專利名稱：一種穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及射流清洗技術(shù)，特別涉及一種穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的方法與裝置，主要用于實(shí)現(xiàn)對(duì)后混合射流系統(tǒng)中攪拌桶的砂量濃度進(jìn)行有效控制，實(shí)現(xiàn)對(duì)不同種類的硬物顆粒物的不同濃度進(jìn)行穩(wěn)定控制，確保供砂系統(tǒng)能穩(wěn)定的向外供應(yīng)規(guī)定濃度的砂漿，保證供砂管路不發(fā)生砂漿濃度過(guò)大、過(guò)少等現(xiàn)象，由此實(shí)現(xiàn)對(duì)后混合射流特性的嚴(yán)格控制，有效提高后混合射流清洗效果的穩(wěn)定性。
背景技術(shù)：
后混合射流清洗技術(shù)是采用高壓水射流帶動(dòng)細(xì)小的硬物顆粒，以高壓水位載體將硬物顆粒加速至足夠高的速度后，向目標(biāo)靶物進(jìn)行沖刷、轟擊，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)各類制品表面的腐蝕層(如銹蝕層、鱗皮)、油漆層、邊角部加工毛刺等的有效清洗。
通常情況下，考慮到清洗操作的方便、快捷性，通常采用一種稱為后混合射流的清洗技術(shù)，該技術(shù)是通過(guò)增壓系統(tǒng)，如三柱塞泵將水壓力增壓至足夠高的壓力水平，如80MPa， 同時(shí)將此高壓水傳遞至后混合噴嘴處，后混合噴嘴依靠自身的特殊形腔，在通水噴射時(shí)自動(dòng)產(chǎn)生一個(gè)對(duì)應(yīng)的自吸力，該自吸力即為砂路供應(yīng)的基本動(dòng)力源，該自吸力通過(guò)一個(gè)插在攪拌桶中的管子將混合油高濃度砂粒的砂漿吸入噴嘴，并在噴嘴內(nèi)的混合腔內(nèi)完成混合后向外噴射，如此實(shí)現(xiàn)最終的后混合噴射，以此來(lái)實(shí)現(xiàn)清洗的目的。
之所以利用攪拌桶來(lái)實(shí)現(xiàn)供砂，主要是因?yàn)閲娚涞纳傲Ｐ枰厥仗幚砗笤倮茫?這種回收再利用的砂粒進(jìn)入噴射系統(tǒng)時(shí)，最方便的手段就是直接進(jìn)入攪拌器，利用噴射系統(tǒng)的自吸力吸入噴射系統(tǒng)即可，如此即實(shí)現(xiàn)再利用。
這種再利用的供砂方案中的核心部件是攪拌桶，吸砂管直接插入攪拌桶，通常為了獲得高濃度的砂漿，吸砂管通常直接插入至攪拌桶的底部。這種方式帶來(lái)的優(yōu)點(diǎn)是砂漿濃度極高，對(duì)噴射后的清洗效果具有很好的促進(jìn)作用；然而，為實(shí)現(xiàn)砂量的循環(huán)利用，通常砂粒在進(jìn)行一次表面噴射后，利用回收過(guò)濾系統(tǒng)會(huì)通過(guò)砂漿管路再次進(jìn)入攪拌桶，攪拌桶作為一個(gè)供砂的關(guān)鍵系統(tǒng)，其內(nèi)部的砂水濃度至關(guān)重要。當(dāng)砂水濃度超標(biāo)后，通常造成攪拌器負(fù)荷超限，容易造成攪拌器驅(qū)動(dòng)電機(jī)過(guò)熱燒損；當(dāng)砂水濃度較低時(shí)，造成噴射系統(tǒng)的砂管中砂量不足，直接影響噴射系統(tǒng)的清洗效果。
基于此，為獲取穩(wěn)定的砂量供應(yīng)，需要嚴(yán)格控制攪拌桶中的砂水濃度(可分為體積比濃度與質(zhì)量比濃度)。通過(guò)對(duì)國(guó)內(nèi)外相關(guān)領(lǐng)域內(nèi)進(jìn)行的詳細(xì)調(diào)研發(fā)現(xiàn)，相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的研究人員并沒(méi)有提出一種針對(duì)性的有效解決方案，為此本發(fā)明基于攪拌桶內(nèi)的二相流的重量特性，公開(kāi)一種有效的濃度控制方案，以實(shí)現(xiàn)對(duì)攪拌桶中砂量的穩(wěn)定控制。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的方法及裝置，用于單一種類砂粒與液體介質(zhì)的不同濃度值下的穩(wěn)定控制，通過(guò)對(duì)攪拌桶特殊高度位置的濃度精確測(cè)量，實(shí)現(xiàn)對(duì)攪拌桶內(nèi)注入介質(zhì)量的精確控制，從而提高攪拌桶的砂漿濃度的穩(wěn)定控制，杜絕砂漿濃度過(guò)高或過(guò)低的現(xiàn)象，出達(dá)到對(duì)后混合噴嘴清洗效果的有效控制。
