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一種濕法脫硫后除塵除霧裝置及其方法

文檔序號(hào):9337439閱讀:292來源:國(guó)知局
一種濕法脫硫后除塵除霧裝置及其方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種濕法脫硫后除塵除霧裝置及其方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著排放標(biāo)準(zhǔn)的提高,隨著我國(guó)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)的提高,尤其是2014年新的《火電廠大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》出臺(tái),將顆粒物排放標(biāo)準(zhǔn)提高到30mg/m3,重點(diǎn)地區(qū)要求20mg/m3。目前鍋爐煙氣處理大多采用石灰石-石膏濕法工藝,脫硫前的煙氣雖然經(jīng)過除塵處理,但由于脫硫后的煙氣含細(xì)微漿液,引起二次夾帶,導(dǎo)致出口顆粒物達(dá)不到國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。傳統(tǒng)的機(jī)械式除霧器無法滿足要求而造成煙氣排放超標(biāo)影響環(huán)境。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明對(duì)上述問題進(jìn)行了改進(jìn),即本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是解決目前濕法脫硫后濕煙氣顆粒物排放量較高。
[0004]本發(fā)明的第一具體實(shí)施方案是:一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,包括一殼體,所述殼體內(nèi)設(shè)有若干個(gè)除塵除霧單元,所述每個(gè)除塵單元內(nèi)設(shè)有兩級(jí)除塵除霧結(jié)構(gòu),所述除塵除霧結(jié)構(gòu)包括立式筒體,所述筒體內(nèi)設(shè)有旋流裝置及位于旋流裝置上方設(shè)置的環(huán)形補(bǔ)水環(huán),所述補(bǔ)水環(huán)上設(shè)有噴水孔,所述每節(jié)除塵單元底部的旋流裝置周側(cè)設(shè)有排料管。
[0005]進(jìn)一步的,所述補(bǔ)水環(huán)與旋流裝置之間設(shè)有環(huán)形引流罩,所述環(huán)形引流罩呈上小下大的錐狀。
[0006]進(jìn)一步的,所述旋流裝置包括中心圓盤,圓盤底部設(shè)置有導(dǎo)流錐,圓盤和筒體之間布置有沿圓周均布的導(dǎo)流頁片,所述導(dǎo)流頁片斜向設(shè)置
進(jìn)一步的,所述排料管上方設(shè)有環(huán)狀的沖洗管。
[0007]進(jìn)一步的,所述筒體下部具有內(nèi)縮環(huán)形擋板,內(nèi)縮環(huán)形擋板外壁與上節(jié)除塵單元底部筒體內(nèi)壁之間形成收集槽,所述排料管與收集槽聯(lián)通。
[0008]進(jìn)一步的,所述排料管向外側(cè)彎曲,所述補(bǔ)水環(huán)位于內(nèi)縮環(huán)形擋板內(nèi)且補(bǔ)水環(huán)上方設(shè)有阻液環(huán)。
[0009]進(jìn)一步的,除塵單元頂部和底部與殼體之間設(shè)置有封板,所述封板設(shè)有與除塵單元各個(gè)筒體上下端外形相符的開孔。
[0010]進(jìn)一步的,所述筒體頂部設(shè)有縮口部,所述環(huán)形引流罩位于縮口部?jī)?nèi)側(cè)。
[0011]進(jìn)一步的,所述殼體頂部設(shè)有補(bǔ)水主管,所述補(bǔ)水主管與多個(gè)濕法脫硫后除塵除霧結(jié)構(gòu)內(nèi)補(bǔ)水環(huán)相聯(lián)通,所述殼體下方聯(lián)通脫硫后含粉塵和霧滴的濕煙氣。
[0012]本發(fā)明的第二具體實(shí)施方案是:一種濕法脫硫后除塵除霧方法,利用入權(quán)利要求1所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,包括如下步驟:
(1)經(jīng)過濕法脫硫后的濕煙氣溫度約50°C,顆粒物含量約50?150mg/Nm3;
(2)開啟補(bǔ)水噴淋,筒體內(nèi)壁形成液膜層;
(3)含粉塵和霧滴的煙氣以流速5?8m/s通過除塵除霧機(jī)構(gòu)內(nèi)的旋流裝置后與筒體內(nèi)壁液膜接觸,液膜捕捉的粉塵和霧滴沿筒體內(nèi)壁流至收集槽;
(4)通過除塵除霧裝置的煙氣顆粒物含量減少到10?30mg/Nm3,壓力損失彡350Pa;
(5)開啟沖洗管對(duì)收集槽粘附物進(jìn)行定時(shí)沖洗。
[0013]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下有益效果:本發(fā)明的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,設(shè)置于脫硫塔頂部能夠?qū)煔庵写罅恳旱?、粉塵顆粒高速運(yùn)動(dòng)相互撞擊、凝聚擴(kuò)大,通過旋流裝置離心分離,液滴和粉塵被拋向內(nèi)壁,利用補(bǔ)水環(huán)在內(nèi)壁的形成水膜對(duì)液滴和粉塵實(shí)現(xiàn)捕捉,液滴、粉塵通過重力作用沿內(nèi)壁流到收集槽后收集并排出。
