一種玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及有機玻璃生產(chǎn)應用技術領域，尤其是一種玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝。
【背景技術】
[0002]玻璃、亞克力，又稱為有機玻璃。
[0003]有機玻璃(Polymethyl methacrylate)是一種通俗的名稱，縮寫為PMMA。此高分子透明材料的化學名稱叫聚甲基丙烯酸甲酯，是由甲基丙烯酸甲酯聚合而成的高分子化合物。是一種開發(fā)較早的重要熱塑性塑料。有機玻璃分為無色透明，有色透明，珠光，壓花有機玻璃四種。有機玻璃俗稱亞克力、中宣壓克力、亞格力，有機玻璃具有較好的透明性、化學穩(wěn)定性，力學性能和耐候性，易染色，易加工，外觀優(yōu)美等優(yōu)點。
[0004]現(xiàn)有技術中沒有一種生產(chǎn)工藝可以實現(xiàn)簡單，方便的操作，彌補現(xiàn)有技術的不足，就要在玻璃，亞克力有機玻璃上進行創(chuàng)新。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]現(xiàn)有技術難以人們的需要，為了解決上述存在的問題，本發(fā)明提出了一種玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝。
[0006]為實現(xiàn)該技術目的，本發(fā)明采用的技術方案是:一種玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝，包括以下步驟:
步驟一，素材選擇及潔凈處理；
步驟二，底膜靜電噴涂處理；
步驟三，氣體、高精油高壓分布于玻璃、亞克力表面；
步驟四，真空鍍膜機表面膜層處理；
步驟五，紫外線固化；
其中在所述的步驟一中，選擇玻璃、亞克力透明材料為素材，且表面高潔凈化清潔表面，并進行表面靜電處理；
其中在所述的步驟二中，底膜靜電噴涂處理，采用紅外線流平，紫外線380-850mj/光固結(jié)效，且進行二次表面增透，膜基數(shù)為28微粒；
在所述的步驟三中，高潔凈氣體、高精油水分離處理器，特殊器具組合，高壓分布水珠玻璃及亞克力表面；
在所述的步驟四中，真空鍍膜機，高壓物理反應納米分子結(jié)構覆著表面膜層；
在所述的步驟五中，紫外線固化處理。
[0007]作為本發(fā)明的進一步技術方案:在所述的步驟一中:采用超聲波、紅外線并晾干的工藝進行表面清潔處理。
[0008]作為本發(fā)明的進一步技術方案:在所述的步驟四中，真空鍍膜機為4_6Mpa的真空鍍膜機。
[0009]與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明具有以下有益效果:該玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝，整體工藝簡單，易于實現(xiàn)，效率高。
【附圖說明】
[0010]圖1為本發(fā)明的工藝流程圖。
【具體實施方式】
[0011]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0012]請參閱說明書附圖1，在本發(fā)明實施例中，一種玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝，包括以下步驟:
步驟一，素材選擇及潔凈處理；
步驟二，底膜靜電噴涂處理；
步驟三，氣體、高精油高壓分布于玻璃、亞克力表面；
步驟四，真空鍍膜機表面膜層處理；
步驟五，紫外線固化；
其中在所述的步驟一中，選擇玻璃、亞克力透明材料為素材，且表面高潔凈化清潔表面，并進行表面靜電處理；
其中在所述的步驟二中，底膜靜電噴涂處理，采用紅外線流平，紫外線380-850mj/光固結(jié)效，且進行二次表面增透，膜基數(shù)為28微粒；
在所述的步驟三中，高潔凈氣體、高精油水分離處理器，特殊器具組合，高壓分布水珠玻璃及亞克力表面；
在所述的步驟四中，真空鍍膜機，高壓物理反應納米分子結(jié)構覆著表面膜層；
在所述的步驟五中，紫外線固化處理。
[0013]作為本發(fā)明的進一步技術方案:在所述的步驟一中:采用超聲波、紅外線并晾干的工藝進行表面清潔處理。
[0014]作為本發(fā)明的進一步技術方案:在所述的步驟四中，真空鍍膜機為4_6Mpa的真空鍍膜機。
[0015]以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實施例，并不用以限制本發(fā)明，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術實質(zhì)對以上實施例所作的任何細微修改、等同替換和改進，均應包含在本發(fā)明技術方案的保護范圍之內(nèi)。
【主權項】
1.一種玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝，包括以下步驟: 步驟一，素材選擇及潔凈處理； 步驟二，底膜靜電噴涂處理； 步驟三，氣體、高精油高壓分布于玻璃、亞克力表面； 步驟四，真空鍍膜機表面膜層處理； 步驟五，紫外線固化； 51.其中在所述的步驟一中，選擇玻璃、亞克力透明材料為素材，且表面高潔凈化清潔表面，并進行表面靜電處理； 52.其中在所述的步驟二中，底膜靜電噴涂處理，采用紅外線流平，紫外線380-850mj/光固結(jié)效，且進行二次表面增透，膜基數(shù)為28微粒； 53.在所述的步驟三中，高潔凈氣體、高精油水分離處理器，特殊器具組合，高壓分布水珠玻璃及亞克力表面； 54.在所述的步驟四中，真空鍍膜機，高壓物理反應納米分子結(jié)構覆著表面膜層； 55.在所述的步驟五中，紫外線固化處理。2.根據(jù)權利要求1所述的一種玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝，其特征是:在所述的步驟一中:采用超聲波、紅外線并晾干的工藝進行表面清潔處理。3.根據(jù)權利要求1所述的一種玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝，其特征是:在所述的步驟四中，真空鍍膜機為4-6Mpa的真空鍍膜機。
【專利摘要】<b>本發(fā)明公開了</b>一種玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝，包括以下步驟：步驟一，素材選擇及潔凈處理；步驟二，底膜靜電噴涂處理；步驟三，氣體、高精油高壓分布于玻璃、亞克力表面；步驟四，真空鍍膜機表面膜層處理；步驟五，紫外線固化；其中在所述的步驟一中，選擇玻璃、亞克力透明材料為素材，且表面高潔凈化清潔表面，并進行表面靜電處理；其中在所述的步驟二中，底膜靜電噴涂處理，采用紅外線流平，紫外線380-850mj/光固結(jié)效，且進行二次表面增透，膜基數(shù)為28微粒；<b>該</b>玻璃、亞克力生產(chǎn)工藝，整體工藝簡單，易于實現(xiàn)，效率高。
【IPC分類】C08J7/04, C08J7/00, C08J3/28
【公開號】CN105418951
【申請?zhí)枴緾N201510899332
【發(fā)明人】呂潛鋒
【申請人】呂潛鋒
【公開日】2016年3月23日
【申請日】2015年12月9日