專利名稱：用于減少去除膠帶工藝中殘留的uv曝光法的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種封裝工藝，更具體地說，涉及一種用于減少去除膠帶工藝中殘留的UV曝光法。
背景技術(shù)：
為了封裝工藝，有時(shí)會(huì)把半導(dǎo)體晶片和芯片做的很薄。為了使半導(dǎo)體晶片變薄，在半導(dǎo)體晶片前側(cè)粘附有紫外線(UV)膠帶。然后對(duì)半導(dǎo)體晶片的背面進(jìn)行背面研磨，直到該半導(dǎo)體晶片的厚度達(dá)到預(yù)期值。在研磨背面之后，使用UV光對(duì)UV膠帶進(jìn)行UV曝光，以便從半導(dǎo)體晶片上去除UV膠帶。在傳統(tǒng)的UV曝光工藝中，UV燈設(shè)置在平臺(tái)上，并且UV光線向上投射。UV燈可以是條狀的。半導(dǎo)體晶片設(shè)置在UV燈上方，并且在開始時(shí)其所在的位置不會(huì)受到UV曝光。然后半導(dǎo)體晶片在UV燈的正上方移動(dòng)，以便對(duì)UV膠帶(其面對(duì)著UV燈)進(jìn)行UV曝光。移動(dòng)方向垂直于UV燈的縱向。使半導(dǎo)體晶片繼續(xù)向前移動(dòng)，直到其不再位于UV燈的正上方。 在移動(dòng)期間，整個(gè)半導(dǎo)體晶片都受到UV光線的照射。UV曝光之后，從半導(dǎo)體晶片上去除了 UV膠帶。在UV曝光的可選方式中，將UV燈面朝上設(shè)置，并且將半導(dǎo)體晶片設(shè)置在UV燈的正上方，并且UV膠帶面向UV燈。使UV膠帶處于UV照射下達(dá)到一定時(shí)間。在曝光時(shí)，不移動(dòng)半導(dǎo)體晶片。UV曝光后，半導(dǎo)體晶片從半導(dǎo)體晶片正上方去除，并且UV膠帶從半導(dǎo)體晶片上去除。在傳統(tǒng)的去除膠帶的工藝中，會(huì)有部分UV膠帶沒有受到充足的UV曝光。結(jié)果是， 會(huì)有部分UV殘留物殘留在半導(dǎo)體晶片上。例如，半導(dǎo)體晶片邊緣的部分UV膠帶經(jīng)常會(huì)得不到充分的曝光。進(jìn)一步地，在半導(dǎo)體晶片表面會(huì)形成球柵陣列(BGA)球，并且BGA球會(huì)與 UV膠帶接觸。BGA球不具有垂直側(cè)邊，并且部分BGA球會(huì)阻擋UV光線投射到部分UV膠帶上。結(jié)果是，部分被阻擋了 UV光線的UV膠帶沒有被UV光線充分曝光。這會(huì)在去除UV膠帶之后使得仍有UV膠帶殘留在半導(dǎo)體晶片上。這些殘留的UV膠帶會(huì)導(dǎo)致隨后封裝工藝中的產(chǎn)量損失。

發(fā)明內(nèi)容
這些和其他問題通過提供用于減少去除膠帶工藝中殘留的UV曝光法的本發(fā)明的示意性實(shí)施例來整體解決或克服，并且整體上實(shí)現(xiàn)技術(shù)優(yōu)點(diǎn)。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種方法，該方法包括提供晶片以及粘附在所述晶片上的膠帶，其中所述膠帶包括垂直于第一方向的主表面；以及利用光線對(duì)所述膠帶進(jìn)行曝光以使所述膠帶失去粘附力，其中曝光所述膠帶的步驟包括選自以下組的步驟，所述組基本上包括旋轉(zhuǎn)所述晶片和所述膠帶；使所述光線傾斜地投射到所述膠帶上，其中所述光線的主投射方向和所述第一方向形成大于0°且小于90°的傾斜角；以及其組合。優(yōu)選地，所述膠帶是紫外線(UV)膠帶，并且其中所述光線是UV光線。