為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的主要技術(shù)方案是
利用對(duì)攪拌桶內(nèi)某個(gè)高度的濃度值進(jìn)行精確的光學(xué)測(cè)量，由測(cè)量值對(duì)標(biāo)來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)攪拌桶內(nèi)注入介質(zhì)的精確控制，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)攪拌桶內(nèi)濃度分布的穩(wěn)定控制，以此來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)最終向外供應(yīng)的砂漿濃度的控制。
具體地，本發(fā)明的一種穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的方法，包括如下步驟
1)確定攪拌桶初始狀態(tài)的參數(shù)
攪拌桶容積為
式中h_攪拌桶的有效容積深度，m ；d-攪拌桶的有效容積直徑，m攪拌桶的最終有效容積，Hi3 ；V1-攪拌器在攪拌桶有效容積深度內(nèi)所占據(jù)的容積，m3 ；
攪拌桶內(nèi)砂漿初始濃度值為Ntl，該測(cè)量值Ntl正是攪拌桶6在后續(xù)穩(wěn)定供應(yīng)期間需要保持的測(cè)量值，即桶內(nèi)必須達(dá)到的目標(biāo)濃度值；
攪拌桶初始加入介質(zhì)即砂漿和水的平均體積比為A
Z0 = N0XK
式中，K值為等效系數(shù)，即桶內(nèi)的平均體積比濃度值與該高度下測(cè)量點(diǎn)的實(shí)際體積比濃度值的比值，該值主要由攪拌桶的自身特性與攪拌參數(shù)決定，為常值，取值1 8 ；
2)在攪拌桶抽吸過(guò)程中，攪拌桶內(nèi)上部設(shè)濃度測(cè)量點(diǎn)，通過(guò)光學(xué)檢測(cè)獲得該高度攪拌桶內(nèi)介質(zhì)的濃度值Ni，由此可以計(jì)算得桶內(nèi)介質(zhì)的平均體積比τγ
Z1 = N1XK
式中，K值同上；
此時(shí)，攪拌桶內(nèi)介質(zhì)的當(dāng)前實(shí)際濃度與介質(zhì)需要達(dá)到的目標(biāo)濃度存在如下平均差值
Z0-Z1
由此可得，攪拌桶中需要保持的均勻體積比濃度為&，而此時(shí)攪拌桶內(nèi)因介質(zhì)向外輸送了一部分，造成桶內(nèi)原有的流場(chǎng)分布發(fā)生變化，此時(shí)檢測(cè)濃度值為Ni，故需要補(bǔ)充的介質(zhì)量分別為水為Aa2，砂漿為Aa1，其中
Aa1 = ([(N1-N2) · K] · V0}/Z0
然而，攪拌桶在向內(nèi)注入介質(zhì)的同時(shí)，向外以一定速率向外輸出介質(zhì)，因此，其實(shí)際注入介質(zhì)的流量為
Z1 · B1-Z2 · b
由此可知，注入高濃度砂漿所需的時(shí)間為
S1 = Δ B1/ (Z1 · B1-Z2 · b)
對(duì)于水的供應(yīng)量，不需要精確控制，僅需保持輸入量超過(guò)需求量即可；
3)根據(jù)上述需要補(bǔ)充的介質(zhì)量，分別對(duì)兩個(gè)介質(zhì)即水、砂漿供應(yīng)管路控制，補(bǔ)充耗時(shí)Si，在S1+S之后再次測(cè)量，其測(cè)量值再次與規(guī)定濃度NO做對(duì)比，直到(NO-Nl)/NO d， d值為系統(tǒng)中所能容忍的濃度最大偏差量；如此，系統(tǒng)即達(dá)到了所要求濃度精度的穩(wěn)定水平從而實(shí)現(xiàn)對(duì)攪拌桶內(nèi)濃度分布的穩(wěn)定控制，以此來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)最終向外供應(yīng)的砂漿濃度的控制。
進(jìn)一步，顆粒濃度低于15%的顆粒濃度檢測(cè)儀。
