本發(fā)明涉及膠帶技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種易脫離式發(fā)泡膠帶。

背景技術(shù)：

發(fā)泡膠帶是一種由特殊粘合膠制成，在常溫下有較好的粘合力，加熱到合適的溫度后膠面膨脹粘性就會消失，用在電子零部件的臨時固定、保護(hù)，避免產(chǎn)品在加工工程中的劃傷和損害，剝離時不殘膠，不會對粘附體造成傷害。以及用于鋰電池、精巧易碎的晶片加工及其他電子產(chǎn)品保護(hù)及固定。

但是，現(xiàn)有的發(fā)泡膠帶在加熱解黏后發(fā)生的卷曲不確定，一般需要手工去除，尤其是當(dāng)發(fā)泡膠帶上涂覆有材料時，雖然加熱解黏特性仍保持，但是其發(fā)生彎曲的概率減少，更不利于自動化去除。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)缺陷，而提供一種易脫離式發(fā)泡膠帶。

為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的所采用的技術(shù)方案是：

一種易脫離式發(fā)泡膠帶，包括自上而下設(shè)置的膠帶基層、膠膜層和隔離層，在所述的發(fā)泡膠帶上形成有多個切穿所述的膠帶基層和膠膜層的切口。

所述的膠帶基層為PET層，所述的膠膜層為高分子膠水層。

所述的膠帶基層和膠膜層上下對應(yīng)并構(gòu)成矩形模切塊且間隔地貼覆在隔離層，所述的切口形成在矩形模切塊上。

所述的切口為多個橫向間隔排列的直線痕。

所述的直線痕的長度為模切區(qū)長度對應(yīng)邊長度的70％-90％。

所述的直線痕長短依次交錯間隔設(shè)置。

所述的直線痕兩兩為一組，兩組間的間距大于一組內(nèi)兩直線痕的間距。

所述的切口包括圍合呈方形的四個直線痕，相鄰直線痕間保持間隔。

所述的發(fā)泡膠帶厚度在40-65mm，所述的膠帶基層的厚度在10-30mm。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：

本發(fā)明的發(fā)泡膠帶，所述的膠帶基層為PET層，所述的膠膜層為高分子膠水層，在每塊單獨(dú)的方形模切區(qū)上設(shè)置切口，改變了膠帶基層和膠膜層的應(yīng)力，使其更容易發(fā)生卷曲，而且提高卷曲的規(guī)律性，提升卷曲度，提高膠帶脫除率，有效提高自動化生產(chǎn)設(shè)備的適應(yīng)性。

附圖說明

圖1所示為本發(fā)明的易脫離式發(fā)泡膠帶的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2所示為發(fā)泡膠帶的截面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3所示為另一種切口結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

如圖1-3所示，本發(fā)明的易脫離式發(fā)泡膠帶包括自上而下設(shè)置的膠帶基層1、膠膜層2和隔離層3，在所述的發(fā)泡膠帶上形成有多個切穿所述的膠帶基層和膠膜層的切口。所述的發(fā)泡膠帶厚度在40-65mm，所述的膠帶基層的厚度在10-30mm。

本發(fā)明的發(fā)泡膠帶，所述的膠帶基層為PET層，所述的膠膜層為高分子膠水層，其中高分子膠水層中含有高分子材料和微膠囊，如殼聚糖、丙烯酸酯、丙烯酸、丙烯腈類高分子具有易粘結(jié)、遇熱易脫膜、環(huán)?？山到獾葍?yōu)點(diǎn)。而且高分子膠水層中含有遇熱可膨脹的微膠囊，微膠囊遇熱可膨脹幾倍至幾十倍，促進(jìn)發(fā)泡膠帶整體脫離，其中，膠帶基層和膠膜層為對應(yīng)的模切矩形塊狀并黏貼在隔離層上，利用模切的方形模切區(qū)，限定了單塊大小，便于需要高精度地方的黏貼，同時在每塊單獨(dú)的方形區(qū)上設(shè)置切口，改變了膠帶基層和膠膜層的應(yīng)力，使其更容易發(fā)生卷曲，而且提高卷曲的規(guī)律性，提升卷曲度，有效提高自動化生產(chǎn)設(shè)備的適應(yīng)性。

優(yōu)選地，所述的切口為多個橫向間隔排列的的直線痕4，具體設(shè)計上，可采用多種形式，如所述的直線痕的長度為模切區(qū)長度對應(yīng)邊長度的70％-90％，或者所述的直線痕長短依次交錯設(shè)置?；蛘咚龅闹本€痕兩兩為一組，兩組間的間距大于一組內(nèi)兩直線痕的間距。

當(dāng)然，所述的切口也可采用斜向布局，即與方形區(qū)的側(cè)邊不平行或垂直的設(shè)置，同樣能起到上述效果。

作為另外一種實(shí)施方式，所述的切口包括圍合呈方形的四個直線痕5，相鄰直線痕間保持間隔。采用四角處保留間隔的方形的切口設(shè)計，使得膠膜層向中心卷曲，減少附著點(diǎn)，控制殘余的粘結(jié)力，使其便于脫離。

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。