優(yōu)選地，所述膠帶進(jìn)行曝光的步驟包括當(dāng)所述光線對(duì)所述膠帶進(jìn)行曝光時(shí)，旋轉(zhuǎn)所述晶片和所述膠帶。優(yōu)選地，所述對(duì)所述膠帶進(jìn)行曝光的步驟包括使所述光線傾斜地投射到所述膠帶上，并且所述傾斜角小于約45°。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種方法，該方法包括將晶片固定在載物臺(tái)上，其中將紫外線(UV)膠帶粘附在所述晶片上；使所述晶片和所述膠帶沿軸線旋轉(zhuǎn)；以及當(dāng)所述晶片和所述膠帶旋轉(zhuǎn)時(shí)，利用UV光線對(duì)所述UV膠帶進(jìn)行曝光，其中所述UV光線的主投射方向和所述軸線之間形成大于0°并小于約45°的傾斜角。優(yōu)選地，所述對(duì)所述UV膠帶進(jìn)行曝光的步驟包括將所述晶片和所述UV膠帶設(shè)置在所述UV光線的一邊，并且所述UV膠帶未被所述UV光線曝光；移動(dòng)所述晶片和所述UV膠帶以使所述UV光線對(duì)所述UV膠帶進(jìn)行曝光；以及移動(dòng)所述晶片和所述UV膠帶直到所述UV 光線不對(duì)所述UV膠帶進(jìn)行曝光。優(yōu)選地，所述載物臺(tái)與傳送臂連接，并且其中在對(duì)所述膠帶進(jìn)行曝光步驟中，所述傳送臂沿移動(dòng)導(dǎo)向件移動(dòng)。優(yōu)選地，所述晶片和所述膠帶的移動(dòng)方向與所述UV膠帶的主表面之間形成所述傾斜角。優(yōu)選地，所述UV光線的主投射方向垂直于所述晶片的移動(dòng)方向。優(yōu)選地，所述晶片的移動(dòng)方向平行于所述UV膠帶的主表面，并且其中所述UV光線的主投射方向與所述軸線之間形成所述傾斜角。優(yōu)選地，在對(duì)所述UV膠帶進(jìn)行曝光的步驟中，所述晶片和所述UV膠帶未進(jìn)行水平移動(dòng)。根據(jù)本發(fā)明的又一方面，提供一種用于將粘附在晶片上的紫外線(UV)膠帶進(jìn)行曝光的裝置，所述裝置包括載物臺(tái)，所述晶片安裝在所述載物臺(tái)上，其中所述載物臺(tái)包括垂直于第一方向的主表面；以及UV燈，所述UV燈設(shè)置成沿主UV光線方向發(fā)出UV光線，其中所述裝置設(shè)置成旋轉(zhuǎn)所述載物臺(tái)，或者所述主UV光線方向和所述第一方向形成大于0° 且小于90°的傾斜角。優(yōu)選地，所述裝置進(jìn)一步包括與所述載物臺(tái)連接的傳送臂，其中所述傳送臂設(shè)置成旋轉(zhuǎn)所述載物臺(tái)。優(yōu)選地，所述裝置進(jìn)一步包括移動(dòng)導(dǎo)向件，并且所述傳送臂設(shè)置成沿所述移動(dòng)導(dǎo)向件移動(dòng)，并從所述光線的一邊移動(dòng)至相對(duì)邊。優(yōu)選地，所述傳送臂進(jìn)一步設(shè)置成，在所述傳送臂沿所述移動(dòng)導(dǎo)向件移動(dòng)的時(shí)候旋轉(zhuǎn)所述載物臺(tái)。優(yōu)選地，所述傳送臂設(shè)置成沿第二方向移動(dòng)，并且其中所述第二方向和所述載物臺(tái)的主表面之間形成所述傾斜角。優(yōu)選地，所述傳送臂設(shè)置成沿平行于所述載物臺(tái)的主表面的第二方向移動(dòng)，并且其中所述主UV光線方向和所述第一方向之間形成所述傾斜角。優(yōu)選地，所述裝置進(jìn)一步包括與所述載物臺(tái)連接的電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器，并且所述電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器設(shè)置成控制所述載物臺(tái)的旋轉(zhuǎn)。優(yōu)選地，所述傾斜角小于約45 °。


為了更徹底的理解實(shí)施例及其優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)結(jié)合附圖做出以下描述以供參考，其中圖1至圖3是根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的對(duì)紫外線(UV)膠帶進(jìn)行曝光的中間階段的橫截面圖，其中在UV曝光期間，UV膠帶旋轉(zhuǎn)并移動(dòng)；圖4描述了圖1至圖3所示過程的俯視圖；圖5至圖6分別示出了根據(jù)可選實(shí)施例的UV曝光的橫截面圖和俯視圖，其中UV 曝光期間，UV膠帶旋轉(zhuǎn)但不向前移動(dòng)；圖7是UV光線從不同角度投射到UV膠帶上的示意圖；圖8至圖10是根據(jù)可選實(shí)施例的對(duì)UV膠帶進(jìn)行曝光的中間階段的橫截面圖，其中在UV曝光期間，UV膠帶旋轉(zhuǎn)并且移動(dòng)，并且其中UV光線是傾斜的；圖11是圖8至圖10所示過程的俯視圖；以及圖12和圖13是根據(jù)可選實(shí)施例的對(duì)UV膠帶進(jìn)行曝光的中間階段的橫截面圖，其中在UV曝光期間，UV膠帶旋轉(zhuǎn)并且不向前移動(dòng)，并且其中UV光線是傾斜的。