另外，本發(fā)明穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，包括攪拌桶、通入攪拌桶的兩個(gè)介質(zhì)供應(yīng)管路及一輸出管路；其還包括，一濃度檢測(cè)裝置，設(shè)置于攪拌桶上部；所述的兩個(gè)介質(zhì)供應(yīng)管路及一輸出管路上分別設(shè)控制閥；該些控制閥電性連接至一控制器，所述的濃度檢測(cè)裝置也電性連接至該控制器，控制器接受濃度檢測(cè)裝置檢測(cè)信號(hào)，處理后將控制信號(hào)傳送至個(gè)控制閥。
所述的攪拌桶對(duì)應(yīng)濃度檢測(cè)裝置處設(shè)檢測(cè)口，該檢測(cè)口為攪拌桶上部桶壁凸設(shè)結(jié)構(gòu)。
所述的檢測(cè)口沿?cái)嚢柰吧喜吭O(shè)有若干個(gè)。
所述的攪拌桶上部設(shè)溢流口。
所述的濃度檢測(cè)裝置為光學(xué)檢測(cè)裝置。
所述的濃度檢測(cè)裝置為激光濃度測(cè)量?jī)x或射線濃度測(cè)量?jī)x。
所述的所述攪拌桶輸入介質(zhì)管路中高濃度砂漿的硬物顆粒體積比濃度為一穩(wěn)定值，且該體積比濃度值高于輸出管路的體積比濃度值。
所述的攪拌桶輸入介質(zhì)管路中的水注入管路，其中硬物顆粒的含量不高于50mg/ L0
所述的濃度測(cè)量裝置測(cè)量點(diǎn)在桶身的不同高度位置，測(cè)量點(diǎn)的混合介質(zhì)中的濃度值不能高于15%。
本發(fā)明的有益效果
1)本發(fā)明能穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)的固體顆粒物與水兩種介質(zhì)的體積比濃度控制在目標(biāo)平均濃度值A(chǔ)的一定范圍內(nèi)，從而實(shí)現(xiàn)該攪拌桶能穩(wěn)定的為外界提供穩(wěn)定濃度的漿料。
2)通過(guò)本發(fā)明控制方法，能實(shí)現(xiàn)攪拌桶內(nèi)濃度的完全自動(dòng)化控制，無(wú)需人工干預(yù)， 保證了整個(gè)系統(tǒng)的可靠性。


圖1為本發(fā)明穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置的示意圖。
圖2為本發(fā)明一實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施方式
參見(jiàn)圖1、圖2，本發(fā)明穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，包括攪拌桶1、通入攪拌桶1的兩個(gè)介質(zhì)供應(yīng)管路2、3及一輸出管路4 ；其還包括，一濃度檢測(cè)裝置5，設(shè)置于攪拌桶1上部；所述的兩個(gè)介質(zhì)供應(yīng)管路2、3及一輸出管路4上分別設(shè)控制閥6、6’、6”;該些控制閥6、6’、6”電性連接至一控制器7，所述的濃度檢測(cè)裝置5也電性連接至該控制器，控制器7接受濃度檢測(cè)裝置5檢測(cè)信號(hào)，處理后將控制信號(hào)傳送至個(gè)控制閥6、6’、6”。
所述的攪拌桶對(duì)應(yīng)濃度檢測(cè)裝置處設(shè)檢測(cè)口，該檢測(cè)口為攪拌桶上部桶壁凸設(shè)結(jié)構(gòu)。所述的檢測(cè)口沿?cái)嚢柰吧喜吭O(shè)有若干個(gè)。
所述的攪拌桶1上部設(shè)溢流口 101。
所述的濃度檢測(cè)裝置5為光學(xué)檢測(cè)裝置，如激光濃度測(cè)量?jī)x或射線濃度測(cè)量?jī)x。
實(shí)施例
本發(fā)明的穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的方法，包括如下步驟
1)確定攪拌桶初始狀態(tài)的參數(shù)
(1)該攪拌桶內(nèi)的等效系數(shù)K = 6，即桶內(nèi)所有介質(zhì)的平均濃度值與距離攪拌桶液面為IOcm測(cè)量點(diǎn)(該處實(shí)測(cè)值不高于15% )的濃度測(cè)量值之間的比值；
(2)攪拌桶1注入介質(zhì)后，達(dá)到穩(wěn)定攪拌狀態(tài)所需達(dá)到的時(shí)間為k ；