【附圖說明】
[0014]圖1為本發(fā)明濕法脫硫后除塵除霧單元結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖2為本發(fā)明濕法脫硫后除塵除霧單元引流罩結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖3為本發(fā)明濕法脫硫后除塵除霧單元收集槽結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖4為本發(fā)明濕法脫硫后除塵除霧單元旋流裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖5為本發(fā)明濕法脫硫后除塵除霧裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖6為本發(fā)明濕法脫硫后除塵除霧裝置俯視狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖7為本發(fā)明濕法脫硫后除塵除霧裝置安裝結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0022]如圖1?5所示,,一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,包括一殼體100,所述殼體100內(nèi)設(shè)有若干個(gè)除塵除霧單元,所述每個(gè)除塵單元內(nèi)設(shè)有兩級(jí)除塵除霧結(jié)構(gòu),除塵除霧結(jié)構(gòu)包括立式筒體10,筒體10內(nèi)設(shè)有旋流裝置及位于旋流裝置20上方設(shè)置的環(huán)形補(bǔ)水環(huán)50,所述旋流裝置20周側(cè)設(shè)有排料管30。
[0023]所述筒體10下部具有內(nèi)縮環(huán)形擋板110,內(nèi)縮環(huán)形擋板外壁與上節(jié)除塵單元底部筒體內(nèi)壁之間形成收集槽40,所述排料管30與收集槽40聯(lián)通。
[0024]所述旋流裝置20包括多片沿圓周均布的頁片210,旋流裝置20是為了將內(nèi)部的煙塵導(dǎo)向筒體10的周部,位于筒體10上部設(shè)置的補(bǔ)水環(huán)50,所述補(bǔ)水環(huán)50上設(shè)有噴水孔。補(bǔ)水環(huán)50的位置貼附于筒體10的內(nèi)壁,補(bǔ)水環(huán)50與進(jìn)水裝置聯(lián)通用于噴水,這樣補(bǔ)水環(huán)50向下方排水同時(shí)實(shí)現(xiàn)與旋流裝置20上排的煙塵相遇實(shí)現(xiàn)捕捉,液滴、粉塵通過重力作用沿內(nèi)壁流到收集槽40。
[0025]為了保證補(bǔ)水環(huán)50的水分能夠向筒體內(nèi)壁導(dǎo)流,旋流裝置20之間設(shè)有環(huán)形引流罩60,所述環(huán)形引流罩60呈上小下大的錐狀,且位于縮口部?jī)?nèi)側(cè)。這樣能保證將補(bǔ)水環(huán)排出的水導(dǎo)入筒體10的內(nèi)壁。
[0026]排料管30上方設(shè)有環(huán)狀的沖洗管310,所述排料管30向外側(cè)彎曲,這樣沖洗管310可方便地實(shí)現(xiàn)將收集槽40內(nèi)的混合物料經(jīng)排料管30排出。
[0027]為了避免煙氣爬壁而帶出霧滴,所述筒體10頂部設(shè)有縮口部,所述補(bǔ)水環(huán)位于縮口部?jī)?nèi)且補(bǔ)水環(huán)上方設(shè)有阻液環(huán)510。
[0028]殼體100底部設(shè)有支撐加強(qiáng)筋101,這樣所述殼體100頂部設(shè)有補(bǔ)水主管,所述補(bǔ)水主管與多個(gè)濕法脫硫后除塵除霧結(jié)構(gòu)內(nèi)補(bǔ)水環(huán)相聯(lián)通以實(shí)現(xiàn)對(duì)補(bǔ)水環(huán)的補(bǔ)水。濕法脫硫后除塵除霧裝置是按照于傳統(tǒng)所述殼體下方聯(lián)通有脫硫后含粉塵和霧滴的濕煙氣。
[0029]殼體及除塵除霧機(jī)構(gòu)的筒體上設(shè)有人孔或檢修孔102以利于檢修,殼體位于除塵單元上下方設(shè)有封板103,所述封板103設(shè)有與除塵單元各個(gè)筒體10下端外形相符的開孔,以保證開孔下方的煙氣僅進(jìn)入除塵單元。
[0030]上述一種濕法脫硫后除塵除霧裝置一種濕法脫硫后除塵除霧方法,具體實(shí)施步驟如下:
(1)經(jīng)過濕法脫硫后的濕煙氣溫度約50°C,顆粒物含量約50?150mg/Nm3;
(2)開啟補(bǔ)水噴淋,筒體內(nèi)壁形成液膜層;
(3)含粉塵和霧滴的煙氣以流速5?8m/s通過除塵除霧機(jī)構(gòu)內(nèi)的旋流裝置后與筒體內(nèi)壁液膜接觸,液膜捕捉的粉塵和霧滴沿筒體內(nèi)壁流至收集槽;
(4)通過除塵除霧裝置的煙氣顆粒物含量減少到10?30mg/Nm3,壓力損失彡350Pa;
(5)開啟沖洗管對(duì)收集槽粘附物進(jìn)行定時(shí)沖洗。