具體實(shí)施例方式下面詳細(xì)討論本公開實(shí)施例的制造和使用。不過，應(yīng)該意識(shí)到的是，這些實(shí)施例提供了可以在多種特定環(huán)境下具體化的多種可應(yīng)用發(fā)明思想。所討論的具體實(shí)施例僅僅用于描述，而不是限定本公開的范圍。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，提出了一種對(duì)半導(dǎo)體晶片上的膠帶進(jìn)行曝光的新方法。這里討論了該實(shí)施例的不同變型。在所有的視圖和描述的實(shí)施例中，同樣的參考標(biāo)記表示相同的元件。在整個(gè)描述中，以對(duì)紫外線(UV)膠帶(其受到UV光線的照射)的去除作為示例。不過，本公開的教導(dǎo)也可用于受到不同類型光線曝光的其他類型的膠帶。圖1至圖4描述了根據(jù)一個(gè)實(shí)施例的對(duì)膠帶的曝光過程。參見圖1，描述了曝光裝置的橫截面圖。曝光裝置包括UV燈模組20和UV燈模組20中的UV燈22。UV燈22進(jìn)一步包括用于發(fā)出UV光線的UV光源24，以及用于反射UV光線的反射器26。反射器沈可以是光滑的彎曲表面，以便使反射的UV光線觀基本沿向上的方向，只有少量UV光線(如果有的話)的方向不是沿向上的方向。在整個(gè)描述中，將UV光線投射朝向的主方向稱為主 UV光線方向。在圖1所示的示例中，主UV光線方向垂直向上。UV燈22的形狀可以是條狀 (參見圖4)，并且每個(gè)UV光源M和反射器沈也是條狀。UV燈22的長度L(圖4)可以等于或大于晶片44的直徑D(圖4)。曝光裝置進(jìn)一步包括傳送臂30、與傳送臂30連接的晶片載物臺(tái)32以及可移動(dòng)導(dǎo)向件36，該可移動(dòng)導(dǎo)向件引導(dǎo)傳送臂30沿著移動(dòng)方向33移動(dòng)。在圖1所述的示例中，移動(dòng)方向33是水平方向。電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器40與傳送臂30電連接，并且其設(shè)置成控制傳送臂30 的動(dòng)作，該動(dòng)作包括傳送臂30沿可移動(dòng)導(dǎo)向件36的移動(dòng)、載物臺(tái)32的旋轉(zhuǎn)、和/或載物臺(tái) 32的傾斜。也可以通過UV燈控制器42控制UV燈22打開和關(guān)閉，和/或在需要時(shí)調(diào)節(jié)光強(qiáng)度。晶片44固定在載物臺(tái)32上(例如，利用真空)。UV膠帶48粘附在晶片44上。 在開始曝光工藝時(shí)，載物臺(tái)32和晶片44在UV燈22的一邊(例如，在圖1中的右邊)。相應(yīng)地，UV膠帶48并未被UV光線28曝光。使載物臺(tái)32、晶片44和UV膠帶48相對(duì)水平方向傾斜，并且使水平面49 (其與載物臺(tái)32的移動(dòng)方向33平行)與載物臺(tái)32、晶片44和UV 膠帶48的主表面32a/44a/48a之間具有傾斜角a。換句話說，直線50 (其垂直于主表面 32a/44a/48a)與主UV光線方向之間形成了傾斜角a。在一個(gè)實(shí)施例中，傾斜角α大于 0°并小于90°。在另一個(gè)實(shí)施例中，傾斜角α大于0°并小于45°，并且可以在約10° 至約45°之間。