(3)攪拌桶需要控制達(dá)到的目標(biāo)平均濃度值& = 48%，即測(cè)量點(diǎn)濃度為N。= 8%;
(4)攪拌桶容積為V1= 0.69m3
式中h_攪拌桶1的有效容積深度，為1.0m ;d_攪拌桶1的有效容積直徑，為 1. Om ；V0-攪拌桶1的最終有效容積，計(jì)算所得為0. 69m3 ;Vr攪拌器在攪拌桶有效容積深度內(nèi)所占據(jù)的容積，0. lm3；
攪拌桶內(nèi)砂漿初始濃度測(cè)量值為Ntl = 8% ；該測(cè)量值Ntl正是攪拌桶1在后續(xù)穩(wěn)定供應(yīng)期間需要保持的測(cè)量值，即桶內(nèi)必須達(dá)到的目標(biāo)濃度值；攪拌桶初始加入介質(zhì)即砂漿和水的平均體積比為A
Z0 = N0XK = 8% X6 = 48%
式中，K值為等效系數(shù)，即桶內(nèi)的平均體積比濃度值與該高度下測(cè)量點(diǎn)的實(shí)際體積比濃度值的比值，該值主要由攪拌桶的自身特性與攪拌參數(shù)決定，基于實(shí)驗(yàn)測(cè)量結(jié)果，該值可取常數(shù)6 ；
2)在攪拌桶抽吸過(guò)程中，攪拌桶內(nèi)上部設(shè)濃度測(cè)量點(diǎn)，通過(guò)光學(xué)檢測(cè)獲得該高度攪拌桶內(nèi)介質(zhì)的濃度值Ni，由此可以計(jì)算得桶內(nèi)介質(zhì)的平均體積比Zl
Z1 = N1XK = 5% X6 = 30%
式中，K值同上；
此時(shí)，攪拌桶內(nèi)介質(zhì)的當(dāng)前實(shí)際平均體積比濃度值與介質(zhì)需要達(dá)到的目標(biāo)平均體積比濃度值的差值計(jì)算如下
Z0-Z1 = 48% -30%= 18%
由此可得，攪拌桶中需要保持的均勻體積比濃度為&，而此時(shí)攪拌桶內(nèi)因介質(zhì)向外輸送了一部分，造成桶內(nèi)原有的流場(chǎng)分布發(fā)生變化，此時(shí)檢測(cè)濃度值為Ni，故需要補(bǔ)充的介質(zhì)量分別為水為△&，砂漿為Aal，如此，即獲得的濃度偏差量與磨料需要增添的量為
Aa1 = {[ (N1-N2) · K] · V0}/Z0 = {0. 18X0. 69X 103}/0. 48 = 258. 75L
對(duì)于水的供應(yīng)量，不需要精確控制，僅需保持輸入量超過(guò)需求量即可；
3)根據(jù)上述需要補(bǔ)充的介質(zhì)量，分別對(duì)兩個(gè)介質(zhì)即水、砂漿供應(yīng)管路控制，且兩介質(zhì)補(bǔ)充管路的補(bǔ)充參數(shù)如下
(1)高濃度砂漿的體積比濃度值為Zl = 80% ；
(2)高濃度砂漿單位時(shí)間的穩(wěn)定供應(yīng)速度為al = 60L/min ；
(3)工業(yè)用水的單位時(shí)間的穩(wěn)定供應(yīng)速度為a2 = 30L/min ；
另外，從攪拌桶向外輸出的介質(zhì)流量參數(shù)如下
(1)抽吸的砂漿濃度值恒定控制在Z2 = 50% ；
(2)吸出的單位時(shí)間的速度為b = 20L/min ；
然而，攪拌桶在向內(nèi)注入介質(zhì)的同時(shí)，向外以一定速率向外輸出介質(zhì)，因此，其實(shí)際注入介質(zhì)的流量為
Z1 · B1-Z2 ‘ b = 80% X60-50% X20 = 38L/min
由此可知，注入高濃度砂漿直至桶內(nèi)濃度達(dá)到目標(biāo)平均濃度所需的時(shí)間為
= Δα'/ = 258 75 =6.81min = 4095 1A 38
注入介質(zhì)后，攪拌桶內(nèi)還需要k才能達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)，因此，控制系統(tǒng)5必須在 409+5 = 4Hs后再進(jìn)行數(shù)據(jù)采集，其測(cè)量結(jié)果才能作為控制量，只要此時(shí)的攪拌桶6內(nèi)部的實(shí)測(cè)濃度值N1與目標(biāo)濃度值Ntl之間的濃度偏差滿足如下控制要求
d = (N0-N1)ZN0 ^ 5%
