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多晶硅的除鐵方法

文檔序號:3447035閱讀:1311來源:國知局
專利名稱:多晶硅的除鐵方法
技術(shù)領域
本發(fā)明屬于多晶硅技術(shù)領域,特別是提供了一種多晶硅的除鐵方法,實現(xiàn)了工藝簡單、成本低、污染少。
背景技術(shù)
隨著地球上化石能源儲量的急劇減少,環(huán)境問題日趨嚴峻,人類積極發(fā)展既環(huán)保 又可再生的新型能源。目前,已經(jīng)進入人類生活中的可再生能源有太陽能、風能等,其中太 陽能是人類最重視的一種,這種情況在發(fā)達國家能夠很好的體現(xiàn)。多晶硅是制備硅太陽能 電池、各種硅分立器件和各種硅集成電路的基本原料,是發(fā)展太陽能產(chǎn)業(yè)和信息微電子產(chǎn) 業(yè)的戰(zhàn)略物資。金屬硅中含有大量的金屬雜質(zhì)和非金屬雜質(zhì),這些雜質(zhì)嚴重影響了太陽能 電池的效率,不能滿足太陽能電池行業(yè)所需硅原料的要求,需要將1N-2N的工業(yè)多晶硅提 純到6N-7N的太陽能多晶硅和9N-12N電子級的多晶硅?,F(xiàn)有對金屬硅的提純方法有物理 法和化學方法兩類。物理法是采用濕法冶金法、定向凝固、區(qū)域提純和直拉單晶等方法進行 有效分離提純的方法,物理法不改變硅的成分。濕法冶金法可以在常溫下進行,運行成本 低,設備簡單、處理量大,缺點是處理過程中需要使用大量腐蝕性酸,特別是氫氟酸,且還需 要通過和別的物理法結(jié)合才能生產(chǎn)出合格的太陽能級硅材料。化學方法有西門子法、改良 西門子法和硅烷法等。西門子法是將Si和HCl反應生成SiHCl3,將SiHCl3反復蒸餾提純 后通氫氣還原出高純硅。改進西門子法是將西門子法的副產(chǎn)品SiCl4回收。硅烷法是將硅 通過化學反應生成SiH4,然后再將SiH4分解為高純硅。這些化學方法是通過硅成分的變化 過程而有效去除硅中金屬、硼和磷等各種雜質(zhì)的,但是成本高、耗電大、設備復雜、還存在污 染和爆炸的危險。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種多晶硅的除鐵方法,解決了現(xiàn)有太陽能級多晶硅提純 工藝中鐵去除難,工藝流程長,污染大的缺陷,實現(xiàn)了工藝簡單、提純效果好、且成本較低。 本發(fā)明利用冶金原理,通過一種簡單的方法來提純多晶硅,減少廢酸的排放,同時還能除去 多晶硅中其他金屬雜質(zhì),達到降低成本的目的,滿足了低成本生產(chǎn)太陽能多晶硅的需要。為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明包括以下步驟1)將多晶硅塊粉碎,球磨,篩選得硅粉;2)將硅粉用有機溶劑去油處理;3)將去油后的硅粉放在酸中浸泡,浸泡時間為1-48小時,再清洗烘干。其中第一步所述的多晶硅經(jīng)粉碎,球磨,篩選的硅粉粒度為在50-350目。所述的 去油處理可先采用有機溶劑甲苯或三氯乙烯等去油處理后,再依次用丙酮或乙醇進行處 理,最后清水洗滌至少3遍。第三步酸中浸泡(也稱作酸洗)所采用的酸可以是鹽酸、硫酸、氫氟酸或王水中 的一種或多種,通過酸洗可以除去硅粉中的鐵等金屬雜質(zhì)。在酸洗過程中的溫度最好為20-150°C,酸洗時間最好為l_48h,酸洗過程重復進行1-3次,酸洗可以是在靜置、攪拌、振 蕩或超聲的條件下進行,酸洗過程中需要加入Fe、Ti3+、S032_等還原劑。酸浸泡后的硅粉,可 采用冷熱去離子水反復沖洗至中性,并在40-80°C烘干。本發(fā)明的優(yōu)點是工藝和目前通用的后續(xù)提純工藝完全兼容,與傳統(tǒng)濕法冶金方法 相比,減少強腐蝕性污染和硅損失。本發(fā)明的有益效果為可得到Fe含量低于IOOppm的多 晶硅原料,在溫和條件下完成提純,操作簡單、成本較低,能夠很好地實現(xiàn)低成本生產(chǎn)出滿 足太陽能多晶硅的要求。