電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器40可以進(jìn)一步控制傳送臂30以旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)32和附接其上的晶片44。雖然可以使用不同的轉(zhuǎn)速，不過旋轉(zhuǎn)速度的范圍可以在約10轉(zhuǎn)每分鐘(RPM) 至約2000RPM之間。直線50表示旋轉(zhuǎn)軸，該軸線垂直于主表面32a/44a/48a?？蛇x擇地，也可以使用與主UV光線方向平行的垂直線作為旋轉(zhuǎn)軸。參見圖2和圖3，傳送臂30沿移動(dòng)導(dǎo)向件36向左邊移動(dòng)，其中移動(dòng)方向如箭頭33 所示。在移動(dòng)期間，載物臺(tái)32、晶片44和UV膠帶48繼續(xù)旋轉(zhuǎn)。如圖2所示，當(dāng)UV膠帶48 進(jìn)入U(xiǎn)V光線28的范圍內(nèi)時(shí)，UV膠帶48以一種傾斜的方式被UV光線觀曝光。圖7描述了一種傾斜曝光的示例。正如示例UV光線28所示出的，由于UV膠帶48的旋轉(zhuǎn)，UV光線28 從多個(gè)方向投射到UV膠帶48上。因此，球柵矩陣(BGA)球54(其在晶片44的表面形成) 不會(huì)遮擋UV光線觀，并且UV膠帶48可充分曝光并失去粘附力。正如圖3所示，隨著傳送臂30繼續(xù)移動(dòng)，晶片44和UV膠帶48最終移出UV光線 28的投射范圍，UV光線曝光步驟結(jié)束。實(shí)質(zhì)上在整個(gè)移動(dòng)和整個(gè)曝光過程中，晶片44和UV 膠帶48均可旋轉(zhuǎn)。就可將UV膠帶48從晶片44上去除。由于這種無遮擋曝光，基本上沒有膠帶殘留在晶片44上。圖4描述了 UV光線曝光過程的俯視圖，其中UV燈22右邊的晶片44和膠帶48表示晶片44和膠帶48開始移動(dòng)之前的位置，UV燈22左邊的晶片44和膠帶48表示晶片44 和膠帶48結(jié)束移動(dòng)之后的位置。圖5和圖6表示根據(jù)一個(gè)可選實(shí)施例對(duì)UV膠帶48的曝光。除非另外說明，在本實(shí)施例以及隨后討論的實(shí)施例中參考標(biāo)號(hào)表示圖1至圖4中所示實(shí)施例中相似的元件。參見圖5，UV燈22在UV燈模組20中，并且UV光線28向上投射。載物臺(tái)32、晶片44和UV膠帶48設(shè)置在UV燈22上方，并且處于UV光線觀中。再者，載物臺(tái)32、晶片44和UV膠帶 48與水平面35形成傾斜角α，其中水平面35垂直于UV光線觀的主UV光線方向。與圖 1至圖4中所示的實(shí)施例不同，載物臺(tái)32、晶片44和UV膠帶48不水平移動(dòng)，并且通過傳送臂30旋轉(zhuǎn)(例如，圍繞軸線50或垂直線49)。在整個(gè)UV曝光過程中，載物臺(tái)32、晶片44 和UV膠帶48可進(jìn)行一次或多次旋轉(zhuǎn)。在UV膠帶48在UV光線28中曝光一定時(shí)間之后， 結(jié)束UV曝光步驟。UV膠帶48可以從晶片44上去除。也可以用圖7表示UV光線觀的投射，其示出了由于晶片44和膠帶48的旋轉(zhuǎn)，UV光線觀從不同角度投射到UV膠帶48上。 圖6示出了圖5所示實(shí)施例的俯視圖。圖8至圖10示出了根據(jù)另一實(shí)施例的膠帶48的曝光。在這些實(shí)施例中，UV光線觀仍然是以傾斜角α傾斜地投射到UV膠帶48上。不過，這種傾斜曝光是通過使UV光線 28的主UV光線方向傾斜而得到。載物臺(tái)32的主表面32a、晶片44的主表面4 和UV膠帶48的主表面48a分別平行于移動(dòng)方向33，該移動(dòng)方向可以是水平方向。在曝光過程中， 載物臺(tái)32、晶片44和UV膠帶48也是旋轉(zhuǎn)的。直線50表示旋轉(zhuǎn)軸線。兩根軸線50，其中一根穿過所示晶片40的中心，另一根位于UV燈22正上方，其中直線50表示晶片44的旋轉(zhuǎn)軸，膠帶48移動(dòng)至UV燈22的正上方?？梢园l(fā)現(xiàn)，UV光線28的主UV光線方向和軸線50 形成傾斜角α，該角基本上與圖1至圖4所示實(shí)施例中的傾斜角α的值相同。