即滿足系統(tǒng)的濃度控制目標(biāo)，即輸入介質(zhì)的管路關(guān)閉即可，如此，系統(tǒng)即達(dá)到了所要求濃度精度的穩(wěn)定水平從而實(shí)現(xiàn)對(duì)攪拌桶內(nèi)濃度分布的穩(wěn)定控制，以此來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)最終向外供應(yīng)的砂漿濃度的控制。
本發(fā)明充分利用對(duì)攪拌桶內(nèi)一定高度的濃度值、出入介質(zhì)的測(cè)量，通過(guò)合理計(jì)算即可實(shí)現(xiàn)對(duì)攪拌器內(nèi)部硬物顆粒物體積比濃度的穩(wěn)定控制。由于本發(fā)明所采用技術(shù)已經(jīng)成熟，可以實(shí)施，推廣應(yīng)用完全可行。另一方面，本發(fā)明能輔助公司對(duì)表面處理的技術(shù)進(jìn)步，提高表面處理的效率與穩(wěn)定性。因此，本發(fā)明在表面處理生產(chǎn)領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。
權(quán)利要求
1.一種穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的方法，包括如下步驟1)確定攪拌桶初始狀態(tài)的參數(shù)攪拌桶容積為:V0=h.宇-V1式中h-攪拌桶的有效容積深度，m ；d-攪拌桶的有效容積直徑，m 攪拌桶的最終有效容積，m3 ；V1-攪拌器在攪拌桶有效容積深度內(nèi)所占據(jù)的容積，m3 ；攪拌桶內(nèi)砂漿初始濃度值為Ntl，該測(cè)量值Ntl正是攪拌桶6在后續(xù)穩(wěn)定供應(yīng)期間需要保持的測(cè)量值，即桶內(nèi)必須達(dá)到的目標(biāo)濃度值；攪拌桶初始加入介質(zhì)即砂漿和水的平均體積比為AZ0 = N0XK式中，K值為等效系數(shù)，即桶內(nèi)的平均體積比濃度值與該高度下測(cè)量點(diǎn)的實(shí)際體積比濃度值的比值，該值主要由攪拌桶的自身特性與攪拌參數(shù)決定，為常值，取值1 8 ；2)在攪拌桶抽吸過(guò)程中，攪拌桶內(nèi)上部設(shè)濃度測(cè)量點(diǎn)，通過(guò)光學(xué)檢測(cè)獲得該高度攪拌桶內(nèi)介質(zhì)的濃度值Ni，由此可以計(jì)算得桶內(nèi)介質(zhì)的平均體積比Z1 Z1 = N1XK式中，K值同上；此時(shí)，攪拌桶內(nèi)介質(zhì)的當(dāng)前實(shí)際濃度與介質(zhì)需要達(dá)到的目標(biāo)濃度存在如下平均差值7 -7厶ο厶ι由此可得，攪拌桶中需要保持的均勻體積比濃度為A，而此時(shí)攪拌桶內(nèi)因介質(zhì)向外輸送了一部分，造成桶內(nèi)原有的流場(chǎng)分布發(fā)生變化，此時(shí)檢測(cè)濃度值為Ni，故需要補(bǔ)充的介質(zhì)量分別為水為Δ&2，砂漿為Aal，其中Aa1 = ([(N1-N2) · K] · V0}/Z0然而，攪拌桶在向內(nèi)注入介質(zhì)的同時(shí)，向外以一定速率向外輸出介質(zhì)，因此，其實(shí)際注入介質(zhì)的流量為Z1 · a「Z2 · b由此可知，注入高濃度砂漿所需的時(shí)間為S1 = Δ ay (Z1 · a「Z2 · b)對(duì)于水的供應(yīng)量，不需要精確控制，僅需保持輸入量超過(guò)需求量即可；3)根據(jù)上述需要補(bǔ)充的介質(zhì)量，分別對(duì)兩個(gè)介質(zhì)即水、砂漿供應(yīng)管路控制，補(bǔ)充耗時(shí) Si，在S1+S之后再次測(cè)量，其測(cè)量值再次與規(guī)定濃度NO做對(duì)比，直到(NO-Nl)/NO d，d值為系統(tǒng)中所能容忍的濃度最大偏差量；如此，系統(tǒng)即達(dá)到了所要求濃度精度的穩(wěn)定水平從而實(shí)現(xiàn)對(duì)攪拌桶內(nèi)濃度分布的穩(wěn)定控制，以此來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)最終向外供應(yīng)的砂漿濃度的控制。
