙酮等能溶于水的有害物質(zhì)，然后通過填料層7和第二噴淋裝置5，進(jìn)行第二次噴淋，吸收廢氣中殘余的有害物質(zhì)，過濾后的氣體從第二腔室3的頂部排出。第一腔室2的殼壁上設(shè)置有視鏡15，通過視鏡15，可以觀察廢氣處理器中的情況。第一腔室2的內(nèi)壁上設(shè)置有擋水槽16，是為了防止水位過高，水溢到風(fēng)機(jī)10里，對風(fēng)機(jī)10造成損壞。當(dāng)?shù)谝磺皇?內(nèi)的壓強(qiáng)過大時(shí)，可以通過放空口 18排出氣體，降低第一腔室2中的壓強(qiáng)。廢氣通過兩次噴淋之后，廢氣中有害物質(zhì)的含量大大降低，這樣就使廢氣造成的污染得到了有效的控制，使工業(yè)生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的大量廢氣得到了有效處理，避免對環(huán)境造成污染。
[0020]廢氣處理器需要定期停機(jī)清理，將第一腔室2底部的污泥排出。清理時(shí)，打開排污口 14進(jìn)行排污，并觀察水位計(jì)11，當(dāng)水位計(jì)11顯示第一腔室2內(nèi)水量不足時(shí)，通過純水補(bǔ)充口 12補(bǔ)充純水，使噴淋水多噴淋一會(huì)兒，等到處理器中的污泥完全排出后關(guān)閉循環(huán)栗9，在完全排出設(shè)備中的水后再關(guān)閉排污口 14。第一腔室2頂部的殼壁上設(shè)有手孔19，手孔19由一個(gè)短筒節(jié)和短筒節(jié)上蓋的一個(gè)育板構(gòu)成，工作人員可以通過手孔19對廢氣處理器的內(nèi)部裝置進(jìn)行安裝、清洗和檢修等。
[0021]最后應(yīng)當(dāng)說明的是:以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非對其限制；盡管參照較佳實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解；依然可以對本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行修改或者對部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的精神，其均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型請求保護(hù)的技術(shù)方案范圍當(dāng)中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種工業(yè)廢氣處理器，包括殼體，所述殼體具有第一腔室和第二腔室，殼體第一腔室的外壁上固定有風(fēng)機(jī)，風(fēng)機(jī)的下端設(shè)置有水位計(jì)，其特征是:還包括位于第一腔室上部的第一噴淋裝置、位于第二腔室上部的第二噴淋裝置、位于第一噴淋裝置下方的使水均勻分布的布水器、位于第二噴淋裝置下方的填料層、分別對第一噴淋裝置和第二噴淋裝置進(jìn)行供水的噴淋管道、使噴淋水進(jìn)行循環(huán)利用的循環(huán)栗，所述噴淋管道上設(shè)置有純水補(bǔ)充口和控制閥，純水補(bǔ)充口位于控制閥的上方，所述殼體的下端設(shè)置有排污口。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)廢氣處理器，其特征是:所述純水補(bǔ)充口的水平位置高于第一噴淋裝置。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)廢氣處理器，其特征是:還包括視鏡，所述視鏡為兩個(gè)，對稱設(shè)置在第一腔室中第一噴淋裝置處的殼壁上。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)廢氣處理器，其特征是:還包括擋水槽，所述擋水槽設(shè)置在第一腔室的內(nèi)壁上，擋水槽的上端設(shè)置有淤關(guān)口。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的工業(yè)廢氣處理器，其特征是:所述擋水槽的底部低于水位計(jì)的頂部，頂部高于風(fēng)機(jī)的底部。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)廢氣處理器，其特征是:還包括放空口和手孔，所述放空口和手孔對稱設(shè)置在第一腔室頂部的殼壁上。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工業(yè)廢氣處理器，其特征是:所述控制閥為球閥，循環(huán)栗為離心栗。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種工業(yè)廢氣處理器，包括殼體，所述殼體具有第一腔室和第二腔室，第一腔室和第二腔室的上部分別設(shè)置有第一噴淋裝置和第二噴淋裝置，殼體第一腔室的外壁上固定有風(fēng)機(jī)，風(fēng)機(jī)的下端設(shè)置有水位計(jì)。本實(shí)用新型通過第一腔室的第一次噴淋，可以處理掉廢氣中能溶于水的有害物質(zhì)，通過第二腔室的第二次噴淋，殘余廢氣得到進(jìn)一步地處理，經(jīng)過兩次處理，廢氣中的污染物能夠得到充分的過濾，避免排放到空氣中對環(huán)境造成污染。
【IPC分類】B01D53/18
【公開號】CN204865465
【申請?zhí)枴緾N201520612242
【發(fā)明人】張國賢, 曹文英, 郭琦, 趙樹營
【申請人】河南康達(dá)制藥有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年8月14日