參見圖8，傳動(dòng)臂30和晶片44從UV燈22的一邊開始移動(dòng)，并且朝向相對(duì)的一邊移動(dòng)。開始時(shí)，UV膠帶48沒有被UV光線觀曝光。在整個(gè)曝光步驟以及傳動(dòng)臂30的整個(gè)移動(dòng)期間，載物臺(tái)32、晶片44和UV膠帶48都圍繞軸線50旋轉(zhuǎn)。傳動(dòng)臂30的移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)由電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器40控制。雖然可以使用不同的旋轉(zhuǎn)速度，旋轉(zhuǎn)速度可與圖1至圖4所示實(shí)施例中所述的速度范圍相同。參見圖9至圖10，傳動(dòng)臂30沿移動(dòng)導(dǎo)向件36向前移動(dòng)(例如，向左移動(dòng))，直到其最終移出UV光線觀的投射范圍。在移動(dòng)期間，載物臺(tái)32、晶片44和UV膠帶48可以一直保持旋轉(zhuǎn)。如圖9所示，當(dāng)UV膠帶48進(jìn)入U(xiǎn)V光線28的范圍，UV光線28以一種傾斜的方式對(duì)UV膠帶48進(jìn)行曝光。此外，可用圖7示出這種傾斜曝光，其示出了由于旋轉(zhuǎn)和UV 光線28的主UV光線方向的傾斜，UV光線28從多個(gè)方向投射到UV膠帶48上。如圖10所示，由于傳送臂30的移動(dòng)，晶片44和UV膠帶48移出UV光線28的投射范圍，UV曝光步驟結(jié)束。在整個(gè)移動(dòng)期間，晶片44和膠帶48可以旋轉(zhuǎn)。就可以將UV膠帶48從晶片44上去除。由于這種無遮蓋曝光，基本沒有膠帶殘留在晶片44上。圖11描述了圖8至圖10所示UV曝光過程的俯視圖。圖12和13示出了根據(jù)又一實(shí)施例的對(duì)UV膠帶48進(jìn)行曝光的過程。在這些實(shí)施例中，UV光線觀仍然是以傾斜角α傾斜地投射到UV膠帶48上，并且在整個(gè)曝光過程中 UV膠帶48不水平移動(dòng)。不過，也可以通過傾斜UV光線28的主UV光線方向得到這種傾斜曝光。參見圖12，UV燈22設(shè)置在UV燈模組20中，并且傾斜地投射出UV光線28。UV光線洲的主UV光線方向51與旋轉(zhuǎn)軸線50形成了傾斜角a。進(jìn)一步，軸線50可平行于垂直方向，并且分別平行于載物臺(tái)32的主表面32a、晶片44的主表面4 和UV膠帶48的主表面 48a。載物臺(tái)32、晶片44和UV膠帶48設(shè)置在UV燈22的上方，并且受到UV光線28的曝光。在整個(gè)UV曝光過程中，載物臺(tái)32、晶片44和UV膠帶48可進(jìn)行一次或多次旋轉(zhuǎn)。UV 光線觀對(duì)UV膠帶48曝光預(yù)期時(shí)間之后，UV曝光步驟結(jié)束。接著將UV膠帶48從晶片44 上去除。也可以用圖7表示UV光線觀的投射，其示出了 UV光線觀從多個(gè)角度投射到UV 膠帶48上。圖13描述了圖12所示實(shí)施例的俯視圖。在以上討論的實(shí)施例中，使UV燈22和UV膠帶48之一傾斜從而得到傾斜曝光。在可選實(shí)施例中，可以使UV燈22和UV膠帶48都傾斜，并且UV光線28和UV膠帶48之間相對(duì)的角度決定了 UV光線28和UV膠帶48的主表面之間的傾斜角。在背部研磨步驟(未示出)中使晶片44變薄之后，可以使用曝光裝置執(zhí)行曝光步驟，在變薄過程中，UV膠帶48貼在晶片44的前部，而研磨晶片44的背面?？梢园褕D1至圖13所述的曝光裝置與執(zhí)行背面研磨的裝置(未示出)形成為一體?？蛇x地，圖1至圖13 所述的曝光裝置是與執(zhí)行背面研磨的裝置(未示出)物理上相互獨(dú)立的設(shè)備。根據(jù)實(shí)施例，形成集成電路的方法包括提供晶片，其中晶片上粘附有膠帶，其中膠帶的主表面垂直于一個(gè)方向。在光線中曝光膠帶以使膠帶失去粘附力。