2.穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，包括攪拌桶、通入攪拌桶的兩個(gè)介質(zhì)供應(yīng)管路及一輸出管路；其特征是，還包括，一濃度檢測(cè)裝置，設(shè)置于攪拌桶上部；所述的兩個(gè)介質(zhì)供應(yīng)管路及一輸出管路上分別設(shè)控制閥；該些控制閥電性連接至一控制器，所述的濃度檢測(cè)裝置也電性連接至該控制器，控制器接受濃度檢測(cè)裝置檢測(cè)信號(hào)，處理后將控制信號(hào)傳送至個(gè)控制閥。
3.如權(quán)利要求2所述的穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，其特征是，所述的攪拌桶對(duì)應(yīng)濃度檢測(cè)裝置處設(shè)檢測(cè)口，該檢測(cè)口為攪拌桶上部桶壁凸設(shè)結(jié)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求2所述的穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，其特征是，所述的檢測(cè)口沿?cái)嚢柰吧喜吭O(shè)有若干個(gè)。
5.如權(quán)利要求2所述的穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，其特征是，所述的攪拌桶上部設(shè)溢流口。
6.如權(quán)利要求2所述的穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，其特征是，所述的濃度檢測(cè)裝置為光學(xué)檢測(cè)裝置。
7.如權(quán)利要求2所述的穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，其特征是，所述的濃度檢測(cè)裝置為激光濃度測(cè)量?jī)x或射線濃度測(cè)量?jī)x。
8.如權(quán)利要求2所述的穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，其特征是，所述的攪拌桶輸入介質(zhì)管路中高濃度砂漿的硬物顆粒體積比濃度為一穩(wěn)定值，且該體積比濃度值高于輸出管路的體積比濃度值。
9.如權(quán)利要求2所述的穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，其特征是，所述的攪拌桶輸入介質(zhì)管路中的水注入管路，其中硬物顆粒的含量不高于50mg/L。
10.如權(quán)利要求2所述的穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的裝置，其特征是，所述的濃度測(cè)量裝置測(cè)量點(diǎn)在桶身的不同高度位置，測(cè)量點(diǎn)的混合介質(zhì)中的濃度值不高于15%。
全文摘要
一種穩(wěn)定控制攪拌桶內(nèi)攪拌狀態(tài)的方法及裝置，該裝置包括攪拌桶、通入攪拌桶的兩個(gè)介質(zhì)供應(yīng)管路及一輸出管路；其還包括，一濃度檢測(cè)裝置，設(shè)置于攪拌桶上部；所述的兩個(gè)介質(zhì)供應(yīng)管路及一輸出管路上分別設(shè)控制閥；該些控制閥電性連接至一控制器，所述的濃度檢測(cè)裝置也電性連接至該控制器，控制器接受濃度檢測(cè)裝置檢測(cè)信號(hào)，處理后將控制信號(hào)傳送至個(gè)控制閥。本發(fā)明利用對(duì)攪拌桶內(nèi)某個(gè)高度的濃度值進(jìn)行精確的光學(xué)測(cè)量，由測(cè)量值對(duì)比來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)攪拌桶內(nèi)注入介質(zhì)的精確控制，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)攪拌桶內(nèi)濃度分布的穩(wěn)定控制，以此來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)最終向外供應(yīng)的砂漿濃度的控制。
文檔編號(hào)B01F7/16GK102513021SQ201110455129
公開(kāi)日2012年6月27日 申請(qǐng)日期2011年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月30日
發(fā)明者段明南 申請(qǐng)人:寶山鋼鐵股份有限公司