具體實施例方式實施例1:將含鐵16096ppm的多晶硅塊粉碎,球磨,篩選得直徑為350目的硅粉,將硅粉依次 用有機溶劑三氯乙烯、丙酮和乙醇去油處理,并用冷熱去離子水沖洗。將去油后的硅粉放入 2M的鹽酸中,加入適量Fe粉做還原劑,超聲波中進行處理,酸浸時間為4h,溫度為60°C,經(jīng) 過酸洗后的硅粉,用去離子水反復清洗至流出的水顯中性為止,再將硅粉在60°C下干燥,得 到鐵含量為132ppm的硅粉。實施例2:將含鐵16096ppm的多晶硅塊粉碎,球磨,篩選得直徑為250目的硅粉,將硅粉依次 用有機溶劑甲苯、丙酮和乙醇去油處理,并用冷熱去離子水沖洗。將去油后的硅粉放入H+為 2M的王水中,加入適量Ti2 (SO4)3作還原劑,酸浸時間為8h,溫度為50°C,進行攪拌浸取,經(jīng) 過酸洗后的硅粉,用去離子水反復清洗至流出的水顯中性為止,再將硅粉在50°C下真空干 燥,得到鐵含量為98ppm的硅粉。實施例3:將含鐵9287ppm的多晶硅塊粉碎,球磨,篩選得直徑為150目的硅粉,將硅粉依次 用有機溶劑三氯乙烯、丙酮和乙醇去油處理,并用冷熱去離子水沖洗。將去油后的硅粉放入 2M的硫酸中,加入適量Na2SOJt還原劑,酸浸時間為12h,溫度為50°C,進行振蕩浸取,經(jīng)過 酸洗后的硅粉,用去離子水反復清洗至流出的水顯中性為止,再將硅粉在80°C下真空干燥, 得到鐵含量為76ppm的硅粉。實施例4:將含鐵9287ppm的多晶硅塊粉碎,球磨,篩選得直徑為50目的硅粉,將硅粉依次用 有機溶劑甲苯、丙酮和乙醇去油處理,并用冷熱去離子水沖洗。將去油后的硅粉放入H+為 2M的鹽酸和硝酸混酸中,鹽酸和硝酸的體積比為3 1,并加入適量Ti2(SO4)3作還原劑,酸 浸時間為24h,溫度為60°C,在超聲條件下進行浸取。經(jīng)過混酸浸取后的硅粉,再用0. 2M氫 氟酸在120°C靜置浸取48h,經(jīng)過兩步酸洗后的硅粉,用去離子水反復清洗至流出的水顯中 性為止,再將硅粉在70°C下真空干燥,得到鐵含量為55ppm的硅粉。
權(quán)利要求
一種多晶硅的除鐵方法,其特征在于,包括以下步驟1)將多晶硅粉碎,球磨,篩選得硅粉;2)將硅粉用有機溶劑去油處理;3)將硅粉放在酸中浸泡1-48h,再清洗、烘干。
2.如權(quán)利要求1所述的多晶硅除鐵方法,其特征在于,將多晶硅粉碎,球磨,篩選后的 硅粉粒徑為50-350目。
3.如權(quán)利要求1所述的多晶硅的除鐵方法,其特征在于,所述的去油處理是先采用有 機溶劑甲苯或三氯乙烯去油處理后,再依次用丙酮和乙醇進行處理,最后用水清洗干凈。
4.如權(quán)利要求1所述的多晶硅除鐵方法,其特征在于,所述酸中浸泡采用的酸為鹽酸、 硫酸、硝酸、王水、氫氟酸中的一種或多種,酸的濃度為0. 1-6M,酸的浸泡溫度為20-150°C, 浸泡過程重復進行1-3次。
5.如權(quán)利要求1所述的多晶硅除鐵方法,其特征在于,酸中浸泡過程中需要加入還原 劑 Fe、Ti3+、SO:中的一種。
6.如權(quán)利要求1所述的多晶硅除鐵方法,其特征在于,酸中浸泡過程是在靜置、攪拌、 振蕩、超聲中的任意一種條件下進行的。
7.如權(quán)利要求1所述的多晶硅除鐵方法,其特征在于,清洗采用冷熱去離子水反復沖 洗至中性,并在40-80°C烘干。
全文摘要
一種多晶硅的除鐵方法,屬于多晶硅技術(shù)領域。包括的步驟為將多晶硅粉碎,球磨,篩選得硅粉;將硅粉用有機溶劑去油處理;將硅粉放在酸中浸泡1-48h,再清洗、烘干;酸洗過程中需要加入如Fe、Ti3+、SO32-等還原劑。優(yōu)點在于,實現(xiàn)了簡單、成本低、污染少、工藝安全??傻玫紽e含量低于100ppm的多晶硅原料,在溫和條件下完成提純,操作簡單、成本較低,能夠很好地實現(xiàn)低成本生產(chǎn)出滿足太陽能多晶硅的要求。
文檔編號C01B33/037GK101823717SQ20101014270
公開日2010年9月8日 申請日期2010年4月7日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月7日
發(fā)明者余志輝, 曲景奎, 王麗娜, 齊濤 申請人:中國科學院過程工程研究所
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