在曝光膠帶的步驟中，晶片和膠帶旋轉(zhuǎn)，和/或光線傾斜地投射到膠帶上，其中光線的主投射方向和所述方向之間形成大于0°并小于90°的傾斜角。根據(jù)其他實(shí)施例，一種方法包括將晶片安裝到載物臺(tái)上，其中將UV膠帶粘附在晶片上，使晶片和膠帶圍繞軸線旋轉(zhuǎn)，并且當(dāng)晶片和膠帶旋轉(zhuǎn)時(shí)，在UV光線下曝光UV膠帶。 在UV膠帶曝光期間，UV光線的主投射方向和所述軸線之間形成大于0°并小于45°的傾斜角。根據(jù)又一實(shí)施例，提供了一種對(duì)粘附在晶片上的UV膠帶進(jìn)行曝光的裝置。該裝置包括載物臺(tái)，其上固定有晶片，其中載物臺(tái)具有垂直于第一方向的主表面。UV燈設(shè)置成能夠沿主UV光線方向發(fā)射UV光線，其中將該裝置設(shè)置成能夠旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)，或主UV光線方向和第一方向之間形成大于0°并小于90°的傾斜角。雖然，已經(jīng)詳細(xì)地描述了這些實(shí)施例及其優(yōu)點(diǎn)，應(yīng)該理解的是，在這里，可以做出各種變化、置換、和變換而不背離隨附的權(quán)利要求確定的實(shí)施例的精神和范圍。而且本申請(qǐng)的范圍并不限定于說明書中描述的工藝、器件、制造以及物質(zhì)的構(gòu)成、設(shè)備、方法和步驟的特定實(shí)施例。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠容易從本發(fā)明中理解的，根據(jù)本發(fā)明可以利用與這里所描述的相應(yīng)實(shí)施方式發(fā)揮基本相同的功能或達(dá)到基本相同的結(jié)果的現(xiàn)有或以后開發(fā)的工藝、器件、制造以及物質(zhì)的構(gòu)成、設(shè)備、方法和步驟。相應(yīng)地，所附的權(quán)利要求在它們的范圍內(nèi)包括這些工藝、器件、制造以及物質(zhì)的構(gòu)成、設(shè)備、方法和步驟。此外，每項(xiàng)權(quán)利要求構(gòu)成一個(gè)獨(dú)立的實(shí)施例，各個(gè)權(quán)利要求和實(shí)施例的組合包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種方法，包括提供晶片以及粘附在所述晶片上的膠帶，其中所述膠帶包括垂直于第一方向的主表面；以及利用光線對(duì)所述膠帶進(jìn)行曝光以使所述膠帶失去粘附力，其中曝光所述膠帶的步驟包括選自以下組的步驟，所述組基本上包括旋轉(zhuǎn)所述晶片和所述膠帶；使所述光線傾斜地投射到所述膠帶上，其中所述光線的主投射方向和所述第一方向形成大于0°且小于90° 的傾斜角；以及其組合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述膠帶是紫外線(UV)膠帶，并且其中所述光線是UV光線，其中所述對(duì)膠帶進(jìn)行曝光的步驟包括當(dāng)所述光線對(duì)所述膠帶進(jìn)行曝光時(shí)，旋轉(zhuǎn)所述晶片和所述膠帶，或者所述對(duì)所述膠帶進(jìn)行曝光的步驟包括使所述光線傾斜地投射到所述膠帶上，并且所述傾斜角小于約45°。
3.一種方法，包括將晶片固定在載物臺(tái)上，其中將紫外線(UV)膠帶粘附在所述晶片上；使所述晶片和所述膠帶沿軸線旋轉(zhuǎn)；以及當(dāng)所述晶片和所述膠帶旋轉(zhuǎn)時(shí)，利用UV光線對(duì)所述UV膠帶進(jìn)行曝光，其中所述UV光線的主投射方向和所述軸線之間形成大于0°并小于約45°的傾斜角。