[0031]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,凡依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所做的均等變化與修飾,皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,包括殼體,所述殼體內(nèi)設(shè)有設(shè)置若干個(gè)除塵除霧單元,所述每個(gè)除塵除霧單元內(nèi)設(shè)有兩級(jí)除塵除霧結(jié)構(gòu),所述除塵除霧結(jié)構(gòu)包括立式筒體,所述筒體內(nèi)設(shè)有旋流裝置及位于旋流裝置上方設(shè)置的環(huán)形補(bǔ)水環(huán),所述補(bǔ)水環(huán)上設(shè)有噴水孔,所述每節(jié)除塵單元底部的旋流裝置周側(cè)設(shè)有排料管。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濕法脫硫后除塵除霧裝置,其特征在于,所述補(bǔ)水環(huán)與旋流裝置之間設(shè)有環(huán)形引流罩,所述環(huán)形引流罩呈上小下大的錐狀。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,其特征在于,所述旋流裝置包括中心圓盤,圓盤底部設(shè)置有導(dǎo)流錐,圓盤和筒體之間布置有沿圓周均布的導(dǎo)流頁片,所述導(dǎo)流頁片斜向設(shè)置。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,其特征在于,所述排料管上方設(shè)有環(huán)狀的沖洗管。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,其特征在于,所述筒體下部具有內(nèi)縮環(huán)形擋板,內(nèi)縮環(huán)形擋板外壁與上節(jié)除塵單元底部筒體內(nèi)壁之間形成收集槽,所述排料管與收集槽聯(lián)通。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,其特征在于,所述排料管向外側(cè)彎曲。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,其特征在于,所述補(bǔ)水環(huán)位于內(nèi)縮環(huán)形擋板內(nèi)且補(bǔ)水環(huán)上方設(shè)有阻液環(huán)。8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,其特征在于,除塵單元頂部和底部與殼體之間設(shè)置有封板,所述封板設(shè)有與除塵單元各個(gè)筒體上下端外形相符的開孔。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種濕法脫硫后除塵除霧裝置,其特征在于,所述殼體頂部設(shè)有補(bǔ)水主管,所述補(bǔ)水主管與多個(gè)濕法脫硫后除塵除霧機(jī)構(gòu)內(nèi)補(bǔ)水環(huán)相聯(lián)通,所述殼體下方聯(lián)通脫硫后含粉塵和霧滴的濕煙氣。10.一種濕法脫硫后除塵除霧方法,其特征在于,利用入權(quán)利要求1所述的一種(I)濕法脫硫后除塵除霧裝置,包括如下步驟: (2)經(jīng)過濕法脫硫后的濕煙氣溫度約50°C,顆粒物含量約50?150mg/Nm3; (3)開啟補(bǔ)水噴淋,筒體內(nèi)壁形成液膜層; (4)含粉塵和霧滴的煙氣以流速5?8m/s通過除塵除霧機(jī)構(gòu)內(nèi)的旋流裝置后與筒體內(nèi)壁液膜接觸,液膜捕捉的粉塵和霧滴沿筒體內(nèi)壁流至收集槽; (5)通過除塵除霧裝置的煙氣顆粒物含量減少到10?30mg/Nm3,壓力損失彡350Pa; 開啟沖洗管對(duì)收集槽粘附物進(jìn)行定時(shí)沖洗。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種濕法脫硫后除塵除霧裝置及其方法,包括一殼體,所述殼體內(nèi)設(shè)有若干個(gè)除塵除霧單元,所述每個(gè)除塵除霧單元內(nèi)設(shè)有兩級(jí)除塵除霧結(jié)構(gòu),所述除塵除霧結(jié)構(gòu)包括立式筒體,所述筒體內(nèi)設(shè)有旋流裝置及位于旋流裝置上方設(shè)置的環(huán)形補(bǔ)水環(huán),所述補(bǔ)水環(huán)上設(shè)有噴水孔,所述每節(jié)除塵單元底部的旋流裝置周側(cè)設(shè)有排料管。本發(fā)明方法及結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,設(shè)置于脫硫塔頂部能夠?qū)煔庵写罅恳旱?、粉塵顆粒高速運(yùn)動(dòng)相互撞擊、凝聚擴(kuò)大,通過旋流裝置離心分離,液滴和粉塵被拋向內(nèi)壁,利用補(bǔ)水環(huán)在內(nèi)壁的形成水膜對(duì)液滴和粉塵實(shí)現(xiàn)捕捉,液滴、粉塵通過重力作用沿內(nèi)壁流到收集槽后收集并排出。
【IPC分類】B01D50/00
【公開號(hào)】CN105056691
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510621886
【發(fā)明人】吳金泉, 曹友洪, 李顯華, 賴英坤
【申請(qǐng)人】福建鑫澤環(huán)保設(shè)備工程有限公司
【公開日】2015年11月18日
【申請(qǐng)日】2015年9月28日
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