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分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴的制作方法

文檔序號(hào):4518748閱讀:275來源:國(guó)知局
專利名稱:分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于橫流冷卻塔循環(huán)水領(lǐng)域,特別是工業(yè)冷卻水循環(huán)冷卻塔領(lǐng)域。
噴嘴是橫流冷卻塔的重要組成部分,上塔的循環(huán)熱水入配水池以后流經(jīng)噴嘴飛濺為均勻的水滴噴灑在冷卻塔內(nèi)的填料上而被冷卻,噴嘴性能的好壞直接影響冷卻塔的冷卻效果。現(xiàn)有的冷卻塔用的噴嘴常用的是靶式噴嘴,見圖1。實(shí)際應(yīng)用中,由于冷卻塔配水池池面水平度不均,造成配水池不同位置上的靶式噴嘴上方的液位深度不均,從而導(dǎo)致冷卻塔配水配風(fēng)不均,冷卻效率下降。為解決這一問題,ZL93205412.9號(hào)專利提供了一種“高度可調(diào)靶式噴頭”,見圖2。這種高度可調(diào)靶式噴頭因其導(dǎo)流環(huán)在配水池底板上部的高度可調(diào),故可以很好地解決因配水池池面水平度不均導(dǎo)致冷卻塔配水、配風(fēng)不均冷卻效率下降的問題。但在冷卻塔噴嘴的實(shí)際安裝中,常常發(fā)現(xiàn)如下的問題,即冷卻塔用噴嘴噴水的有效高度與配水池底板的厚度不相匹配,當(dāng)配水池底板厚度大于噴嘴噴水的有效高度時(shí),會(huì)嚴(yán)重影響冷卻塔的下泄水量,使冷卻塔達(dá)不到設(shè)計(jì)的水處理量,在這種情況下,ZL93205412.9號(hào)專利就無能為力了,為適應(yīng)不同厚度配水池底板對(duì)噴嘴高度的需要,必須加工制造出各種長(zhǎng)度不同的噴嘴,這給噴嘴的設(shè)計(jì)和加工制造帶來很大的不便,也不經(jīng)濟(jì)。
為解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,尋求一種能夠靈活地適應(yīng)不同厚度的冷卻塔配水池底板的需要,以及適應(yīng)噴嘴與填料間距離要求需要的靶式噴嘴,從而能有效地保證冷卻塔冷卻效率處于最佳狀態(tài),并且設(shè)計(jì)、加工制造和安裝都很方便的靶式噴嘴,本實(shí)用新型提供了一種分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴。
本實(shí)用新型的橫流冷卻塔循環(huán)冷卻水用靶式噴嘴,其特征是,在導(dǎo)流環(huán)(2)與濺水花盤接管(7)之間增加一管接頭(5),管接頭(5)與導(dǎo)流環(huán)(2)和濺水花盤接管(7)之間采用螺紋聯(lián)接,濺水花盤(8)直接連在濺水花盤接管(7)的下部,為使導(dǎo)流環(huán)(2)的高度成為可調(diào),在導(dǎo)流環(huán)(2)與管接頭(5)之間可以安裝需要長(zhǎng)度的接管(6),同樣采用螺紋聯(lián)接,這種分體式,并且配水池池面以下部分導(dǎo)流環(huán)的高度可調(diào)的靶式噴嘴,即是分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴,見圖3、圖4、圖5。
本實(shí)用新型的分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴,最好與事先預(yù)埋在配水池底板上的靶式噴頭定位套(9)配合使用,定位套(9)為一帶定位套頂盤(10)的園筒體,定位套頂盤(10)上開有環(huán)形槽,安裝使用時(shí),將分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴置于定位套(9)內(nèi),將導(dǎo)流環(huán)上卡盤(1)鑲嵌于定位套頂盤(10)的環(huán)形槽中,導(dǎo)流環(huán)下卡盤(4)卡緊貼在定位套(9)的內(nèi)壁上即可。
在本實(shí)用新型中,由于導(dǎo)流環(huán)頂盤(1)與定位套(9)上的定位套頂盤(10)二者之間的鑲嵌以及導(dǎo)流環(huán)外壁上的導(dǎo)流環(huán)下卡盤(4)與定位套(9)內(nèi)壁之間的緊密配合,可使本實(shí)用新型的靶式噴嘴牢固地定位于配水池底板上,因此,設(shè)計(jì)制造、安裝使用都非常方便,見圖5。
在本實(shí)用新型中,用于定位靶式噴嘴的定位套(9),其頂盤部分可以作成平頂形,也可以作成園錐形等各種形狀,以便適應(yīng)各種使用要求。
此外,在本實(shí)用新型的分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴中,其接管(6)的長(zhǎng)度可以根據(jù)冷卻塔配水池底板厚度以及對(duì)噴嘴與填料之間距離的要求來確定。在實(shí)際使用中,當(dāng)配水池底板的厚度變化時(shí),只須調(diào)整接管的長(zhǎng)度就可以滿足配水池底板厚度不同的冷卻塔的需要。