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中所述對(duì)所述UV膠帶進(jìn)行曝光的步驟包括將所述晶片和所述UV膠帶設(shè)置在所述UV光線的一邊，并且所述UV膠帶未被所述UV 光線曝光；移動(dòng)所述晶片和所述UV膠帶以使所述UV光線對(duì)所述UV膠帶進(jìn)行曝光；以及移動(dòng)所述晶片和所述UV膠帶直到所述UV光線不對(duì)所述UV膠帶進(jìn)行曝光，其中所述載物臺(tái)與傳送臂連接，并且其中在對(duì)所述膠帶進(jìn)行曝光步驟中，所述傳送臂沿移動(dòng)導(dǎo)向件移動(dòng)，其中所述晶片和所述膠帶的移動(dòng)方向與所述UV膠帶的主表面之間形成所述傾斜角，其中所述UV光線的主投射方向垂直于所述晶片的移動(dòng)方向。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述晶片的移動(dòng)方向平行于所述UV膠帶的主表面，并且其中所述UV光線的主投射方向與所述軸線之間形成所述傾斜角。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中在對(duì)所述UV膠帶進(jìn)行曝光的步驟中，所述晶片和所述UV膠帶未進(jìn)行水平移動(dòng)，其中所述傾斜角在約10°至約45°之間。
7.一種用于將粘附在晶片上的紫外線(UV)膠帶進(jìn)行曝光的裝置，所述裝置包括載物臺(tái)，所述晶片安裝在所述載物臺(tái)上，其中所述載物臺(tái)包括垂直于第一方向的主表面；以及UV燈，所述UV燈設(shè)置成沿主UV光線方向發(fā)出UV光線，其中所述裝置設(shè)置成旋轉(zhuǎn)所述載物臺(tái)，或者所述主UV光線方向和所述第一方向形成大于0°且小于90°的傾斜角。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中所述裝置進(jìn)一步包括與所述載物臺(tái)連接的傳送臂，其中所述傳送臂設(shè)置成旋轉(zhuǎn)所述載物臺(tái)，其中所述裝置進(jìn)一步包括移動(dòng)導(dǎo)向件，并且所述傳送臂設(shè)置成沿所述移動(dòng)導(dǎo)向件移動(dòng)，并從所述光線的一邊移動(dòng)至相對(duì)邊，其中所述傳送臂進(jìn)一步設(shè)置成，在所述傳送臂沿所述移動(dòng)導(dǎo)向件移動(dòng)的時(shí)候旋轉(zhuǎn)所述載物臺(tái)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中所述傳送臂設(shè)置成沿第二方向移動(dòng)，并且其中所述第二方向和所述載物臺(tái)的主表面之間形成所述傾斜角。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中所述傳送臂設(shè)置成沿平行于所述載物臺(tái)的主表面的第二方向移動(dòng)，并且其中所述主UV光線方向和所述第一方向之間形成所述傾斜角，其中所述裝置進(jìn)一步包括與所述載物臺(tái)連接的電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器，并且所述電機(jī)驅(qū)動(dòng)控制器設(shè)置成控制所述載物臺(tái)的旋轉(zhuǎn)，其中所述傾斜角小于約45°。
全文摘要
本發(fā)明公開一種形成集成電路的方法，包括提供晶片以及粘附在晶片上的膠帶，其中膠帶具有垂直于第一方向的主表面。使用光線對(duì)膠帶進(jìn)行曝光以使其失去粘附力。在對(duì)膠帶進(jìn)行曝光的步驟中，旋轉(zhuǎn)晶片和膠帶，和/或使光線傾斜地投射到膠帶上，其中光線的主投射方向和第一方向之間形成大于0°并小于90°的傾斜角。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102456563SQ20111016853
公開日2012年5月16日 申請(qǐng)日期2011年6月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月19日
發(fā)明者劉重希, 盧禎發(fā), 胡毓祥 申請(qǐng)人:臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司