本實(shí)用新型的分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴也可以和ZL93205412.9號(hào)專利的高度可調(diào)靶式噴頭相結(jié)合,從而提供一種上、下均可調(diào)的靶式噴頭,從而可同時(shí)解決因冷卻塔配水池池面水平度不均以及因池底厚度不同不能與靶式噴嘴噴水的有效高度相匹配時(shí)帶來的各種弊端。
關(guān)于本實(shí)用新型的分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴及其定位套所用的材質(zhì),一般無特殊要求,以采用工程塑料,特別是改性PVC材料為佳。
與現(xiàn)有的各種橫流冷卻塔用靶式噴頭相比,本實(shí)用新型的分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴具有如下的優(yōu)點(diǎn)1.可適應(yīng)不同厚度配水池底板對(duì)噴頭高度的需要,當(dāng)配水池底板厚度變化時(shí)。只須選用適當(dāng)長(zhǎng)度的接管就可以滿足需要。
2.可以避免因配水池底板厚度變化需要設(shè)計(jì)、加工制造出各種不同的噴嘴的必要,具有較好的經(jīng)濟(jì)效益,并且可以滿足調(diào)整噴嘴與填料層之間的距離的需要,保證冷卻水處于最理想的噴淋狀態(tài),從而保證冷卻塔的冷卻效率。
關(guān)于本實(shí)用新型的分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴經(jīng)工業(yè)化生產(chǎn)實(shí)踐驗(yàn)證,效果十分理想,適用于各種工業(yè)與民用橫流冷卻塔循環(huán)水領(lǐng)域。


圖1.靶式噴頭圖2.高度可調(diào)靶式噴頭圖3.分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴局部剖視圖其中1.導(dǎo)流環(huán)上卡盤 2.導(dǎo)流環(huán) 3.加強(qiáng)筋 4.導(dǎo)流環(huán)下卡盤 5.管接頭 7.濺水花盤接管 8.濺水花盤圖4.分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴剖視圖其中9.定位套 10.定位套頂盤圖5.帶接管的分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴局部剖視圖其中6.接管
權(quán)利要求1.一種橫流冷卻塔循環(huán)冷卻水用的靶式噴嘴,其特征在于,在導(dǎo)流環(huán)(2)與濺水花盤接管(7)之間增加一管接頭(5),管接頭(5)與導(dǎo)流環(huán)(2)和濺水花盤接管(7)之間采用螺紋聯(lián)接,濺水花盤(8)直接連在濺水花盤接管(7)的下部,為使導(dǎo)流環(huán)(2)的高度成為可調(diào),在導(dǎo)流環(huán)(2)與管接頭(5)之間可以安裝需要長(zhǎng)度的接管(6),同樣采用螺紋聯(lián)接,這種分體式,并且在配水池池面以下部分導(dǎo)流環(huán)的高度可調(diào)的靶式噴嘴,即是分體式下可調(diào)靶式噴嘴。
2.按權(quán)利要求1所述的靶式噴嘴,其特征在于,該靶式噴嘴最好與事先預(yù)埋在配水池底板上的靶式噴嘴定位套(9)配合使用,定位套(9)為一帶頂盤(10)的園筒體,頂盤(10)上開有環(huán)形槽,安裝使用時(shí),將分體式下可調(diào)靶式噴嘴置于定位套(9)內(nèi),將導(dǎo)流環(huán)上卡盤(1)鑲嵌于定位套頂盤的環(huán)形槽中,導(dǎo)流環(huán)下卡盤(4)卡貼在定位套(9)的內(nèi)壁上即可。
3.按權(quán)利要求2所述的靶式噴嘴定位套,其特征在于,定位套(9)的頂盤部分可以作成平頂形,也可以作成園錐形。
4.按權(quán)利要求1、2所述的靶式噴嘴,其特征在于,接管(9)的長(zhǎng)度可以根據(jù)冷卻塔配水池底板的厚度以及對(duì)噴嘴與填料之間距離的要求來確定。
專利摘要本實(shí)用新型屬于橫流冷卻塔循環(huán)水領(lǐng)域?,F(xiàn)有的橫流冷卻塔噴嘴的有效高度與配水池底板的厚度不相匹配,當(dāng)配水池底板的厚度大于噴嘴噴水的有效高度時(shí),會(huì)嚴(yán)重影響下泄水量,使冷卻塔達(dá)不到設(shè)計(jì)能力。本實(shí)用新型提供一種分體式下調(diào)節(jié)靶式噴嘴,它是在現(xiàn)有靶式噴頭的導(dǎo)流環(huán)與濺水花盤之間增加一接管和管接頭,并且部件之間采用螺紋聯(lián)接,可適應(yīng)底板厚度不同的配水池等的需要,設(shè)計(jì)、加工、安裝方便。適用于各種橫流冷卻塔噴嘴噴淋冷卻的需要。
文檔編號(hào)F28C1/00GK2175391SQ9324376
公開日1994年8月24日 申請(qǐng)日期1993年11月8日 優(yōu)先權(quán)日1993年11月8日
發(fā)明者楊勤祥 申請(qǐng)人:中國(guó)化學(xué)工程總公司化工冷卻塔填料廠
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